2-piperidino-butyric acid | 103039-91-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: 2-piperidino-butyric acid
• 英文别名: 2-Piperidino-buttersaeure；2-piperidin-1-ium-1-ylbutanoate
• CAS: 103039-91-4
• 化学式: C₉H₁₇NO₂
• 分子量: 171.239
• InChiKey: UYTIVCWMUOLDLP-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.6
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.89
• 拓扑面积：
  40.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  ethyl 2-piperidinobutanoate 在 barium dihydroxide 作用下， 生成 2-piperidino-butyric acid
  参考文献：
  名称：

  Safer Positioning of Electronic Fishing Aids

  摘要：

  过去几十年来，桥梁设计发生了很大变化，人们越来越认识到 在保持最少人员的同时，对安全的需求也在增加。在军用和大型商船方面，对单人桥的概念进行了相当广泛的研究。 但小型船舶的设计人员却忽视了这一概念、 尤其是渔船。本文推导了 "单票 "渔船电子捕鱼辅助设备的定位原则。 单票 "渔船的电子捕鱼辅助设备的定位原则，同时在实际应用中适用 人体工程学原则。然后，本文将这些原则 然后将这些原则应用于两艘渔船的驾驶室，并提出修改建议，以更好地遵守这些原则。 合规性。文中给出了符合所有原则的驾驶室概念设计，同时 包括此类渔船通常携带的电子辅助设备。

  DOI：

  10.1017/s0373463300008870

文献信息

• Resist composition and patterning process
  申请人：Watanabe Satoshi

  公开号：US20100009299A1

  公开（公告）日：2010-01-14

  The present invention relates to: a resist composition such as a chemically amplified resist composition for providing an excellent pattern profile even at a substrate-side boundary face of resist, in addition to a higher resolution in photolithography for micro-fabrication, and particularly in photolithography adopting, as an exposure source, KrF laser, ArF laser, F 2 laser, ultra-short ultraviolet light, electron beam, X-rays, or the like; and a patterning process utilizing the resist composition. The present invention provides a chemically amplified resist composition comprising one or more kinds of amine compounds or amine oxide compounds (except for those having a nitrogen atom of amine or amine oxide included in a ring structure of an aromatic ring) at least having a carboxyl group and having no hydrogen atoms covalently bonded to a nitrogen atom as a basic center.

  本发明涉及一种抗蚀组合物，例如用于在抗蚀物的基板侧边界面上提供优异图案轮廓的化学增感抗蚀组合物，除了在微细加工的光刻工艺中具有更高的分辨率外，特别是在采用KrF激光、ArF激光、F2激光、超短紫外光、电子束、X射线等作为曝光光源的光刻工艺中；以及利用该抗蚀组合物的图案化工艺。本发明提供一种化学增感抗蚀组合物，其包括一种或多种胺化合物或胺氧化合物（除了那些在芳香环的环结构中不含有胺或胺氧原子的氮原子的化合物），至少具有一个羧基，并且没有氢原子共价键结合到氮原子作为碱性中心。
• [EN] PROCESS OF PREPARING EBASTINE<br/>[FR] PROCÉDÉ DE PRÉPARATION DE L'ÉBASTINE
  申请人：MICRO LABS LTD

  公开号：WO2009157006A1

  公开（公告）日：2009-12-30

  The present invention relates to a novel process for preparing ebastine from 1-[4-(1,1-dimethylethyl) phenyl]-4-(4-hydroxy piperidin-1-yl) butan-1-one and diphenyl methanol, which is easily reproducible on an industrial scale. A process for preparation of 1-[4-(1,1-dimethylethyl) phenyl]-4-(4-hydroxy piperidin-1-yl) butan-1-one.

  这项发明涉及一种从1-[4-(1,1-二甲基乙基)苯基]-4-(4-羟基哌啶-1-基)丁酮和二苯甲醇制备厄巴司汀的新工艺，该工艺在工业规模上易于复制。一种制备1-[4-(1,1-二甲基乙基)苯基]-4-(4-羟基哌啶-1-基)丁酮的工艺。
• [EN] HIGHLY SELECTIVE NOVEL AMIDATION METHOD<br/>[FR] PROCÉDÉ D'UNE NOUVELLE AMIDATION TRÈS SÉLECTIVE
  申请人：TAKEDA PHARMACEUTICAL

  公开号：WO2005121133A1

  公开（公告）日：2005-12-22

  The present invention provides an industrial production method with a short process having a high yield of an aliphatic cyclic carboxamide having carboxyl group, which comprises reacting functional group-selectively using an inexpensive condensing agent without protecting the carboxyl group by esterification, that is, reacting carboxylic acid anhydride obtained by reacting carboxylic acid and tertiary carboxylic acid halide with aliphatic cyclic secondary amine having carboxyl group.

  本发明提供了一种工业生产方法，该方法具有短流程、高产率，用于制备含有羧基的脂肪族环状酰胺，其特点在于使用廉价的缩合剂对功能团进行选择性反应，而不通过酯化保护羧基，即通过将由羧酸与叔羧酸卤化物反应得到的羧酸酐与含有羧基的脂肪族环状仲胺进行反应。
• SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20160090355A1

  公开（公告）日：2016-03-31

  A sulfonium salt of formula (0-1) is provided wherein W is alkylene or arylene, R 01 is a monovalent hydrocarbon group, m is 0, 1 or 2, k is an integer: 0≦k≦5+4m, R 101 , R 102 and R 103 are a monovalent hydrocarbon group, or at least two of R 101 , R 102 and R 103 may bond together to form a ring with the sulfur atom, and L is a single bond, ester, sulfonic acid ester, carbonate or carbamate bond. A resist composition comprising the sulfonium salt as PAG exhibits a very high resolution when processed by EB and EUV lithography. A pattern with minimal LER is obtainable.

  提供一种化学式为（0-1）的磺鎓盐，其中W是烷基或芳基，R01是一价碳氢基团，m为0、1或2，k为整数：0≦k≦5+4m，R101、R102和R103是一价碳氢基团，或者R101、R102和R103中至少两个可以相互结合形成与硫原子的环，L是单键、酯、磺酸酯、碳酸酯或氨基甲酸酯键。包含磺鎓盐作为PAG的抗蚀组成物在经过电子束或极紫外光刻过程时表现出非常高的分辨率。可获得具有最小LER的图案。
• SULFONIUM SALT, POLYMER, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION USING SAID POLYMER, AND RESIST PATTERNING PROCESS
  申请人：DOMON Daisuke

  公开号：US20120308920A1

  公开（公告）日：2012-12-06

  There is disclosed a sulfonium salt shown by the following general formula (1). There can be a sulfonium salt capable of introducing an acid-generating unit generating an acid having an appropriate acid strength and not impairing adhesion with a substrate into a base polymer; a polymer using the said sulfonium salt; a chemically amplified resist composition using the said polymer as a base polymer; and a patterning process using the said chemically amplified resist composition.

  公开了一种由以下一般式（1）所示的硫銨鹽。可以有一种硫銨鹽，能夠將一個能夠生成具有適當酸度並不損害與基材的粘附性的酸的酸生成單元引入到基聚合物中；使用所述硫銨鹽的聚合物；使用所述聚合物作為基聚合物的化學放大的抗蝕組成物；以及使用所述化學放大的抗蝕組成物的圖案形成過程。