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3-isobutyl-5-methylhexanoic acid | 1256343-75-5

中文名称
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中文别名
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英文名称
3-isobutyl-5-methylhexanoic acid
英文别名
5-Methyl-3-(2-methylpropyl)hexanoic acid
3-isobutyl-5-methylhexanoic acid化学式
CAS
1256343-75-5
化学式
C11H22O2
mdl
——
分子量
186.294
InChiKey
ILLDNZWRBFEKCW-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.7
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    6
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.91
  • 拓扑面积:
    37.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

反应信息

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文献信息

  • Film-forming compositions comprising polyglutarimide
    申请人:International Business Machines Corporation
    公开号:EP0219626A2
    公开(公告)日:1987-04-29
    This invention relates to a composition of matter useful for applying polyglutarimide-comprised films to a sur­face, and to a method of determining what the composi­tion of matter should be to obtain a particular applied dry film thickness, wherein the dry film has a uniform thickness profile. In particular, the present invention enables the spin-casting of films comprised of poly­glutarimide to film thicknesses greater than 1 micro­meter. Films of thicknesses greater than 1 micrometer have particular use in the microelectronics industry, for applications such as planarizing underlayers, metal lift off layers, and as part of multilayer resist structures where it is desired to obtain a high aspect ratio for the resist structure.
    本发明涉及一种用于在表面上涂敷由聚戊二酰亚胺组成的薄膜的物质成分,以及一种确定物质成分的方法,以获得特定的涂敷干膜厚度,其中干膜具有均匀的厚度轮廓。特别是,本发明可使聚丁二烯酰胺薄膜的厚度大于 1 微米。厚度大于 1 微米的薄膜在微电子工业中具有特殊用途,如平面化底层、属掀起层,以及作为多层抗蚀剂结构的一部分,在这些应用中,需要获得抗蚀剂结构的高纵横比。
  • Geruchsreduzierende Stoffe
    申请人:Symrise AG
    公开号:EP2133102B1
    公开(公告)日:2014-12-03
  • CLEANSER COMPOSITION
    申请人:Lion Corporation
    公开号:EP3009497B1
    公开(公告)日:2018-11-21
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