(4-氯苯基)二苯基三氟甲磺酸盐 | 255056-43-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: (4-氯苯基)二苯基三氟甲磺酸盐
• 中文别名: (4-氯苯基)二苯基锍三氟甲基磺酸盐
• 英文名称: 4-chlorophenyldiphenylsulfonium triflate
• 英文别名: diphenyl(4-chlorophenyl)sulfonium triflate；(4-Chlorophenyl)diphenylsulfonium triflate；(4-chlorophenyl)-diphenylsulfanium;trifluoromethanesulfonate
• CAS: 255056-43-0
• 化学式: CF₃O₃S*C₁₈H₁₄ClS
• 分子量: 446.899
• InChiKey: NCCOJQUTUIVEJQ-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  108-112 °C(lit.)
• 稳定性/保质期：
  远离氧化物和酸。

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.49
• 重原子数：
  28
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  66.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  6

安全信息

• 危险品标志：
  C,Xi
• 危险类别码：
  R36/37/38
• 安全说明：
  S26,S36

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  (4-氯苯基)二苯基三氟甲磺酸盐 、 苯硒酚 在 potassium hydroxide 作用下， 以 水 、 乙腈 为溶剂， 反应 10.0h， 生成 (4-phenylselenophenyl)diphenylsulfonium triflate
  参考文献：
  名称：

  [EN] PHOTOACID GENERATOR AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
  [FR] GÉNÉRATEUR DE PHOTOACIDE ET COMPOSITION DE RÉSINE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE
  [JA] 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物

  摘要：

  本发明提供了一种具有对EUV、EB、X射线等具有高光感应性的新型光酸发生剂；以及包含上述光酸发生剂的用于光刻胶的树脂组成物。本发明的光酸发生剂（P）具有包含下述一般式（1）中的硒鎘盐的特征。[在式（1）中，X1，X2和X3分别独立地是卤素原子，羟基，1-18个碳原子的烷基，1-18个碳原子的烷氧基，6-14个碳原子的芳基，6-14个碳原子的芳基氧基，6-14个碳原子的芳基硫基或6-14个碳原子的芳基硒基（这些烷基，烷氧基，芳基，芳基氧基，芳基硫基和芳基硒基的氢原子可以部分或全部被氟原子取代），y1，y2和y3互相独立地为0-5，A是一价的阴离子。]

  公开号：

  WO2022168632A1

文献信息

• Compositions and Methods Incorporating Photocatalysts
  申请人：Baker Ellen Schmidt

  公开号：US20090285768A1

  公开（公告）日：2009-11-19

  The various embodiments provide a composition including an active material having functional groups capable of covalent attachment to a substrate in the presence of an acid or a base, a photocatalyst capable of generating an acid or a base upon exposure to light, and a vehicle. The compositions may also include surfactants, emulsifiers, oxidants, and other components. A method for treating a substrate is also disclosed. The method includes the steps of applying at least one active material having functional groups to the substrate, applying a photocatalyst to the substrate, and exposing the photocatalyst and the at least one active material to light for forming covalent attachments between the functional groups and constituent groups on the substrate. The compositions and methods described herein are useful in personal care product and consumer care product applications, for example.

  各种实施例提供了一种组合物，包括具有在酸或碱存在下能够与基底共价结合的功能基团的活性材料，能够在光照下生成酸或碱的光催化剂，以及载体。该组合物还可以包括表面活性剂、乳化剂、氧化剂和其他组分。还公开了一种处理基底的方法。该方法包括将至少一种具有功能基团的活性材料应用于基底，将光催化剂应用于基底，并将光照射到光催化剂和至少一种活性材料，以形成功能基团与基底上的成分基团之间的共价结合。这里描述的组合物和方法在个人护理产品和消费者护理产品应用中是有用的。
• Novel photosensitive bilayer composition
  申请人：Foster Patrick

  公开号：US20050042542A1

  公开（公告）日：2005-02-24

  Polymers and co-polymers having monomeric units formed by the polymerization of monomers of the Structure I where R 1 is a moiety containing an ethylenically unsaturated polymerizable group, R 2 is a C 1 -C 3 alkylene group, and R 3 is a C 1-10 linear or cyclic alkyl group, a C 6-10 aromatic or substituted aromatic group, a C 1-8 alkoxy methyl, or a C 1-8 alkoxy ethyl group, are useful as binder resins for photosensitive compositions, and processes for photolithography in the production of semiconductor devices and materials.

  具有由结构I单体聚合形成的单体单元的高分子和共聚物，其中R1是含有乙烯基不饱和可聚合基团的基团，R2是C1-C3烷基基团，R3是C1-10线性或环烷基团，C6-10芳香或取代芳香基团，C1-8烷氧甲基或C1-8烷氧乙基基团，可用作感光组合物的粘合剂树脂，以及在半导体器件和材料的制造中用于光刻工艺的过程。
• Process for producing triarylsulfonium salt
  申请人：Sumino Motoshige

  公开号：US20070083060A1

  公开（公告）日：2007-04-12

  [Subject] To provide a method for effectively producing a triarylsulfonium salt having a structure that only one aromatic ring of three aromatic rings on the cation portion thereof is different from the other two aromatic rings (hereinafter, abbreviated as a triarylsulfonium salt relating to the present invention) in a high yield without forming any byproduct. [Means for Solution Problems] The present invention relates to a method for producing a triarylsulfonium salt represented by the general formula [4]: wherein, two R 1 's represent each hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, lower haloalkyl group, alkoxy group, acyl group, hydroxyl group, amino group, nitro group or cyano group; R represents an aryl group which may have a substituent selected from a halogen atom, an alkyl group, a lower haloalkyl group, an alkoxy group, an alkylthio group, a N-alkylcarbamoyl group and a carbamoyl group, and the above substituent is different from one represented by the above R 1 ; and A 1 represents a strong acid residue, comprising reacting a diaryl sulfoxide represented by the general formula [1]: wherein, R 1 represents the same as above, and an aryl Grignard reagent represented by the general formula [2]: RMgX   [2] wherein, X represents a halogen atom; R represents the same as above, in the presence of an activator with high affinity for oxygen of 3 to 7.5 equivalents relative to the above diaryl sulfoxide, and then reacting the resultant reaction mixture with a strong acid represented by the general formula [3]: HA 1 [3] wherein, A 1 represents the same as above, or a salt thereof.

  [主题] 提供一种有效地生产三芳基硫鎓盐的方法，其结构中阳离子部分的三个芳环中仅有一个芳环与另外两个芳环不同（以下简称与本发明有关的三芳基硫鎓盐），高产率地生产三芳基硫鎓盐而不产生任何副产物。 [解决问题的方法] 本发明涉及一种生产由一般式[4]表示的三芳基硫鎓盐的方法： 其中，两个R1分别代表氢原子、卤素原子、烷基、较低的卤代烷基、烷氧基、酰基、羟基、氨基、硝基或氰基；R代表芳基，该芳基可以具有从卤素原子、烷基、较低的卤代烷基、烷氧基、烷硫基、N-烷基氨甲酰基和氨甲酰基中选择的取代基，上述取代基与上述R1所代表的取代基不同；A1代表强酸残基。 该方法包括在高亲氧活化剂存在下，使一由一般式[1]表示的二芳基亚砜： 其中，R1代表与上述相同，以及由一般式[2]表示的芳基格氏试剂反应： RMgX   [2] 其中，X代表卤素原子；R代表与上述相同，然后将所得反应混合物与一由一般式[3]表示的强酸： HA1[3] 其中，A1代表与上述相同或其盐反应。
• OLIGOFLUORINATED CROSS-LINKED POLYMERS AND USES THEREOF
  申请人：Esfand Roseita

  公开号：US20110091508A1

  公开（公告）日：2011-04-21

  The invention features oligofluorinated cross-linked polymers and their use in the manufacture of articles and coating surfaces.

  该发明涉及寡聚氟交联聚合物及其用于制造物品和涂覆表面的用途。
• Methods and materials for fabricating microfluidic devices
  申请人：The University of North Carolina at Chapel Hill

  公开号：EP2537657A2

  公开（公告）日：2012-12-26

  Materials and methods are provided for fabricating microfluidic devices. The materials include low surface energy fluoropolymer compositions having multiple cure functional groups. The materials can include multiple photocurable and/or thermal-curable functional groups such that laminate devices can be fabricated. The materials also substantially do not swell in the presence of hydrocarbon solvents.

  本文提供了用于制造微流体设备的材料和方法。这些材料包括具有多个固化官能团的低表面能含氟聚合物组合物。这些材料可包括多个光固化和/或热固化官能团，从而可制造层压装置。这些材料在烃类溶剂存在时也基本不会膨胀。