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1-(3-Methoxy-4-trimethylsilyloxyphenyl)-3-trimethylsilyloxypropan-2-one | 132114-81-9

中文名称
——
中文别名
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英文名称
1-(3-Methoxy-4-trimethylsilyloxyphenyl)-3-trimethylsilyloxypropan-2-one
英文别名
——
1-(3-Methoxy-4-trimethylsilyloxyphenyl)-3-trimethylsilyloxypropan-2-one化学式
CAS
132114-81-9
化学式
C16H28O4Si2
mdl
——
分子量
340.567
InChiKey
CHVQRCFGKDRTOS-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.87
  • 重原子数:
    22
  • 可旋转键数:
    8
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.56
  • 拓扑面积:
    44.8
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    4

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    参考文献:
    名称:
    4-取代的2-甲氧基三甲基甲硅烷氧基苯的29Si和13C NMR谱。决定木质素成分模型中化学位移的因素
    摘要:
    报告了一系列 20 个 4-取代的 2-甲氧基三甲基-甲硅烷氧基苯的 29Si 和 13C NMR 化学位移;这组取代基包含一组基本的十个取代基,它们的相对极性和共振效应不同,以及十个模拟木质素中遇到的取代基的其他取代基。影响化学位移的因素通过与类似系列化合物的 NMR 数据进行比较、与取代基参数的相关性和通过量子化学方法计算的电子电荷(力场优化分子几何的 MNDO 计算)为基本集合进行讨论. 得出的结论是,在三甲基甲硅烷氧基的邻位上的甲氧基在其大部分时间里,甲基位于苯环平面内的构象,与呈垂直构象的三甲基甲硅烷氧基相反。在甲氧基和三甲基甲硅烷氧基上观察到的邻近去屏蔽效应受 4 位取代基的影响,这与这些效应是由于邻位氧原子或其未共享电子的相互作用的观点一致。29Si 化学位移对σpis 的依赖性基本上不受邻甲氧基存在的影响。这与这些效应是由于邻位氧原子或其未共享电子的相互作用的观点一致。29Si
    DOI:
    10.1002/mrc.1260281112
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文献信息

  • 29Si and13C NMR spectra of 4-substituted 2-methoxytrimethylsiloxybenzenes. Factors determining the chemical shifts in models of lignin constituents
    作者:Jan Schraml、Magdalena Kvíčalová、Václav Chvalovský、Thomas Elder、Robert Brežný
    DOI:10.1002/mrc.1260281112
    日期:1990.11
    29Si and 13C NMR chemical shifts are reported for a series of twenty 4‐substituted 2‐methoxytrimethyl‐siloxybenzenes; the set of substituents incorporates a basic set of ten substituents differing in their relative polar and resonance effects and ten other substituents which model substituents encountered in lignins. The factors affecting the chemical shifts are discussed using a comparison with the
    报告了一系列 20 个 4-取代的 2-甲氧基三甲基-甲硅烷氧基苯的 29Si 和 13C NMR 化学位移;这组取代基包含一组基本的十个取代基,它们的相对极性和共振效应不同,以及十个模拟木质素中遇到的取代基的其他取代基。影响化学位移的因素通过与类似系列化合物的 NMR 数据进行比较、与取代基参数的相关性和通过量子化学方法计算的电子电荷(力场优化分子几何的 MNDO 计算)为基本集合进行讨论. 得出的结论是,在三甲基甲硅烷氧基的邻位上的甲氧基在其大部分时间里,甲基位于苯环平面内的构象,与呈垂直构象的三甲基甲硅烷氧基相反。在甲氧基和三甲基甲硅烷氧基上观察到的邻近去屏蔽效应受 4 位取代基的影响,这与这些效应是由于邻位氧原子或其未共享电子的相互作用的观点一致。29Si 化学位移对σpis 的依赖性基本上不受邻甲氧基存在的影响。这与这些效应是由于邻位氧原子或其未共享电子的相互作用的观点一致。29Si
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