[EN] PHOTOSENSITIVE COMPOUND, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND DEVICE PRODUCTION PROCESS<br/>[FR] COMPOSÉ PHOTOSENSIBLE, COMPOSITION PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ASSOCIÉ
申请人:CANON KK
公开号:WO2008111378A1
公开(公告)日:2008-09-18
[EN] A photosensitive compound has two or more structural units, in a molecule, represented by the following general formula (1) : wherein R1 to R8 are selected from the group consisting of hydrogen atom, halogen atom, alkyl group, alkoxy group, acetoxy group, phenyl group, naphthyl group, and alkyl group in which a part or all of hydrogen atoms are optionally substituted with fluorine atom; R9 is hydrogen atom or hydroxyl group; X is a substituted or unsubstituted phenylene group or a substituted or unsubstituted naphthylene group; and Y is oxygen atom or a single bond.
[FR] L'invention concerne un composé photosensible comportant deux ou plusieurs unités structurelles, dans une molécule, représenté par la formule générale suivante (1): dans laquelle R1 à R8 sont sélectionnés dans le groupe constitué d'un atome d'hydrogène, d'un atome d'halogène, d'un groupe alkyle, d'un groupe alcoxy, d'un groupe acétoxy, d'un groupe phényle, d'un groupe naphthyle, et d'un groupe alkyle dans lequel une partie ou tous les atomes d'hydrogène sont éventuellement substitués par un atome de fluor; R9 représente un atome d'hydrogène ou un groupe hydroxyle; X représente un groupe phénylène substitué ou non substitué ou un groupe naphthylène substitué ou non substitué; et Y représente un atome d'oxygène ou une liaison unique.