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2-(trimethylsilylmethyl)acryloyl chloride | 80421-81-4

中文名称
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中文别名
——
英文名称
2-(trimethylsilylmethyl)acryloyl chloride
英文别名
2-(trimethylsilylmethyl)prop-2-enoyl chloride
2-(trimethylsilylmethyl)acryloyl chloride化学式
CAS
80421-81-4
化学式
C7H13ClOSi
mdl
——
分子量
176.718
InChiKey
VVKFWTMMUROBPW-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    192.0±23.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.964±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.65
  • 重原子数:
    10
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.57
  • 拓扑面积:
    17.1
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    1

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2-(trimethylsilylmethyl)acryloyl chloridelithium tert-butoxide 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 1.0h, 以77%的产率得到t-butyl 2-(trimethylsilylmethyl)acrylate
    参考文献:
    名称:
    2-Alkoxycarbonylallyltrimethylsilanes as new reagents of 2-alkoxycarbonylallylation of electrophiles
    摘要:
    DOI:
    10.1016/s0040-4039(00)77748-3
  • 作为产物:
    描述:
    2-(trimethylsilylmethyl)acrylic acid磺酰氯 作用下, 反应 4.0h, 以79%的产率得到2-(trimethylsilylmethyl)acryloyl chloride
    参考文献:
    名称:
    2-Alkoxycarbonylallyltrimethylsilanes as new reagents of 2-alkoxycarbonylallylation of electrophiles
    摘要:
    DOI:
    10.1016/s0040-4039(00)77748-3
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文献信息

  • Polymerizable silicon-containing compound, manufacturing method, polymer, resist composition and patterning process
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US07192684B2
    公开(公告)日:2007-03-20
    Polymerizable silicon-containing compounds of formula (1) wherein R1 is hydrogen, halogen or monovalent organic group are polymerized into polymers. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation, has excellent sensitivity and resolution at a wavelength of less than 300 nm, and high resistance to oxygen plasma etching, and thus lends itself to micropatterning for the fabrication of VLSIs
    具有以下化学式(1)的可聚合硅含有化合物,在其中R1是氢、卤素或一价有机基团,可聚合成聚合物。以该聚合物为基础树脂的抗蚀组合物对高能辐射敏感,在波长小于300纳米时具有优异的敏感性和分辨率,并具有高抗氧等离子体刻蚀性能,因此适用于微细图案化制造VLSI。
  • HOSOMI AKIRA; HASHIMOTO HIDEHIKO; SAKURAI HIDEKI, TETRAHEDRON LETT., 1980, 21, NO 10, 951-954
    作者:HOSOMI AKIRA、 HASHIMOTO HIDEHIKO、 SAKURAI HIDEKI
    DOI:——
    日期:——
  • 2-Alkoxycarbonylallyltrimethylsilanes as new reagents of 2-alkoxycarbonylallylation of electrophiles
    作者:Akira Hosomi、Hidehiko Hashimoto、Hideki Sakurai
    DOI:10.1016/s0040-4039(00)77748-3
    日期:1980.1
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