3-(1,1,1,3,3,3-Hexafluoropropan-2-yloxy)-2,2,5,5-tetramethylhexane

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 3-(1,1,1,3,3,3-Hexafluoropropan-2-yloxy)-2,2,5,5-tetramethylhexane
• 英文别名: 3-(1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yloxy)-2,2,5,5-tetramethylhexane
• 化学式: C₁₃H₂₂F₆O
• 分子量: 308.3
• InChiKey: YPVYIIFHMUVKES-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.2
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  7

文献信息

• POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIN USED FOR THE POSITIVE RESIST COMPOSITION, COMPOUND USED FOR SYNTHESIS OF THE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP3537217A2

  公开（公告）日：2019-09-11

  A positive resist composition comprises: (A) a resin of which solubility in an alkali developer increases under an action of an acid; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (C) a resin having at least one of a fluorine atom and a silicon atom; and (D) a solvent; and a pattern forming method using the positive resist composition.

  一种正抗蚀剂组合物包括：(A) 在酸的作用下，其在碱显影剂中的溶解度增加的树脂；(B) 在光射线或辐射照射下能够产生酸的化合物；(C) 具有至少一个氟原子和一个硅原子的树脂；以及 (D) 溶剂；以及使用正抗蚀剂组合物的图案形成方法。