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2-(4-Aza-1-azoniabicyclo[2.2.2]octan-1-yl)-1-phenylethanone

中文名称
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中文别名
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英文名称
2-(4-Aza-1-azoniabicyclo[2.2.2]octan-1-yl)-1-phenylethanone
英文别名
——
2-(4-Aza-1-azoniabicyclo[2.2.2]octan-1-yl)-1-phenylethanone化学式
CAS
——
化学式
C14H19N2O+
mdl
——
分子量
231.31
InChiKey
QTNQVHRZHVXYDC-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    1.3
  • 重原子数:
    17
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.5
  • 拓扑面积:
    20.3
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

文献信息

  • THERMAL BASE GENERATOR, THERMOSETTING RESIN COMPOSITION, CURED FILM, CURED FILM MANUFACTURING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:EP3162868A1
    公开(公告)日:2017-05-03
    Provided are a thermal base generator which is capable of performing cyclization of a thermosetting resin at a low temperature and with which a thermosetting resin composition having excellent stability can be prepared, a thermosetting resin composition, a cured film, a cured film manufacturing method, and a semiconductor device. The thermal base generator includes at least one selected from an acidic compound which generates a base in a case of being heated to 40°C or higher, and an ammonium salt containing an anion having a pKa1 of 0 to 4 and an ammonium cation. The acidic compound is preferably an ammonium salt and/or a compound represented by the following General Formula (1), in which A1 represents a p-valent organic group, R1 represents a monovalent organic group, L1 represents an (m+1)-valent organic group, m represents an integer of 1 or more, and p represents an integer of 1 or more.
    本发明提供了一种热碱发生器,它能够在低温下对热固性树脂进行环化,并用它制备出稳定性极佳的热固性树脂组合物、热固性树脂组合物、固化膜、固化膜制造方法和半导体设备。 热碱发生器包括至少一种酸性化合物和盐,前者在加热到 40°C 或更高温度时产生碱,后者含有 pKa1 为 0 至 4 的阴离子和阳离子。酸性化合物最好是盐和/或下式(1)所代表的化合物,其中 A1 代表 p 价有机基团,R1 代表一价有机基团,L1 代表 (m+1)- 价有机基团,m 代表 1 或 1 以上的整数,p 代表 1 或 1 以上的整数。
  • Photobase generator and curable composition
    申请人:MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
    公开号:EP1564255B1
    公开(公告)日:2007-09-26
  • PHOTOCURABLE COMPOSITION AND COATING COMPOSITION
    申请人:MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC.
    公开号:EP1652870B1
    公开(公告)日:2009-06-17
  • IMPROVED TIME/TEMPERATURE INDICATORS
    申请人:Sun Chemical Corporation
    公开号:EP1934561B1
    公开(公告)日:2018-11-07
  • SUBSTRATES, SYSTEMS, AND METHODS FOR NUCLEIC ACID ARRAY SYNTHESIS
    申请人:Vibrant Holdings, LLC
    公开号:EP3402897A1
    公开(公告)日:2018-11-21
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