荧蒽-1-基甲醇 | 133550-91-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 萘
• 中文名称: 荧蒽-1-基甲醇
• 英文名称: 1-hydroxymethylfluoranthene
• 英文别名: fluoranthen-1-ylmethanol
• CAS: 133550-91-1
• 化学式: C₁₇H₁₂O
• 分子量: 232.282
• InChiKey: LYNLFKVZHLIKRI-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.6
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  4.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.06
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  荧蒽-1-基甲醇 在 氯化亚砜 作用下， 以 PhCH3 为溶剂， 生成 1-(氯甲基)荧蒽
  参考文献：
  名称：

  Carbocyclic derivatives

  摘要：

  本发明涉及式(I)的化合物ArCH₂R¹(I)或其单甲基或单乙基醚(式(I)的化合物包括这些醚，总共含有不超过30个碳原子);醚、酯、其酸加成盐;其中Ar是含有3或4个芳香环的C₁₅-₁₈稠合四碳环系统或含有4或5个芳香环的C₁₇-₂₂稠合五碳环系统，或其取代衍生物;环系统Ar应为平面或仅略偏离平面。因此，环系统最多包含两个非芳香碳原子，它们可以在同一环中，在这种情况下它们是相邻的，或者在不同的环中;Ar不是芘、荧蒽、晕苯、芘或三亚苯;R¹包含不超过八个碳原子，并且是基团##STR1##其中m为0或1;R⁵是氢;R⁶和R⁷相同或不同，每个是氢或C₁-₅烷基，可选择性地被羟基取代;R⁸和R⁹相同或不同，每个是氢或C₁-₃烷基;##STR2##是一个五元或六元饱和羧酸环;R¹⁰是氢、甲基或羟甲基;R¹¹、R¹²和R¹³相同或不同，每个是氢或甲基;R¹⁴是氢、甲基、羟基或羟甲基。

  公开号：

  US05241107A1
• 作为产物：
  描述：

  methyl 1-fluoranthenecarboxylate 、 锂硼氢 、 四氢呋喃 、 盐酸 在 氮气 、 水 、 dichloromethane hexane 作用下， 以 水 为溶剂， 反应 16.0h， 以54.75 g (86%) of 1-hydroxymethylfluoranthene was obtained的产率得到荧蒽-1-基甲醇
  参考文献：
  名称：

  Carbocyclic derivatives

  摘要：

  本发明涉及公式（I）ArCH.sub.2 R.sup.1（I）的化合物或其单甲基或单乙基醚（包括这些醚的公式（I）化合物总共不超过30个碳原子）；它们的醚，酯；酸加成盐；其中Ar是一个C.sub.15-18融合四环芳烃环系统，包含3或4个芳香环或C.sub.17-22融合五环芳烃环系统，包含4或5个芳香环，或其取代衍生物；环系统Ar应该是平面的或者仅稍微偏离平面。因此，环系统包含最多两个非芳香碳原子，它们可以在同一个环中，此时它们是相邻的，或者在不同的环中；Ar不是苝、芴、蒽、芘或三苯基；R.sup.1含有不超过八个碳原子，是一个##STR1##基团，其中m为0或1；R.sup.5是氢；R.sup.6和R.sup.7相同或不同，每个都是氢或C.sub.1-5烷基，可选地被羟基取代；R.sup.8和R.sup.9相同或不同，每个都是氢或C.sub.1-3烷基；##STR2##是一个五元或六元饱和羧酸环；R.sup.10是氢、甲基或羟甲基；R.sup.11、R.sup.12和R.sup.13相同或不同，每个都是氢或甲基；R.sup.14是氢、甲基、羟基或羟甲基。

  公开号：

  US05241107A1

文献信息

• ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION AND PROCESS THEREOF
  申请人：Rahman M. Dalil

  公开号：US20120251943A1

  公开（公告）日：2012-10-04

  The invention relates to an antireflective coating composition comprising a crosslinker and a crosslinkable polymer capable of being crosslinked by the crosslinker, where the crosslinkable polymer comprises a unit represented by structure (1): A-B—C  (1) where A is a fused aromatic ring, B has a structure (2), and C is a hydroxybiphenyl of structure (3) where R 1 is C 1 -C 4 alkyl and R 2 is C 1 -C 4 alkyl. The invention further relates to a process for forming an image using the composition.

  本发明涉及一种防反射涂层组合物，包括交联剂和可由交联剂交联的交联性聚合物，其中所述交联性聚合物包括由结构式（1）表示的单元：A-B—C  （1）其中，A是融合芳香环，B具有结构式（2），C是结构式（3）的羟基联苯，其中R1为C1-C4烷基，R2为C1-C4烷基。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。
• PROCESS OF COATING A HARD MASK COMPOSITION FOR PATTERN TRANSFER INTO A SILICON SUBSTRATE
  申请人：Merck Patent GmbH

  公开号：EP3686672A1

  公开（公告）日：2020-07-29

  The present invention relates to a process of coating a hard mask composition on a silicon substrate comprising: a4) applying a composition comprised of metal oxide nanoparticles dispersed in an organic solvent onto a substrate to form a hard mask film, b4) baking the hard mask film, c4) coating a bottom antireflective coating on top of the hard mask film, d4) coating a photoresist on top of said antireflective coating, e4) patterning the resist forming a resist pattern, f4) etching through the bottom antireflective coating not protected by the resist pattern down to the hard mask coating with a fluorinated plasma, g4) etching through the hard mask layer not protected by the bottom antireflective coating and photoresist down to the silicon substrate with a chlorine plasma producing a patterned hard mask film, and h4) etching with a fluorinated plasma into the silicon substrate in those area not protected by the patterned hard mask film producing topographical features into the silicon features.

  本发明涉及一种在硅衬底上涂覆硬掩膜组合物的工艺，包括 a4) 将分散在有机溶剂中的金属氧化物纳米颗粒组成的组合物涂在基底上，形成硬掩膜、 b4) 烘烤硬掩膜、 c4) 在硬掩膜上涂覆底部抗反射涂层、 d4) 在所述抗反射涂层上涂覆光刻胶、 e4) 将光刻胶图案化，形成光刻胶图案、 f4) 使用含氟等离子体蚀刻未受抗蚀剂图案保护的底部防反射涂层，直至硬掩膜、 g4) 用氯等离子体蚀刻未受底部抗蚀层和光刻胶保护的硬掩膜层，直至硅衬底，形成图案化的硬掩膜，以及 h4) 用含氟等离子体蚀刻硅衬底上未受图案化硬掩膜保护的区域，在硅特征上产生地形特征。
• COMPOSITION OF SPIN-ON MATERIALS CONTAINING METAL OXIDE NANOPARTICLES AND AN ORGANIC POLYMER
  申请人：Merck Patent GmbH

  公开号：EP3559746B1

  公开（公告）日：2021-03-31
• US5241107A
  申请人：——

  公开号：US5241107A

  公开（公告）日：1993-08-31
• US8906590B2
  申请人：——

  公开号：US8906590B2

  公开（公告）日：2014-12-09