1,2,2-Tris-(4-hydroxy-phenyl)-propan | 115002-68-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 1,2,2-Tris-(4-hydroxy-phenyl)-propan
• 英文别名: 4,4',4''-methylethane-1,1,2-triyl-tri-phenol；α.β.β-Tris-(4-oxy-phenyl)-propan；4,4',4''-Methylaethan-1,1,2-triyl-tri-phenol；1,2,2-tris(4-hydroxyphenyl)propane；4-[2,2-Bis(4-hydroxyphenyl)propyl]phenol
• CAS: 115002-68-1
• 化学式: C₂₁H₂₀O₃
• 分子量: 320.388
• InChiKey: OXLCUXZPTIJJAJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.1
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.14
• 拓扑面积：
  60.7
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1,2,2-Tris-(4-hydroxy-phenyl)-propan 、 溶剂黄146 在 乙酸酐 作用下， 生成 1-(4-acetoxy-phenyl)-2,2-bis-(4-hydroxy-phenyl)-propane
  参考文献：
  名称：

  Lippmann, Chemische Berichte, 1912, vol. 45, p. 2490

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  一氯丙酮 、 苯酚 在 盐酸 作用下， 生成 1,2,2-Tris-(4-hydroxy-phenyl)-propan
  参考文献：
  名称：

  Lippmann, Chemische Berichte, 1912, vol. 45, p. 2490

  摘要：

  DOI：

文献信息

• Positive photosensitive composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20020102491A1

  公开（公告）日：2002-08-01

  A positive photosensitive composition comprises a compound capable of generating a specified sulfonic acid upon irradiation with one of an actinic ray and radiation and (B) a resin capable of decomposing under the action of an acid to increase the solubility in an alkali developer.

  一种正性感光组合物包括一种化合物，该化合物能够在受到光射线或辐射照射时生成一种特定的磺酸，以及（B）一种树脂，该树脂能够在酸的作用下分解，从而增加在碱性显影剂中的溶解度。
• Preparation of 1,2-bis(4-hydroxyphenyl)-2-hydroxypropanes
  申请人：The Dow Chemical Company

  公开号：US06365788B1

  公开（公告）日：2002-04-02

  The present invention relates to the preparation of substituted or unsubstituted 1,2-bis(4-hydroxyphenyl)-hydroxyaliphatics such as 1,2-bis(4-hydroxyphenyl)-2-hydroxypropanes by reacting substituted or unsubstituted 1,2-bis(4-hydroxyphenyl)-halogen substituted aliphatics such as 1,2-bis(4-hydroxyphenyl)-2-chloropropanes in the presence of a base and water.

  本发明涉及制备取代或未取代的1,2-双(4-羟基苯基)-羟基脂肪烃，例如在碱和水的存在下通过反应取代或未取代的1,2-双(4-羟基苯基)-卤代脂肪烃，如1,2-双(4-羟基苯基)-2-氯丙烷。
• Trisoxetane compound, process for producing the same, and opitcal waveguide using the same
  申请人：Hikita Takami

  公开号：US20080221341A1

  公开（公告）日：2008-09-11

  The present invention relates to a trisoxetane compound represented by the following formula (1): wherein each of R 1 and R 3 's represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atom(s); R 2 represents a divalent aliphatic chained organic group having 0 to 16 carbon atom(s); and A represents a carbon atom or a trivalent organic group derived from a cycloalkane having 3 to 12 carbon atoms; a process for producing the same; and an optical waveguide including the same.

  本发明涉及一种三氧杂环戊烷化合物，其表示为以下式子（1）：其中，R1和R3分别表示氢原子或具有1至6个碳原子的烷基基团；R2表示具有0至16个碳原子的二价脂肪链有机基团；A表示来自具有3至12个碳原子的环己烷衍生的三价有机基团的碳原子或有机基团；以及制备该化合物的方法和包括该化合物的光波导。
• Positive photoresist composition
  申请人：——

  公开号：US20010021479A1

  公开（公告）日：2001-09-13

  A positive photoresist composition comprises (A) a compound which generates an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, (B) a resin which is insoluble or sparingly soluble in alkali but becomes soluble in alkali by the action of an acid, and (C) a nitrogen-containing compound containing at least one partial structure represented by formula (I) shown below in its molecule: 1 The positive photoresist composition of the present invention is suitable for exposure to a far ultraviolet ray, particularly a KrF excimer laser beam, improved in line edge roughness and also excellent in sensitivity, resolution, depth of focus and resist profile.

  一种正性光阻组合物，包括(A)在接受光致发酵或辐射后生成酸的化合物，(B)在碱性溶液中不溶或难溶，但在酸的作用下变得可溶的树脂，以及(C)含有至少一个分子中的公式(I)所示的部分结构的含氮化合物。本发明的正性光阻组合物适用于远紫外线照射，特别是KrF准分子激光束，具有改善线边粗糙度、灵敏度、分辨率、焦深和抗蚀性能的优点。
• Positive resist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20020006578A1

  公开（公告）日：2002-01-17

  A positive resist composition comprising (A) a compound generating a specific sulfonimide compound by irradiation with an actinic ray or a radiation and (B) a resin having a group, which is decomposed by the action of an acid to increase the solubility of the composition in an alkali developer. The resist composition has an improved resolving power and an improved process allowance such as exposure margin and the depth of focus in a lithographic technique using a light source of short wavelengths capable of super fine working and a positive chemically amplified resist.

  一种正向光刻胶组合物，包括(A)一种化合物，通过受到光辐射或辐射而产生特定磺酰亚胺化合物，以及(B)一种树脂，具有一种基团，通过酸的作用分解以增加组合物在碱性显影剂中的溶解度。该光刻胶组合物具有改善的分辨率和改善的工艺容差，如曝光余量和焦深，适用于使用短波长光源的光刻技术和正向化学增强型光刻胶的超细加工。