sodium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-(3-methoxymethoxyadamantane-1-carbonyloxy)butane-1-sulfonate | 1335102-55-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: sodium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-(3-methoxymethoxyadamantane-1-carbonyloxy)butane-1-sulfonate
• 英文别名: Sodium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-(3-methoxymethoxyadamantane-1-carbonyloxy)butane-1-sulfonate；sodium;1,1,2,2-tetrafluoro-4-[3-(methoxymethoxy)adamantane-1-carbonyl]oxybutane-1-sulfonate
• CAS: 1335102-55-0
• 化学式: C₁₇H₂₃F₄O₇S*Na
• 分子量: 470.415
• InChiKey: YAKAYOLNRZHXTR-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.34
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.94
• 拓扑面积：
  110
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  11

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  sodium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-(3-methoxymethoxyadamantane-1-carbonyloxy)butane-1-sulfonate 在 硫酸 、 sodium hydroxide 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 2.33h， 生成 sodium 4-(3-(2-tertiarybutoxy-2-oxoethoxy)adamantane-1-carbonyloxy)-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ORGANIC ACID AND ACID GENERATING AGENT

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括酸发生剂，通过放射性射线照射生成有机酸。该有机酸具有环烃基和有机基，包括可被酸或碱裂解以产生极性基团的键。有机酸最好由以下式（I）表示。其中，Z代表有机酸基团。R2代表脂肪二元基，其中R1代表脂肪二元基中的一部分或全部氢原子可选地被氟原子取代。X代表单键，O，OCO，COO，CO，SO3或SO2。R2代表环烃基。R3代表具有以下式（x）所表示的官能团的一价有机基。n为1到3的整数。Z-R1-X-R2-(R3)n（I）-R31-G-R13（x）。

  公开号：

  US20130065186A1
• 作为产物：
  描述：

  3-羟基金刚烷-1-羧酸 在 sodium tungstate 、 sodium dithionite 、 potassium tert-butylate 、 sodium carbonate 、 N,N-二异丙基乙胺 作用下， 以 甲醇 、 二氯甲烷 、 水 、 二甲基亚砜 为溶剂， 反应 35.58h， 生成 sodium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-(3-methoxymethoxyadamantane-1-carbonyloxy)butane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ORGANIC ACID AND ACID GENERATING AGENT

  摘要：

  一种辐射敏感树脂组合物包括酸发生剂，通过放射性射线照射生成有机酸。该有机酸具有环烃基和有机基，包括可被酸或碱裂解以产生极性基团的键。有机酸最好由以下式（I）表示。其中，Z代表有机酸基团。R2代表脂肪二元基，其中R1代表脂肪二元基中的一部分或全部氢原子可选地被氟原子取代。X代表单键，O，OCO，COO，CO，SO3或SO2。R2代表环烃基。R3代表具有以下式（x）所表示的官能团的一价有机基。n为1到3的整数。Z-R1-X-R2-(R3)n（I）-R31-G-R13（x）。

  公开号：

  US20130065186A1

文献信息

• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, ORGANIC ACID AND ACID GENERATING AGENT
  申请人：MATSUDA Yasuhiko

  公开号：US20130065186A1

  公开（公告）日：2013-03-14

  A radiation-sensitive resin composition includes an acid generating agent to generate an organic acid by irradiation with a radioactive ray. The organic acid has a cyclic hydrocarbon group and an organic group including a bond that is cleavable by an acid or a base to produce a polar group. The organic acid is preferably represented by a following formula (I). Z represents an organic acid group. R 2 represents an alkanediyl group, wherein a part or all of hydrogen atoms of the alkanediyl group represented by R 1 are optionally substituted by a fluorine atom. X represents a single bond, O, OCO, COO, CO, SO 3 or SO 2 . R 2 represents a cyclic hydrocarbon group. R 3 represents a monovalent organic group having a functional group represented by a following formula (x). n is an integer of 1 to 3. Z—R 1 —X—R 2 —(R 3 ) n (I) —R 31 -G-R 13 (x)

  一种辐射敏感树脂组合物包括酸发生剂，通过放射性射线照射生成有机酸。该有机酸具有环烃基和有机基，包括可被酸或碱裂解以产生极性基团的键。有机酸最好由以下式（I）表示。其中，Z代表有机酸基团。R2代表脂肪二元基，其中R1代表脂肪二元基中的一部分或全部氢原子可选地被氟原子取代。X代表单键，O，OCO，COO，CO，SO3或SO2。R2代表环烃基。R3代表具有以下式（x）所表示的官能团的一价有机基。n为1到3的整数。Z-R1-X-R2-(R3)n（I）-R31-G-R13（x）。