Trifluoro-methanesulfonic acid 2-[benzyl-(2-dimethylcarbamoyl-cyclohexa-1,4-dienecarbonyl)-amino]-phenyl ester | 881653-77-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: Trifluoro-methanesulfonic acid 2-[benzyl-(2-dimethylcarbamoyl-cyclohexa-1,4-dienecarbonyl)-amino]-phenyl ester
• 英文别名: [2-[Benzyl-[2-(dimethylcarbamoyl)cyclohexa-1,4-diene-1-carbonyl]amino]phenyl] trifluoromethanesulfonate
• CAS: 881653-77-6
• 化学式: C₂₄H₂₃F₃N₂O₅S
• 分子量: 508.518
• InChiKey: NZNQVXKZIIRKJT-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.3
• 重原子数：
  35
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  92.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  8

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  Trifluoro-methanesulfonic acid 2-[benzyl-(2-dimethylcarbamoyl-cyclohexa-1,4-dienecarbonyl)-amino]-phenyl ester 在 camphor-10-sulfonic acid 、 间氯过氧苯甲酸 、 三氟乙酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 二氯甲烷 、 水 、 丙酮 为溶剂， 反应 14.0h， 生成 Trifluoro-methanesulfonic acid 2-[benzyl-((3aS,7aS)-6-dimethylcarbamoyl-2,2-dimethyl-3a,4,7,7a-tetrahydro-benzo[1,3]dioxole-5-carbonyl)-amino]-phenyl ester
  参考文献：
  名称：

  通过分子内Heck反应形成螺环氧化吲哚的非对映选择性

  摘要：

  环己烯二酰胺1和3的非对映选择性双Heck环化反应形成连续的季立体中心，非对映选择性受反式-二醇保护基控制。本文是两篇系列文章中的第一篇，探讨了这些反应的第一步闭环步骤中的非对映选择性的起源。合成并简化了9个1和3的简化类似物，以识别在第一次分子内Heck反应中实现高非对映选择性需要哪些结构特征。这些研究表明，高立体选择（> 20：1）并非源于单一结构特征：仅在同时含有反式和反式的底物中才能看到-丙酮化物和在C2处的叔酰胺取代基。似乎涉及两个微妙的因素：（1）避免形成的C键与C6处的假轴氢原子之间以及以及C6的伪赤道氢原子与形成的螺氧杂吲哚的羰基之间的蚀变相互作用。（2）不参与插入事件的乙烯基酰胺取代基优先采用垂直构象，将空间上大体积的NR 2置于烯烃π键上。在有利的插入形貌中避免了该取代基与环己烯的C 3之间的sy n-戊烷样相互作用。当将这两种作用结合时，会产生高度非对映选择性的过程。

  DOI：

  10.1021/jo052335a
• 作为产物：
  描述：

  N,N-dimethylpropynamide 在 2,6-二叔丁基-4-甲基吡啶 、 二氯乙基铝 、 盐酸-N-乙基-Nˊ-(3-二甲氨基丙基)碳二亚胺 、 cesium fluoride 、 lithium hexamethyldisilazane 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 、 二氯甲烷 、 N,N-二甲基甲酰胺 、 甲苯 为溶剂， 反应 49.0h， 生成 Trifluoro-methanesulfonic acid 2-[benzyl-(2-dimethylcarbamoyl-cyclohexa-1,4-dienecarbonyl)-amino]-phenyl ester
  参考文献：
  名称：

  通过分子内Heck反应形成螺环氧化吲哚的非对映选择性

  摘要：

  环己烯二酰胺1和3的非对映选择性双Heck环化反应形成连续的季立体中心，非对映选择性受反式-二醇保护基控制。本文是两篇系列文章中的第一篇，探讨了这些反应的第一步闭环步骤中的非对映选择性的起源。合成并简化了9个1和3的简化类似物，以识别在第一次分子内Heck反应中实现高非对映选择性需要哪些结构特征。这些研究表明，高立体选择（> 20：1）并非源于单一结构特征：仅在同时含有反式和反式的底物中才能看到-丙酮化物和在C2处的叔酰胺取代基。似乎涉及两个微妙的因素：（1）避免形成的C键与C6处的假轴氢原子之间以及以及C6的伪赤道氢原子与形成的螺氧杂吲哚的羰基之间的蚀变相互作用。（2）不参与插入事件的乙烯基酰胺取代基优先采用垂直构象，将空间上大体积的NR 2置于烯烃π键上。在有利的插入形貌中避免了该取代基与环己烯的C 3之间的sy n-戊烷样相互作用。当将这两种作用结合时，会产生高度非对映选择性的过程。

  DOI：

  10.1021/jo052335a

文献信息

• Diastereoselection in the Formation of Spirocyclic Oxindoles by the Intramolecular Heck Reaction
  作者：Larry E. Overman、Donald A. Watson

  DOI：10.1021/jo052335a

  日期：2006.3.31

  stereocenters, with diastereoselection being controlled by the trans-diol protecting group. In this, the first in a series of two papers, the origin of diastereoselection in the first ring-closure step of these reactions is examined. Nine simplified analogues of 1 and 3 were synthesized and cyclized to discern what structural features are required to realize high diastereoselection in the first intramolecular

  环己烯二酰胺1和3的非对映选择性双Heck环化反应形成连续的季立体中心，非对映选择性受反式-二醇保护基控制。本文是两篇系列文章中的第一篇，探讨了这些反应的第一步闭环步骤中的非对映选择性的起源。合成并简化了9个1和3的简化类似物，以识别在第一次分子内Heck反应中实现高非对映选择性需要哪些结构特征。这些研究表明，高立体选择（> 20：1）并非源于单一结构特征：仅在同时含有反式和反式的底物中才能看到-丙酮化物和在C2处的叔酰胺取代基。似乎涉及两个微妙的因素：（1）避免形成的C键与C6处的假轴氢原子之间以及以及C6的伪赤道氢原子与形成的螺氧杂吲哚的羰基之间的蚀变相互作用。（2）不参与插入事件的乙烯基酰胺取代基优先采用垂直构象，将空间上大体积的NR 2置于烯烃π键上。在有利的插入形貌中避免了该取代基与环己烯的C 3之间的sy n-戊烷样相互作用。当将这两种作用结合时，会产生高度非对映选择性的过程。