2,5-dimethyl-1-n-hexyloxy-benzene | 177217-25-3

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 2,5-dimethyl-1-n-hexyloxy-benzene
• 英文别名: 2,5-Dimethyl-1-n-hexyloxybenzene；2-hexoxy-1,4-dimethylbenzene
• CAS: 177217-25-3
• 化学式: C₁₄H₂₂O
• 分子量: 206.328
• InChiKey: YXBIYJCNBNOADJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  286.1±9.0 °C(Predicted)
• 密度：
  0.902±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  9.2
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,5-dimethyl-1-n-hexyloxy-benzene 在 N-溴代丁二酰亚胺(NBS) 、 potassium carbonate 、 过氧化苯甲酰 作用下， 以 四氢呋喃 、 四氯化碳 为溶剂， 反应 77.0h， 生成
  参考文献：
  名称：

  新的氨基甲酰基哌啶作为人的血小板聚集抑制剂。

  摘要：

  设计，合成和测试了一系列3-氨基甲酰基哌啶（邻甲酰胺）对二磷酸腺苷（ADP）诱导的人血小板聚集的抑制作用。对双（邻氨基苯甲酰氨基）芳烷类型的结构活性分析表明，哌啶环上的取代基应优选为酰胺，并且羰基氧的电负性和酰胺基的取向影响活性。基于影响血小板活化和聚集的因素的知识，可在原位释放一氧化氮（NO）的硝酸酯部分被掺入到烟酰胺结构中。与没有-ONO2功能的那些化合物相比，这些化合物显示出增强的活性。它们还表现出立体选择性，内消旋异构体的效力约为合成非对映异构体混合物的两倍。用羟基，酯或烷基取代-ONO2的功能大大降低了抑制聚集的能力。此处显示的烟酰胺可抑制基础和胶原蛋白诱导的血小板三磷酸肌醇（IP3）水平以及磷酸肌醇周转率的升高。考虑到早期的结果，提出了一种综合的行动机制。

  DOI：

  10.1016/s0968-0896(00)00033-x
• 作为产物：
  描述：

  2,5-二甲基苯酚 、 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid 在 potassium carbonate 作用下， 以 丙酮 为溶剂， 反应 48.0h， 生成 2,5-dimethyl-1-n-hexyloxy-benzene
  参考文献：
  名称：

  新的氨基甲酰基哌啶作为人的血小板聚集抑制剂。

  摘要：

  设计，合成和测试了一系列3-氨基甲酰基哌啶（邻甲酰胺）对二磷酸腺苷（ADP）诱导的人血小板聚集的抑制作用。对双（邻氨基苯甲酰氨基）芳烷类型的结构活性分析表明，哌啶环上的取代基应优选为酰胺，并且羰基氧的电负性和酰胺基的取向影响活性。基于影响血小板活化和聚集的因素的知识，可在原位释放一氧化氮（NO）的硝酸酯部分被掺入到烟酰胺结构中。与没有-ONO2功能的那些化合物相比，这些化合物显示出增强的活性。它们还表现出立体选择性，内消旋异构体的效力约为合成非对映异构体混合物的两倍。用羟基，酯或烷基取代-ONO2的功能大大降低了抑制聚集的能力。此处显示的烟酰胺可抑制基础和胶原蛋白诱导的血小板三磷酸肌醇（IP3）水平以及磷酸肌醇周转率的升高。考虑到早期的结果，提出了一种综合的行动机制。

  DOI：

  10.1016/s0968-0896(00)00033-x

文献信息

• Novel sulfonyldiazomethanes, photoacid generations, resist compositions, and patterning process
  申请人：——

  公开号：US20030180653A1

  公开（公告）日：2003-09-25

  A chemical amplification type resist composition contains as a photoacid generator a sulfonyldiazomethane compound of formula (1) wherein R is H or C 1-4 alkyl or alkoxy, G is SO 2 or CO, R 3 is C 1-10 alkyl or C 6-14 aryl, p is 1 or 2, q is 0 or 1, p+q=2, n is 0 or 1, m is 3 to 11, and k is 0 to 4. The composition is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution and improved pattern profile after development. 1

  一种化学放大型光刻胶组合物包含一种化学放大型光酸发生剂，其化学式为（1），其中R为H或C1-4烷基或烷氧基，G为SO2或CO，R3为C1-10烷基或C6-14芳基，p为1或2，q为0或1，p+q=2，n为0或1，m为3至11，k为0至4。该组合物适用于微细加工，尤其是通过深紫外光刻技术，因为具有许多优点，包括提高分辨率和在显影后改善图案轮廓。
• DERIVATIVES OR DIPYRANNYLIDENE TYPE AS ANODE INTERFACE LAYER IN ELECTRONIC DEVICES
  申请人：Fichou Denis

  公开号：US20110083730A1

  公开（公告）日：2011-04-14

  The present invention relates to substrates coated with films comprising compounds of general formula (I) below: and also to the process for manufacturing them and to their use as anode interface layer in electronic devices. The present invention also relates to organic electroluminescent diodes (OLED), polymeric electroluminescent diodes (PLED), organic field-effect transistors (OFET) and organic solar cells (OSC) comprising a substrate according to the invention, to specific organic solar cells and to the process for manufacturing them. Compounds of formula (I) as such also form part of the invention.

  本发明涉及涂有通式（I）化合物的膜的基板，以及制造它们的过程和它们作为电子器件中阳极界面层的用途。本发明还涉及包括本发明中的基板的有机电致发光二极管（OLED）、聚合物电致发光二极管（PLED）、有机场效应晶体管（OFET）和有机太阳能电池（OSC），特定的有机太阳能电池和制造它们的过程。通式（I）的化合物本身也是本发明的一部分。
• Sulfonyldiazomethanes, photoacid generations, resist compositions, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US06689530B2

  公开（公告）日：2004-02-10

  A chemical amplification type resist composition contains as a photoacid generator a sulfonyldiazomethane compound of formula (1) wherein R is H or C1-4 alkyl or alkoxy, G is SO2 or CO, R3 is C1-10 alkyl or C6-14 aryl, p is 1 or 2, q is 0 or 1, p+q=2, n is 0 or 1, m is 3 to 11, and k is 0 to 4. The composition is suited for microfabrication, especially by deep UV lithography because of many advantages including improved resolution and improved pattern profile after development.

  一种化学扩增型光刻胶组合物，其中包含一种磺酰基重氮甲烷化合物作为光酸发生剂，其化学式为（1），其中R为H或C1-4烷基或烷氧基，G为SO2或CO，R3为C1-10烷基或C6-14芳基，p为1或2，q为0或1，p+q=2，n为0或1，m为3至11，k为0至4。该组合物适用于微细加工，特别是通过深紫外光刻技术，因为具有许多优点，包括提高分辨率和开发后提高图案轮廓。
• POLYMER COMPOUND AND COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：Mikami Satoshi

  公开号：US20100033086A1

  公开（公告）日：2010-02-11

  A polymer compound comprising as repeating units an optionally substituted fluorenediyl group and a phenylene group having one or more substituents, and comprising a repeating unit of the following formula (1) and/or a group of the following formula (2): (in the formula (1), Ar 1 and Ar 2 represent an arylene group or di-valent aromatic heterocyclic group, and Ar 1 and may be the same or different.) (in the formula (2), Ar 1 represents the same meaning as described above. Ar 3 represents an aryl group or mono-valent aromatic heterocyclic group.).

  一种聚合物化合物，其重复单元包括一个可选取代的芴基基团和一个具有一个或多个取代基的苯基团，并包括以下式(1)的重复单元和/或以下式(2)的基团： （在式（1）中，Ar1和Ar2表示芳烃基团或双价芳香杂环基团，Ar1和Ar2可以相同或不同。） （在式（2）中，Ar1表示与上述相同的含义。Ar3表示芳基团或单价芳香杂环基团。）
• US6689530B2
  申请人：——

  公开号：US6689530B2

  公开（公告）日：2004-02-10