octa-3,5-dienoic acid | 41792-17-0

• 分子结构分类: 有机化合物 - 脂质和类脂质分子 - 脂肪酰基
• 英文名称: octa-3,5-dienoic acid
• 英文别名: Octa-3,5-diensaeure；(3E,5E)-octa-3,5-dienoic acid
• CAS: 41792-17-0
• 化学式: C₈H₁₂O₂
• 分子量: 140.182
• InChiKey: ZCGGGDCIZYIZCM-VNKDHWASSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  10
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.38
• 拓扑面积：
  37.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  四氯化碳 、 octa-3,5-dienoic acid 生成 alkaline earth salt of/the/ methylsulfuric acid
  参考文献：
  名称：

  Kuhn; Hoffer, Chemische Berichte, 1932, vol. 65, p. 172,174

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  octa-2,4,6-trienoic acid 在 sodium amalgam 、 水 作用下， 生成 octa-3,5-dienoic acid
  参考文献：
  名称：

  Kuhn; Loew, Hoppe-Seyler's Zeitschrift fur Physiologische Chemie, 1939, vol. 259, p. 186

  摘要：

  DOI：

文献信息

• PLESSIS L. M. DU; FRASMUS J. A. D., S. AFR. J. CHEM. 1978, 31, NO 2, 75-76
  作者：PLESSIS L. M. DU、 FRASMUS J. A. D.

  DOI：——

  日期：——
• Neue Acyloxyalkadiencarbonsäureester und Verfahren zu ihrer Herstellung
  申请人：BASF Aktiengesellschaft

  公开号：EP0075234B1

  公开（公告）日：1984-09-12
• EP3766914A1
  申请人：——

  公开号：EP3766914A1

  公开（公告）日：2021-01-20
• A COATING COMPOSITION
  申请人：PPG Europe B.V.

  公开号：EP3999572A1

  公开（公告）日：2022-05-25
• CLEANING COMPOSITIONS AND METHODS OF USE THEREOF
  申请人：Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc.

  公开号：US20210292685A1

  公开（公告）日：2021-09-23

  The present disclosure relates to cleaning compositions that can be used to clean semiconductor substrates. These cleaning compositions can be used to remove defects arising from previous processing steps on these semiconductor substrates. These cleaning compositions can remove the defects/contaminants from the semiconductor substrates and thereby make the substrates appropriate for further processing. The cleaning compositions described herein primarily contain at least one organic acid and at least one anionic polymer.