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2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonyl chloride | 1234866-58-0

中文名称
——
中文别名
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英文名称
2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonyl chloride
英文别名
——
2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonyl chloride化学式
CAS
1234866-58-0
化学式
C24H35ClO2S
mdl
——
分子量
423.06
InChiKey
RGBKTVVQEGMAKU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    9.5
  • 重原子数:
    28
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    4.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.75
  • 拓扑面积:
    42.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonyl chloride 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 12.0h, 以95%的产率得到2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonamide
    参考文献:
    名称:
    オニウム塩、ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
    摘要:
    本发明提供了一种有用的化合物作为淬灭剂,可以提高模式形成时的分辨率,并获得低LER的负型光阻组合物,以及包含该化合物的负型光阻组合物和制备光阻模式的方法。所述淬灭剂包括下式(A)所示的硫酸盐,并且所述负型光阻组合物包括所述硫酸盐和基础聚合物。其中,R1是可以包含杂原子的一价碳化氢基。环R表示下式(A1)所示的基或具有脂环式结构的基,其中脂环式结构的一部分碳原子可以被包含硫、氧或氮原子的基所取代。Z+是亚砜盐离子或碘盐离子。【选图】无
    公开号:
    JP2020066600A
  • 作为产物:
    描述:
    1,3,5-tricyclohexylbenzene氯磺酸 作用下, 以 氯仿 为溶剂, 反应 3.0h, 以50%的产率得到2,4,6-tricyclohexylbenzenesulfonyl chloride
    参考文献:
    名称:
    将立体选择性构建到用于交替共聚的化学选择性开环复分解聚合催化剂中
    摘要:
    这样的方式:具有不对称双齿膦配体的钌配合物带有两个大小不同的取代基(绿色球体),通过开环复分解聚合(ROMP)生成降冰片烯和环辛烯的完全交替的共聚物。的E / Z 比率可以系统通过改变芳基磺酸盐配位体(蓝色矩形)的体积的影响。
    DOI:
    10.1002/anie.200906846
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文献信息

  • SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
    申请人:SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
    公开号:US20160090355A1
    公开(公告)日:2016-03-31
    A sulfonium salt of formula (0-1) is provided wherein W is alkylene or arylene, R 01 is a monovalent hydrocarbon group, m is 0, 1 or 2, k is an integer: 0≦k≦5+4m, R 101 , R 102 and R 103 are a monovalent hydrocarbon group, or at least two of R 101 , R 102 and R 103 may bond together to form a ring with the sulfur atom, and L is a single bond, ester, sulfonic acid ester, carbonate or carbamate bond. A resist composition comprising the sulfonium salt as PAG exhibits a very high resolution when processed by EB and EUV lithography. A pattern with minimal LER is obtainable.
    提供一种化学式为(0-1)的磺鎓盐,其中W是烷基或芳基,R01是一价碳氢基团,m为0、1或2,k为整数:0≦k≦5+4m,R101、R102和R103是一价碳氢基团,或者R101、R102和R103中至少两个可以相互结合形成与原子的环,L是单键、酯、磺酸酯、碳酸酯或氨基甲酸酯键。包含磺鎓盐作为PAG的抗蚀组成物在经过电子束或极紫外光刻过程时表现出非常高的分辨率。可获得具有最小LER的图案。
  • Three-Component Asymmetric Ni-Catalyzed 1,2-Dicarbofunctionalization of Unactivated Alkenes via Stereoselective Migratory Insertion
    作者:Omar Apolinar、Taeho Kang、Turki M. Alturaifi、Pranali G. Bedekar、Camille Z. Rubel、Joseph Derosa、Brittany B. Sanchez、Quynh Nguyen Wong、Emily J. Sturgell、Jason S. Chen、Steven R. Wisniewski、Peng Liu、Keary M. Engle
    DOI:10.1021/jacs.2c06636
    日期:2022.10.26
    asymmetric 1,2-dicarbofunctionalization of unactivated alkenes with aryl iodides and aryl/alkenylboronic esters under nickel/bioxazoline catalysis is disclosed. A wide array of aryl and alkenyl nucleophiles are tolerated, furnishing the products in good yield and with high enantioselectivity. In addition to terminal alkenes, 1,2-disubstituted internal alkenes participate in the reaction, establishing two contiguous
    公开了在/生物恶唑啉催化下未活化烯烃与芳基化物和芳基/烯基硼酸酯的不对称 1,2-二碳官能化。可以耐受多种芳基和烯基亲核试剂,以良好的收率和高对映选择性提供产品。除了末端烯烃外,1,2-二取代的内部烯烃也参与反应,建立两个连续的立体中心,具有高非对映选择性和中等对映选择性。实验和计算技术的结合揭示了催化转化的机制,指向具有对映体决定迁移插入步骤的闭壳途径,
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    作者:Ifenna I Mbaezue、Filip Topic、Youla S Tsantrizos
    DOI:10.1055/a-2047-8301
    日期:——
    Enantioenriched heterocyclic and rigidified bioisosteres of amino acids are valuable building blocks in drug discovery, particularly in the design of peptidomimetic drugs. The rigidified bioisostere of phenylalanine, 1,2,3,4-tetrahydroquinoline-2-carboxylic acid, is found in several biologically active compounds. However, only a small number of successful methodologies have been reported for its asymmetric
    氨基酸的对映体富集杂环和刚性生物电子等排物是药物发现的重要组成部分,特别是在拟肽药物的设计中。苯丙酸的刚性生物电子等排物 1,2,3,4-四氢喹啉-2-羧酸存在于多种生物活性化合物中。然而,只有少数成功的方法被报道用于其不对称合成。为了开发一种环境友好且无属的有机催化工艺来制备该化合物,合成了许多新型P-手性N-酰基磺酰胺布朗斯台德酸,并在喹啉-2-羧酸盐的仿生转移氢化反应中进行了评估,得到( R )-1,2,3,4-四氢喹啉-2-羧酸盐。
  • ONIUM SALT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP3644122A1
    公开(公告)日:2020-04-29
    A negative resist composition comprising an onium salt having formula (A) and a base polymer is provided. The resist composition exhibits a high resolution during pattern formation and forms a pattern with minimal LER.
    提供了一种由具有式(A)的鎓盐和基质聚合物组成的负性抗蚀剂组合物。这种抗蚀剂组合物在图案形成过程中具有高分辨率,并能形成具有最小 LER 的图案。
  • NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING PROCESS
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:EP3644122B1
    公开(公告)日:2020-12-30
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