tert-butyl thiosalicylate | 96630-12-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tert-butyl thiosalicylate
• 英文别名: tert-butyl 2-mercaptobenzoate；tert-butyl 2-sulfanylbenzoate
• CAS: 96630-12-5
• 化学式: C₁₁H₁₄O₂S
• 分子量: 210.297
• InChiKey: JCJCAEFVDYJKKI-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  296.4±23.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.109±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.7
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  27.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tert-butyl thiosalicylate 、 溴乙酸叔丁酯 在 potassium carbonate 作用下， 以 丁酮 为溶剂， 反应 4.0h， 以68%的产率得到tert-butyl 2-(2-tert-butoxy-2-oxoethylthio)benzoate
  参考文献：
  名称：

  通过有机催化的迈克尔-酮型β-酮酸酯的双对膦酸酯的高对映选择性方法。

  摘要：

  已经开发了一种有价值的有机催化方案，用于一类重要药物双膦酸酯衍生物的不对称合成。廉价且可商购的二氢奎宁可有效催化环状β-酮酸酯与亚乙基双膦酸酯的共轭加成反应，从而形成光学活性双膦双膦酸酯，具有全碳取代的季立体中心，且收率高，对映选择性高达ee的99％。还成功地完成了迈克尔加合物对相应的双膦酸或乙烯基膦酸酯的进一步精制，同时保持了光学纯度。

  DOI：

  10.1002/chem.200701317
• 作为产物：
  描述：

  2-巯基苯甲酰氯 、 potassium tert-butylate 在 4-二甲氨基吡啶 作用下， 以 叔丁醇 为溶剂， 反应 24.0h， 生成 tert-butyl thiosalicylate
  参考文献：
  名称：

  通过有机催化的迈克尔-酮型β-酮酸酯的双对膦酸酯的高对映选择性方法。

  摘要：

  已经开发了一种有价值的有机催化方案，用于一类重要药物双膦酸酯衍生物的不对称合成。廉价且可商购的二氢奎宁可有效催化环状β-酮酸酯与亚乙基双膦酸酯的共轭加成反应，从而形成光学活性双膦双膦酸酯，具有全碳取代的季立体中心，且收率高，对映选择性高达ee的99％。还成功地完成了迈克尔加合物对相应的双膦酸或乙烯基膦酸酯的进一步精制，同时保持了光学纯度。

  DOI：

  10.1002/chem.200701317

文献信息

• CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOSENSITIVE DRY FILM, METHOD OF MANUFACTURING PATTERNED RESIST FILM, METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH TEMPLATE, METHOD OF MANUFACTURING PLATED ARTICLE, AND MERCAPTO COMPOUND
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US20190121233A1

  公开（公告）日：2019-04-25

  A chemically amplified positive-type photosensitive resin composition capable of suppressing the occurrence of “footing” in which the width of the bottom (the side proximal to the surface of a support) becomes narrower than that of the top (the side proximal to the surface of a resist layer) in the nonresist portion; and the generation of development residue when a resist pattern serving as a template for a plated article is formed on a metal surface of a substrate using the photosensitive resin composition. A mercapto compound having a specific structure is included in the photosensitive resin composition, and includes an acid generator which generates acid upon exposure to an irradiated active ray or radiation, and a resin whose solubility in alkali increases under the action of acid.

  一种化学增感型正型光敏树脂组合物，能够抑制“足部”现象的发生，即底部（靠近支撑表面的一侧）的宽度变窄，小于顶部（靠近抗蚀层表面的一侧）的宽度，同时在使用该光敏树脂组合物在基板的金属表面上形成用作电镀物品模板的抗蚀图案时，能够减少残留物的产生。该光敏树脂组合物中包含一种具有特定结构的巯基化合物，其中包括一个酸发生剂，该酸发生剂在暴露于辐射活性光线或辐射时产生酸，以及一种树脂，在酸的作用下其在碱性溶液中的溶解度增加。
• 3-substituted-aminomethyl cephalosporin derivatives
  申请人：ICI Pharma

  公开号：US04678781A1

  公开（公告）日：1987-07-07

  A cephalosporin derivative of the formula I: ##STR1## in which X is S, O, CH.sub.2 or SO, R1 is (optionally-substituted)imidazol-2-yl or one of the C-7 acyl groups known in the cephalosporin art, R2 is hydrogen or methoxy, R3 is carboxy or a biodegradable ester thereof and --R4 is of the formula XII, XIII or XIV: ##STR2## in which R32-R40 inclusive are as defined in the specification; and the salts thereof. Pharmaceutical compositions, methods of manufacture and intermediates are also described.

  公式I中的头孢菌素衍生物：##STR1## 其中X为S、O、CH.sub.2或SO，R1为（可选择性取代的）咪唑-2-基或头孢菌素艺术中已知的C-7酰基之一，R2为氢或甲氧基，R3为羧基或其生物降解酯，--R4为公式XII、XIII或XIV：##STR2## 其中R32-R40包括如规范中所定义的；以及其盐。还描述了制药组合物、制造方法和中间体。
• Cephalosporin derivatives
  申请人：Ici Pharma

  公开号：US04855420A1

  公开（公告）日：1989-08-08

  A cephalosporin derivative of the formula I: ##STR1## in which X is S, O, CH.sub.2 or SO, R1 is (optionally-substituted) imidazol-2-yl or one of the C-7 acyl groups known in the cephalosporin art, R2 is hydrogen or methoxy, R3 is carboxy or a biodegradable ester thereof and -R4 is of the formula XII, XIII or XIV: ##STR2## in which R32-R40 inclusive are as defined in the specification; and the salts thereof. Pharmaceutical compositions, methods of manufacture and intermediates are also described.

  一种头孢菌素衍生物，化学式为I：##STR1## 其中X为S，O，CH.sub.2或SO，R1为（可选取代的）咪唑-2-基或头孢菌素艺术中已知的C-7酰基之一，R2为氢或甲氧基，R3为羧基或其生物可降解的酯，-R4为化学式XII，XIII或XIV：##STR2## 在其中R32-R40包括如规范中定义的；以及其盐。还描述了制药组合物、制造方法和中间体。
• Chemically amplified positive-type photosensitive resin composition, photosensitive dry film, method of manufacturing photosensitive dry film, method of manufacturing patterned resist film, method of manufacturing substrate with template, method of manufacturing plated article, and mercapto compound
  申请人：TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.

  公开号：US11022880B2

  公开（公告）日：2021-06-01

  A chemically amplified positive-type photosensitive resin composition capable of suppressing the occurrence of “footing” in which the width of the bottom (the side proximal to the surface of a support) becomes narrower than that of the top (the side proximal to the surface of a resist layer) in the nonresist portion; and the generation of development residue when a resist pattern serving as a template for a plated article is formed on a metal surface of a substrate using the photosensitive resin composition. A mercapto compound having a specific structure is included in the photosensitive resin composition, and includes an acid generator which generates acid upon exposure to an irradiated active ray or radiation, and a resin whose solubility in alkali increases under the action of acid.

  一种化学放大正型感光树脂组合物，能够抑制非抗蚀部分出现底部（靠近支撑物表面的一面）宽度比顶部（靠近抗蚀层表面的一面）宽度窄的 "起脚 "现象；以及当使用该感光树脂组合物在基底的金属表面上形成作为电镀物品模板的抗蚀图案时产生显影残留物。感光树脂组合物中含有一种具有特定结构的巯基化合物，它包括一种在受到照射的活性射线或辐射时产生酸的酸发生器，以及一种在酸的作用下其碱溶解度增加的树脂。
• US4678781A
  申请人：——

  公开号：US4678781A

  公开（公告）日：1987-07-07