1-(4-Methoxyphenyl)-3,3-dimethyl-2-(4-methyl-1,4-oxathian-4-yl)butan-1-one

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 1-(4-Methoxyphenyl)-3,3-dimethyl-2-(4-methyl-1,4-oxathian-4-yl)butan-1-one
• 英文别名: 1-(4-methoxyphenyl)-3,3-dimethyl-2-(4-methyl-1,4-oxathian-4-yl)butan-1-one
• 化学式: C₁₈H₂₈O₃S
• 分子量: 324.5
• InChiKey: PLOSMLNNPJGVPA-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  22
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.61
• 拓扑面积：
  36.5
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

文献信息

• ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP3521926A1

  公开（公告）日：2019-08-07

  Provided is an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin including a repeating unit (a) represented by Formula (1); (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) an organic solvent. A concentration of solid contents of the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition is 4 mass% or less. (in the formula, R11 and R12 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group. R13 represents a hydrogen atom, a halogen atom, or a monovalent organic group or is a single bond or an alkylene group, and is bonded to L or Ar in the formula to form a ring. L represents a single bond or a divalent linking group. Ar represents an aromatic ring group. n represents an integer of 2 or more.)

  本发明提供了一种对辐射线敏感或辐射敏感的树脂组合物，其中包括：(A) 包含由式 (1) 表示的重复单元 (a) 的树脂；(B) 通过辐射线或辐射照射生成酸的化合物；以及 (C) 有机溶剂。放 射线敏感或辐射敏感树脂组合物的固体含量浓度为 4 质量%或以下。(式中：R11 和 R12 各自独立地代表氢原子、卤素原子或一价有机基团。R13 代表氢原子、卤素原子或一价有机基团，或者是单键或亚烷基，并与式中的 L 或 Ar 键合形成环。L 代表单键或二价连接基团。Ar 代表芳香环基团。n 代表 2 或 2 以上的整数)。
• [EN] PATTERN FORMING METHOD, COMPOUND USED THEREIN, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIFS, COMPOSÉ UTILISÉ DANS CE PROCÉDÉ, COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE, ET DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2014119698A1

  公开（公告）日：2014-08-07

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin having a group capable of decomposing by an action of an acid to produce a polar group, (C1) a compound containing a group capable of generating a first acidic functional group upon irradiation with an actinic ray or radiation and a group capable of generating a second acidic functional group different from the first acidic functional group upon irradiation with an actinic ray or radiation, and (C2) at least one compound containing two or more groups selected from the group consisting of the groups capable of generating the structures represented by the specific formulae upon irradiation with an actinic ray or radiation.
• [EN] ACTINIC LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UNE LUMIÈRE OU À UN RAYONNEMENT ACTINIQUE, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び、電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2020137921A1

  公开（公告）日：2020-07-02

  本発明は、特定の一般式（１）で表される化合物及び特定の一般式（２）で表される化合物の少なくとも一つである化合物（Ｐ）を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、上記化合物（Ｐ）の含有量が、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の全質量に対して、１ｐｐｍ以上１０００ｐｐｍ以下であり、上記化合物（Ｐ）の分子量が５００以下である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法を提供する。
• [EN] ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTIVE LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM, PATTERN-FORMING METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE<br/>[JA] 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2020202944A1

  公开（公告）日：2020-10-08

  厚膜の感活性光線性感放射線性膜から断面形状のアスペクト比が非常に高いパターンを形成する場合において、断面形状の矩形性に非常に優れたパターンを形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物等を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）酸の作用により極性が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）特定の構造で表される分子量が２２０以上の化合物を含む。