4-(Cylohexen-1-yl)butanol | 36144-12-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 4-(Cylohexen-1-yl)butanol
• 英文别名: cyclohexenyl butanol；4-Cyclohex-1-enylbutan-1-ol；4-(cyclohexen-1-yl)butan-1-ol
• CAS: 36144-12-4
• 化学式: C₁₀H₁₈O
• mdl: MFCD00101823
• 分子量: 154.252
• InChiKey: NVXOIBBZTHELSQ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.3
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

安全信息

• 危险性防范说明：
  P264,P270,P301+P312,P330
• 危险性描述：
  H302

文献信息

• US4877607A
  申请人：——

  公开号：US4877607A

  公开（公告）日：1989-10-31
• [EN] ATTRACTANCE FOR (DACUS LATIFRONS), THE MALAYSIAN FRUIT FLY
  申请人：THE UNITED STATES OF AMERICA, represented by THE SECRETARY, UNITED STATES DEPARTMENT OF COMMERCE

  公开号：WO1990003113A1

  公开（公告）日：1990-04-05

  (EN) Certain cyclohexyl and cyclohexenyl aliphatic alcohols and ketones are potent attractants for $i(Dacus latifrons), the Malaysian fruit fly. By attracting adult males to field traps, the compounds provide a means for detecting, monitoring, and controlling this agricultural pest.(FR) Certains alcools et cétones aliphatiques de cyclohexyle et de cyclohexényle sont de puissants attractifs pour $i(Dacus Latifrons), diptère malais. De par leur pouvoir attractif sur des mâles adultes dans des pièges situés sur le terrain, les composés constituent un moyen de détection, de contrôle, et de régulation de ce ravageur des cultures.
• [EN] ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD OF FORMING A PATTERN USING THE SAME<br/>[FR] COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT OU À DES RAYONS ACTINIQUES ET PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF AU MOYEN D'UNE TELLE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORP

  公开号：WO2011034213A1

  公开（公告）日：2011-03-24

  According to one embodiment, an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition includes a resin containing a repeating unit (A) containing both a structural moiety (S1) that is decomposed by an action of an acid to thereby generate an alkali-soluble group and a structural moiety (S2) that is decomposed by an action of an alkali developer to thereby increase its rate of dissolution into the alkali developer, and a compound that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation.