N,N-二环己基甲磺酰胺 | 100504-97-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 中文名称: N,N-二环己基甲磺酰胺
• 英文名称: N,N-dicyclohexylmethanesulfonamide
• CAS: 100504-97-0
• 化学式: C₁₃H₂₅NO₂S
• mdl: MFCD00588108
• 分子量: 259.413
• InChiKey: KQLDGOIRMCDFJY-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  100-100.5 °C
• 沸点：
  373.7±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.11±0.1 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  45.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N,N-二环己基甲磺酰胺 在 正丁基锂 、 氧气 、 水 作用下， 以 四氢呋喃 、 正己烷 为溶剂， 反应 1.25h， 以75%的产率得到二环己胺
  参考文献：
  名称：

  甲烷磺酰胺选择性脱保护为胺

  摘要：

  甲烷磺酰胺即使在其他传统的磺酰胺存在下，也能通过去质子化和用O 2（g）氧化而脱保护为其母体胺。

  DOI：

  10.1021/ol100086j

文献信息

• [EN] PYRAZOLE DERIVATIVES USEFUL AS INHIBITORS OF FAAH<br/>[FR] DÉRIVÉS DE PYRAZOLE UTILES COMME INHIBITEURS DE FAAH
  申请人：MERCK & CO INC

  公开号：WO2009151991A1

  公开（公告）日：2009-12-17

  The present invention is directed to certain imidazole derivatives which are useful as inhibitors of Fatty Acid Amide Hydrolase (FAAH). The invention is also concerned with pharmaceutical formulations comprising these compounds as active ingredients and the use of the compounds and their formulations in the treatment of certain disorders, including osteoarthritis, rheumatoid arthritis, diabetic neuropathy, postherpetic neuralgia, skeletomuscular pain, and fibromyalgia, as well as acute pain, migraine, sleep disorder, Alzheimer disease, and Parkinson's disease

  本发明涉及某些咪唑衍生物，其可用作脂肪酰胺水解酶（FAAH）的抑制剂。该发明还涉及包含这些化合物作为活性成分的药物配方，以及这些化合物及其配方在治疗某些疾病中的使用，包括骨关节炎、类风湿性关节炎、糖尿病神经病变、带状疱疹后神经痛、骨骼肌肉疼痛和纤维肌痛，以及急性疼痛、偏头痛、睡眠障碍、阿尔茨海默病和帕金森病。
• PYRAZOLE DERIVATIVES USEFUL AS INHIBITORS OF FAAH
  申请人：Merck Sharp & Dohme Corp.

  公开号：EP2299824A1

  公开（公告）日：2011-03-30
• PATTERN FORMING METHOD USING DEVELOPER CONTAINING ORGANIC SOLVENT AND RINSING SOLUTION FOR USE IN THE PATTERN FORMING METHOD
  申请人：Kamimura Sou

  公开号：US20110229832A1

  公开（公告）日：2011-09-22

  A pattern forming method, includes: (i) a step of forming a resist film from a resist composition for organic solvent-based development, the resist composition containing (A) a resin capable of increasing a polarity by an action of an acid to decrease a solubility in an organic solvent-containing developer and (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation; (ii) an exposure step; (iii) a development step using an organic solvent-containing developer; and (iv) a washing step using a rinsing solution, wherein in the step (iv), a rinsing solution containing at least either the solvent S 1 or S 2 as defined in the specification is used.
• SURFACE ACTIVE ADJUVANT
  申请人：RHODIA OPERATIONS

  公开号：US20200131335A1

  公开（公告）日：2020-04-30

  The present invention relates to an adjuvant comprising an amide compound and a non-ionic surfactant. The present invention further relates to an aqueous composition comprising said adjuvant and a latex polymer.
• US5250108A
  申请人：——

  公开号：US5250108A

  公开（公告）日：1993-10-05