adamantane-1-carboxylic acid 3-methyl-3-(2-methylacryloyloxy)butyl ester | 1186686-41-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: adamantane-1-carboxylic acid 3-methyl-3-(2-methylacryloyloxy)butyl ester
• 英文别名: [3-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl] adamantane-1-carboxylate
• CAS: 1186686-41-8
• 化学式: C₂₀H₃₀O₄
• 分子量: 334.456
• InChiKey: QKLBJABQIIGOTR-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.5
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  8
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.8
• 拓扑面积：
  52.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  偶氮二异丁酸二甲酯 、 adamantane-1-carboxylic acid 3-methyl-3-(2-methylacryloyloxy)butyl ester 在 氮气 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 以produced in Synthesis Example 1, 26.2 g of isopropyladamantane methacrylate, 17.5 g of γ-butyrolactyl methacrylate, and 23.6 g of hydroxyadamantane methacrylate in 200 g of 1,4-dioxane的产率得到Isopropyladamantane methacrylate
  参考文献：
  名称：

  NOVEL ACRYL MONOMER, POLYMER AND RESIST COMPOSITION COMPRISING SAME

  摘要：

  公开了一种具有式（1）表示的结构的丙烯酸单体，含有从丙烯酸单体衍生的重复单元的聚合物以及使用该聚合物制备的抗蚀剂组合物，该组合物具有优异的粘附性、储存稳定性和线宽粗糙度增强性，无论基板类型如何，都能在C/H图案和L/S图案中表现出优异的分辨率，具有优异的工艺窗口，因此可以获得优异的图案轮廓，并且具有改善的对比度。

  公开号：

  US20130164674A1
• 作为产物：
  描述：

  异戊二醇 、 1-金刚烷甲酸 在 DL-赖氨酸 作用下， 以 四氢呋喃 、 氯仿 为溶剂， 反应 25.0h， 生成 adamantane-1-carboxylic acid 3-methyl-3-(2-methylacryloyloxy)butyl ester
  参考文献：
  名称：

  化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法

  摘要：

  这是一段专利文本，描述了一种能够制造良好的掩膜误差因子（ＭＥＦ）图案的化合物、树脂以及含有该树脂的掩膜组合物。【解决方案】包括由式（Ｉ）表示的化合物，由该化合物衍生的树脂，以及含有该树脂的掩膜组合物。其中，Ｒ１可以是带有卤素基的烷基、氢原子或卤素原子；Ｒ２和Ｒ３分别独立表示烷基；ｎ表示1到6的整数；Ｒ可以是带有烷基的1-戊二烯基或＊-CHR4R5；＊表示连接位；Ｒ4和Ｒ5分别独立表示氢原子、烷基、脂环烃基或它们的组合，或者Ｒ4和Ｒ5结合在一起形成双价的脂环烃基。

  公开号：

  JP2021181443A

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, POLYMER AND MONOMER
  申请人：MARUYAMA Ken

  公开号：US20100331440A1

  公开（公告）日：2010-12-30

  A polymer includes a repeating unit shown by a general formula (1) in which R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 2 represents a substituted or unsubstituted linear or branched monovalent alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alicyclic group having 3 to 25 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 22 carbon atoms, and X represents a substituted or unsubstituted methylene group or a substituted or unsubstituted linear, branched or alicyclic hydrocarbon group having 2 to 25 carbon atoms. The polymer has a polystyrene-reduced weight average molecular weight determined by gel permeation chromatography (GPC) of 3000 to 100,000.
• US7977442B2
  申请人：——

  公开号：US7977442B2

  公开（公告）日：2011-07-12
• 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
  申请人：住友化学株式会社

  公开号：JP2021181443A

  公开（公告）日：2021-11-25

  【課題】良好なマスクエラーファクター（ＭＥＦ）のレジストパターンを製造できる化合物、樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物を提供することを目的とする。【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物、この化合物に由来する樹脂及びこの樹脂を含むレジスト組成物。［式中、Ｒ１は、ハロゲン原子を有してもよいアルキル基、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。ｎは、１〜６の整数を表す。Ｒは、アルキル基を有してもよい１−アダマンチル基又は＊−ＣＨＲ４Ｒ５を表す。＊は結合位を表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、脂環式炭化水素基又はこれらを組み合わせた基を表すか、Ｒ４及びＲ５は互いに結合してそれらが結合する炭素原子とともに２価の脂環式炭化水素基を形成する。］【選択図】なし

  这是一段专利文本，描述了一种能够制造良好的掩膜误差因子（ＭＥＦ）图案的化合物、树脂以及含有该树脂的掩膜组合物。【解决方案】包括由式（Ｉ）表示的化合物，由该化合物衍生的树脂，以及含有该树脂的掩膜组合物。其中，Ｒ１可以是带有卤素基的烷基、氢原子或卤素原子；Ｒ２和Ｒ３分别独立表示烷基；ｎ表示1到6的整数；Ｒ可以是带有烷基的1-戊二烯基或＊-CHR4R5；＊表示连接位；Ｒ4和Ｒ5分别独立表示氢原子、烷基、脂环烃基或它们的组合，或者Ｒ4和Ｒ5结合在一起形成双价的脂环烃基。
• NOVEL ACRYL MONOMER, POLYMER AND RESIST COMPOSITION COMPRISING SAME
  申请人：KOREA KUMHO PETROCHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20130164674A1

  公开（公告）日：2013-06-27

  Disclosed are an acrylic monomer having a structure represented by formula (1), a polymer containing a repeating unit derived from the acrylic monomer, and a resist composition prepared by using the polymer, which exhibits excellent adhesiveness, storage stability, and enhanced line width roughness, exhibits excellent resolution in both C/H patterns and L/S patterns, has an excellent process window so that an excellent pattern profile can be obtained regardless of the type of the substrate, and exhibits improved contrast.

  公开了一种具有式（1）表示的结构的丙烯酸单体，含有从丙烯酸单体衍生的重复单元的聚合物以及使用该聚合物制备的抗蚀剂组合物，该组合物具有优异的粘附性、储存稳定性和线宽粗糙度增强性，无论基板类型如何，都能在C/H图案和L/S图案中表现出优异的分辨率，具有优异的工艺窗口，因此可以获得优异的图案轮廓，并且具有改善的对比度。