propan-2-yl-[(propan-2-ylamino)methylidene]azanium;acetate | 845528-07-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羧酸及其衍生物
• 英文名称: propan-2-yl-[(propan-2-ylamino)methylidene]azanium;acetate
• CAS: 845528-07-6
• 化学式: C₂H₄O₂*C₇H₁₆N₂
• 分子量: 188.27
• InChiKey: UGVZGRJAVZDHOO-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.51
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.78
• 拓扑面积：
  61.7
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  propan-2-yl-[(propan-2-ylamino)methylidene]azanium;acetate 在 sodium hydroxide 作用下， 以 乙醚 、 水 为溶剂， 反应 2.0h， 以82%的产率得到N,N'-Diisopropylformamidin
  参考文献：
  名称：

  铑（i）和铱（i）的N-烷基官能化的扩展环N-杂环卡宾配合物：结构研究和初步催化评估†

  摘要：

  一系列新的N烷基官能化的6和7元膨胀环N-杂环卡宾（NHC）前配体3-6及其相应的铑（I）和铱（I）配合物，[M（NHC）（描述了[COD）Cl] 7-14和[M（NHC）（CO）2 Cl] 15-22。通过1 H和13 C { 1 H} NMR，质谱，IR和X射线衍射对络合物进行了表征。从X射线衍射研究中可以看出，N由于不利的空间相互作用，发现-烷基取代基使它们自身远离金属中心取向，从而导致固态下的掩埋体积百分数（％V bur）值低。还发现杂环的大小决定了新戊基官能化衍生物10和14中N-烷基取代基的空间取向。7元衍生物14允许杂环具有N-烷基取代基的构象“扭曲”，N-烷基取代基相对于彼此采用相互反式构型，而更刚性的6元系统10不允许这种构象的“扭曲”，因此N-烷基取代基采用相互顺式构型。通过测量[M（NHC）（CO）2 Cl]配合物15-22的红外拉伸频率，也可以探索这种新型的扩展环N

  DOI：

  10.1039/c2dt32823b
• 作为产物：
  描述：

  溶剂黄146 、 异丙胺 、 原甲酸三乙酯 反应 17.0h， 生成 propan-2-yl-[(propan-2-ylamino)methylidene]azanium;acetate
  参考文献：
  名称：

  铑（i）和铱（i）的N-烷基官能化的扩展环N-杂环卡宾配合物：结构研究和初步催化评估†

  摘要：

  一系列新的N烷基官能化的6和7元膨胀环N-杂环卡宾（NHC）前配体3-6及其相应的铑（I）和铱（I）配合物，[M（NHC）（描述了[COD）Cl] 7-14和[M（NHC）（CO）2 Cl] 15-22。通过1 H和13 C { 1 H} NMR，质谱，IR和X射线衍射对络合物进行了表征。从X射线衍射研究中可以看出，N由于不利的空间相互作用，发现-烷基取代基使它们自身远离金属中心取向，从而导致固态下的掩埋体积百分数（％V bur）值低。还发现杂环的大小决定了新戊基官能化衍生物10和14中N-烷基取代基的空间取向。7元衍生物14允许杂环具有N-烷基取代基的构象“扭曲”，N-烷基取代基相对于彼此采用相互反式构型，而更刚性的6元系统10不允许这种构象的“扭曲”，因此N-烷基取代基采用相互顺式构型。通过测量[M（NHC）（CO）2 Cl]配合物15-22的红外拉伸频率，也可以探索这种新型的扩展环N

  DOI：

  10.1039/c2dt32823b

文献信息

• Class of volatile compounds for the deposition of thin films of metals and metal compounds
  申请人：Denk K. Michael

  公开号：US20050042372A1

  公开（公告）日：2005-02-24

  The invention provides an organometallic complex, containing oxygen free organic ligands, for the deposition of a metal, preferably copper, silver or gold, and preferably by way of chemical vapor deposition. The organometallic complex having the formula [(D o ) n ML x ] k where M is a metal preferably selected from the group consisting of Cu, Ag and Au; D o is selected from the group comprising ethers, phosphines, olefins, sulfides, pyridines, carbonyl, hydroxyl, cyclopentadiene, benzene derivatives, allyls, alkyls, amines, polyamines, aniline derivatives, cyclooctadiene and combinations thereof; n is an integer having a value from 0 to 4; k is an integer having a value from 1 to 4; x is an integer having a value from 1 to 4; and L is an amidinate ligand of the formula R 1 —N C(R 2 ) N—R 3 where R 1 , R 2 and R 3 are selected from the group consisting of alkyls, allyls, aryls, heteroaryls, hydrogen, non-metals and metalloids; and where R 1 , R 2 and R 3 are different or the same.

  本发明提供了一种含有无氧有机配体的有机金属络合物，用于沉积金属，最好是铜、银或金，最好采用化学气相沉积法。有机金属络合物的化学式为 [(D o ) n ML x ] k 其中 M 是一种金属，最好选自 Cu、Ag 和 Au 组成的组； D o 选自由醚、膦、烯烃、硫化物、吡啶、羰基、羟基、环戊二烯、苯衍生物、烯丙基、 烷基、胺、多胺、苯胺衍生物、环辛二烯及其组合组成的组；n 是数值为 0 至 4 的整数；k 是数值为 1 至 4 的整数；x 是数值为 1 至 4 的整数；以及 L 是式中的脒基配体。 R 1 -N C(R 2 ) N-R 3 其中 R 1 , R 2 和 R 3 选自由烷基、烯丙基、芳基、杂芳基、氢、非金属和金属组成的组；且其中 R 1 , R 2 和 R 3 不同或相同。
• US7396949B2
  申请人：——

  公开号：US7396949B2

  公开（公告）日：2008-07-08