4-戊烯酸,5-(4-甲基-1H-咪唑-5-基)- | 97721-72-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 4-戊烯酸,5-(4-甲基-1H-咪唑-5-基)-
• 中文别名: 2-氯乙基2-甲基苯磺酸
• 英文名称: 2-Chloroethyl 2-methylbenzenesulphonate
• 英文别名: 2-chloroethyl 2-methylbenzenesulfonate
• CAS: 97721-72-7
• 化学式: C₉H₁₁ClO₃S
• 分子量: 234.7
• InChiKey: HMIYUOHGRSXXEB-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.2
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  51.8
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

安全信息

• 海关编码：
  2905590090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-溴咔唑 、 4-戊烯酸,5-(4-甲基-1H-咪唑-5-基)- 、 sodium hydroxide 、 3-Bromo-9-(2-chloroethyl)-carbazole 、 氢氧化钾 、 在 two 、 水 、 氯化钠 、 Sodium sulfate-III 、 3-Bromo-9-(2-chloroethyl)-carbazole 、 异丙醇 、 甲醇 作用下， 以 丙酮 、 水 、 乙醚 、 四氢呋喃 、 乙醇 为溶剂， 反应 28.0h， 以was formed in >95 percent yield的产率得到3-溴-9-乙烯基-9H-咔唑
  参考文献：
  名称：

  Solid state devices produced by organometallic plasma developed resists

  摘要：

  固态器件是通过干法蚀刻抗蚀膜来制造负性抗蚀图案的。该膜包括通常含有卤素的聚合物，以及至少一种含硅或不含硅的有机金属单体。辐射，通常是X射线辐射，将单体或单体锁定到聚合物中，随后的固定步骤将未锁定的单体或单体从抗蚀剂未辐射部分中去除。然后将膜暴露于包含氧气的等离子体中，后者以比辐射部分更快的速度去除未辐射部分，从而产生负性抗蚀图案。等离子体开发通常通过反应性离子刻蚀实现。可以使用增敏剂来扩展膜的波长响应，通常扩展到紫外或可见区域。

  公开号：

  US04396704A1

文献信息

• Process of making solid state devices using silicon containing
  申请人：AT&T Bell Laboratories

  公开号：US04500628A1

  公开（公告）日：1985-02-19

  Solid state devices are produced by dry etching of a resist film to produce a negative resist pattern. The film comprises a polymer typically containing a halogen, and at least one type of silicon-containing or nonsilicon-containing organometallic monomer. The radiation, typically X-ray radiation, locks the monomer or monomers into the polymer, with a subsequent fixing step removing the unlocked monomer or monomers in the unirradiated portion of the resist. The film is then exposed to a plasma comprising oxygen, which removes the unirradiated portion at a faster rate than the radiated portion, producing a negative resist pattern. The plasma development is typically accomplished by reactive ion etching. Sensitizers can be used to extend the wavelength response of the films, typically into the ultraviolet or visible regions.

  固态器件是通过干法蚀刻抗蚀膜以产生负抗蚀图案来制造的。该膜包括一种聚合物，通常含有卤素，以及至少一种含硅或不含硅的有机金属单体。辐射，通常是X射线辐射，将单体或单体锁定到聚合物中，随后通过固定步骤除去未锁定的单体或单体在抗蚀剂未照射部分中。然后将膜暴露于包含氧气的等离子体中，该等离子体以比辐射部分更快的速度去除未辐射的部分，从而产生负抗蚀图案。等离子体开发通常通过反应离子刻蚀完成。可以使用增敏剂将膜的波长响应扩展到紫外线或可见光区域。
• PROCESS FOR PREPARATION OF TETRASUBSTITUTED 5-AZASPIRO[2.4]- HEPTANE DERIVATIVES AND OPTICALLY ACTIVE INTERMEDIATES THEREOF
  申请人：Takahashi Hisashi

  公开号：US20090270637A1

  公开（公告）日：2009-10-29

  The present invention provides a method for effectively producing an optically active form of tetrasubstituted-5-azaspiro[2.4]heptane derivative, which serves as a useful production intermediate for quinolonecarboxylic acid antibacterial agents, and intermediates for the derivative. The present invention is directed to a method for producing a compound (VII) according to the following scheme.

  本发明提供了一种有效生产四取代-5-氮杂螺[2.4]庚烷衍生物的光学活性形式的方法，该方法作为喹诺酸类抗菌剂的有用生产中间体以及该衍生物的中间体。本发明是针对按照以下方案生产化合物（VII）的方法。
• Verfahren zur Herstellung von C.I. Vat Blue 16
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0259849A2

  公开（公告）日：1988-03-16

  Der Farbstoff wird durch Alkylierung von 16,17-Dihydroxiviolanthren­dion-5,10 in tertiären aliphatischen oder cycloaliphatischen Aminen als Lösungsmittel bei 100 bis 230°C erhalten. Der Farbstoff fällt in hoher Ausbeute und hoher Reinheit an.

  这种染料是以 16,17-二羟基二醇蒽二酮-5,10 为原料，在 100 至 230°C 的温度下，以叔脂族或环脂族胺为溶剂进行烷基化反应而得到的。
• Anti-arrhythmic agents
  申请人：Pfizer Limited

  公开号：EP0284384A1

  公开（公告）日：1988-09-28

  An antiarrhythmic agent of the formula or a pharmaceutically acceptable salt thereof; wherein R1 is H, C1-C4 alkyl or Ci-C4 alkoxy; X is O, or a direct link; and R2 and R3, which are the same or different, are each C1-C4 alkyl, with the proviso that when X is and R3 are the same.

  式中的抗心律失常剂 或其药学上可接受的盐；其中 R1 是 H、C1-C4 烷基或 Ci-C4 烷氧基； X 是 O 或直接连接；以及 R2和R3（相同或不同）各自为C1-C4烷基，但当X是 和 R3 相同时。
• US4824608A
  申请人：——

  公开号：US4824608A

  公开（公告）日：1989-04-25