摩熵化学
数据库官网
小程序
打开微信扫一扫
首页 分子通 化学资讯 化学百科 反应查询 关于我们
请输入关键词

1,1,2,2-四氟-4-羟基丁烷-1-磺酸钠 | 1023611-27-9

中文名称
1,1,2,2-四氟-4-羟基丁烷-1-磺酸钠
中文别名
——
英文名称
sodium 1,1,2,2-tetrafluoro-4-hydroxybutane-1-sulfonate
英文别名
sodium;1,1,2,2-tetrafluoro-4-hydroxybutane-1-sulfonate
1,1,2,2-四氟-4-羟基丁烷-1-磺酸钠化学式
CAS
1023611-27-9
化学式
C4H5F4O4S*Na
mdl
——
分子量
248.131
InChiKey
HRJIMEINFSCMIT-UHFFFAOYSA-M
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    -2.85
  • 重原子数:
    14
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    85.8
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    8

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    1,1,2,2-四氟-4-羟基丁烷-1-磺酸钠 在 AMBERLITE 120H acidic cation 作用下, 以 甲醇 为溶剂, 生成 4-hydroxy-1,1,2,2-tetrafluorobutane-1-sulfonic acid
    参考文献:
    名称:
    METHOD OF PREPARING PHOTOACID GENERATING MONOMER
    摘要:
    一种制备单体的方法包括将公式(I)的磺酮与具有聚合基团的亲核试剂反应,其中每个R独立地为F、C1-10烷基、氟取代的C1-10烷基、C1-10环烷基或氟取代的C1-10环烷基,但至少一个R为F;n为0至10的整数,m为1至4+2n的整数。通过这种方法可以制备单体,包括光酸生成单体。
    公开号:
    US20120172619A1
  • 作为产物:
    描述:
    4-溴-3,3,4,4-四氟-1-丁醇 在 sodium dithionite 、 碳酸氢钠双氧水 作用下, 以 乙腈 为溶剂, 反应 36.0h, 生成 1,1,2,2-四氟-4-羟基丁烷-1-磺酸钠
    参考文献:
    名称:
    TWI516465
    摘要:
    公开号:
点击查看最新优质反应信息

文献信息

  • 포토애시드 발생제, 포토애시드 발생제를 포함하는 포토레지스트, 및 이를 포함하는 코팅 물품
    申请人:ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨(520040024286)
    公开号:KR101525420B1
    公开(公告)日:2015-06-03
    화학식 (I)을 갖는 화합물: 상기 식에서, R1은 각각 독립적으로 H 또는 인접 R1에 임의로 결합된, 치환되거나 미치환된 C1-30 지방족 그룹이고, R2 및 R3는 각각 독립적으로 H, F, C1-10 알킬, C1-10 플루오로알킬, C3-10 사이클로알킬 또는 C3-10 플루오로사이클로알킬이며(여기에서 적어도 하나의 R2 및/또는 R3는 F를 함유한다), L1, L2 및 L3는 각각 독립적으로 단일 결합, 또는 임의로 락톤 그룹을 포함하는 C1-20 결합 그룹이며(여기에서하나 이상의 L1, L2 및 L3는 임의로 고리 구조를 형성하고, 하나 이상의 L1, L2 및 L3는 폴리머화 C2-20 알파-베타 불포화 유기그룹으로 임의로 치환된다), X는 에테르, 에스테르, 카보네이트, 아민, 아미드, 우레아, 설페이트, 설포네이트, 또는 설폰아미드 함유 그룹이고, Z+는 유기 또는 무기 양이온이고, a는 각각 독립적으로 0 내지 12의 정수이고, b는 0 내지 5의 정수이며, c, d, 및 r은 각각 독립적으로 0 또는 1이며, p는 0 내지 10의 정수이고, q는 1 내지 10의 정수이다. 포토레지스트는 포토애시드 발생제를 포함하고 코팅된 물품은 포토레지스트를 포함한다. 포토레지스트를 사용하여 장비를 형성할 수 있다.
    具有化学式(I)的化合物:在上述式中,R1分别独立地是H或与相邻的R1随机连接的,取代或未取代的C1-30烷基基团,R2和R3分别独立地是H,F,C1-10烷基,C1-10氟烷基,C3-10环烷基或C3-10氟环烷基(其中至少一个R2和/或R3包含F),L1,L2和L3分别独立地是单键或包含随机环状基团的C1-20连接基团(其中一个或多个L1,L2和L3随机形成环结构,一个或多个L1,L2和L3随机被取代为聚合C2-20α-β不饱和有机基团),X是醚,酯,碳酸酯,胺,酰胺,脲,磷酸酯,磺酞,磺酰胺基团,Z+是有机或无机阳离子,a分别独立地是0到12的整数,b是0到5的整数,c,d和r分别独立地是0或1,p是0到10的整数,q是1到10的整数。感光剂包含感光酸发生剂,涂层物品包含感光剂。可以使用感光剂形成设备。
  • METHOD OF PREPARING PHOTOACID GENERATING MONOMER
    申请人:Coley Suzanne M.
    公开号:US20120172619A1
    公开(公告)日:2012-07-05
    A method of preparing a monomer comprises reacting a sultone of the formula (I): wherein each R is independently F, C 1-10 alkyl, fluoro-substituted C 1-10 alkyl, C 1-10 cycloalkyl, or fluoro-substituted C 1-10 cycloalkyl, provided that at least one R is F; n is an integer of from 0 to 10, and m is an integer of 1 to 4+2n, with a nucleophile having a polymerizable group. Monomers, including a photoacid-generating monomer, may be prepared by this method.
    一种制备单体的方法包括将公式(I)的磺酮与具有聚合基团的亲核试剂反应,其中每个R独立地为F、C1-10烷基、氟取代的C1-10烷基、C1-10环烷基或氟取代的C1-10环烷基,但至少一个R为F;n为0至10的整数,m为1至4+2n的整数。通过这种方法可以制备单体,包括光酸生成单体。
  • 一种由苦参碱合成的磺酸锍盐类光产酸剂及其合成方法
    申请人:上海博栋化学科技有限公司
    公开号:CN112679499A
    公开(公告)日:2021-04-20
    本发明公开了一种由苦参碱合成的磺酸锍盐类光产酸剂,涉及光刻胶领域,尤其涉及光产酸剂,一种由苦参碱合成的磺酸锍盐类光产酸剂,结构式为:R为氟取代的烷基。光产酸剂呈弱碱性,能够有效降低酸的扩散,有利于改善光刻图形的边缘粗糙度,提高图形分辨率;亲水亲油平衡,既可以很好的溶解在溶剂中,又具有合适的粘附力;并且具有优良的耐刻蚀性能;在193nm下具有更好的透明度,有利于光刻胶更好的曝光;合成路线简单。
  • POLYMERIZABLE SULFONIC ACID ONIUM SALT AND RESIN
    申请人:Nagai Tomoki
    公开号:US20100063232A1
    公开(公告)日:2010-03-11
    A resin that includes a repeating unit shown by the following formula (10) has an excellent performance as a radiation sensitive acid generator, and exhibits only a small adverse effect on the environment and a human body. wherein R 1 represents a hydrogen atom or the like, M + represents a specific cation, and n is an integer from 1 to 5.
    以下是翻译结果: 一种包括以下公式(10)所示的重复单元的树脂具有出色的辐射敏感酸发生剂性能,对环境和人体只有很小的负面影响。其中,R1代表氢原子或类似物,M+代表特定的阳离子,n为1至5的整数。
  • Polymerizable sulfonic acid onium salt and resin
    申请人:JSR Corporation
    公开号:US07956142B2
    公开(公告)日:2011-06-07
    A resin that includes a repeating unit shown by the following formula (10) has an excellent performance as a radiation sensitive acid generator, and exhibits only a small adverse effect on the environment and a human body. wherein R1 represents a hydrogen atom or the like, M+ represents a specific cation, and n is an integer from 1 to 5.
    以下公式(10)所示的重复单元的树脂作为辐射敏感酸发生剂具有出色的性能,并且对环境和人体仅有很小的负面影响。其中,R1代表氢原子或类似物,M+代表特定的阳离子,n为1至5的整数。
查看更多