[3-(4-Hydroxyphenyl)-3-oxopropyl] 2,2-dimethylbutanoate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: [3-(4-Hydroxyphenyl)-3-oxopropyl] 2,2-dimethylbutanoate
• 英文别名: [3-(4-hydroxyphenyl)-3-oxopropyl] 2,2-dimethylbutanoate
• 化学式: C₁₅H₂₀O₄
• 分子量: 264.32
• InChiKey: SDDHCJWXYKPBNB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.8
• 重原子数：
  19
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.47
• 拓扑面积：
  63.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

文献信息

• NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20140227642A1

  公开（公告）日：2014-08-14

  A negative resist composition, includes: (A) an alkali-soluble polymer containing a specific repeating unit as defined in the specification; (B) a crosslinking agent capable of crosslinking with the alkali soluble polymer (A) under an action of an acid; (C) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays or radiation; (D) a specific quaternary ammonium salt as defined in the specification; and (E) an organic carboxylic acid, and a pattern forming method uses the composition.
• US9034560B2
  申请人：——

  公开号：US9034560B2

  公开（公告）日：2015-05-19