3,3-Dimethyl-1-(4-methylphenyl)-2-(1-methylthiolan-1-yl)butan-1-one

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机氧化合物
• 英文名称: 3,3-Dimethyl-1-(4-methylphenyl)-2-(1-methylthiolan-1-yl)butan-1-one
• 英文别名: 3,3-dimethyl-1-(4-methylphenyl)-2-(1-methylthiolan-1-yl)butan-1-one
• 化学式: C₁₈H₂₈OS
• 分子量: 292.5
• InChiKey: XXZRMXLVVNOPBW-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.9
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.61
• 拓扑面积：
  18.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

文献信息

• Positive type resist composition for use in liquid immersion exposure and a method of forming the pattern using the same
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP1621927B1

  公开（公告）日：2018-05-23
• Positive resist composition, pattern forming method using the positive resist composition, use of the positive resit composition
  申请人：Fujifilm Corporation

  公开号：EP1795960B1

  公开（公告）日：2019-06-05
• ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：EP2721446B1

  公开（公告）日：2017-11-22