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(3-N-morpholinopropyl)dimethylchlorosilane | 921203-54-5

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
(3-N-morpholinopropyl)dimethylchlorosilane
英文别名
4-{3-[Chloro(dimethyl)silyl]propyl}morpholine;chloro-dimethyl-(3-morpholin-4-ylpropyl)silane
(3-N-morpholinopropyl)dimethylchlorosilane化学式
CAS
921203-54-5
化学式
C9H20ClNOSi
mdl
——
分子量
221.802
InChiKey
JVDOJJAHNMTWDP-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    269.5±25.0 °C(Predicted)
  • 密度:
    0.995±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.15
  • 重原子数:
    13
  • 可旋转键数:
    4
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    1.0
  • 拓扑面积:
    12.5
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为反应物:
    参考文献:
    名称:
    周期性介孔二氧化硅的高级表面功能化:三硅氮烷试剂的动力学控制
    摘要:
    介孔二氧化硅MCM-41与一系列新型三甲硅烷基胺(三硅氮烷)(SiHMe2)2NSiMe2R和(SiMe2Vin)2NSiMe2R(R=茚基,去甲茚基,氯丙基,3-(N-吗啉)丙基;Vin=乙烯基)的表面反应,研究了二甲硅烷基烷基胺 (SiHMe2)iPrNSiMe2(CH2)3Cl 和单甲硅烷基二烷基胺 Me2NSiMe2R(R = 茚基、氯丙基、3-(N-吗啉)丙基)。1H、13C 和 29Si MAS NMR 光谱、氮吸附/解吸、红外光谱以及以杯[4]芳烃作为羰基合成表面模拟物的模型反应被用来阐明表面键合的甲硅烷基的化学性质。三甲硅烷胺表现出相对缓慢的表面反应,这允许调整甲硅烷基化和未反应的SiOH基团的量,并导致表面官能团的化学计量分布。2:发现这种三硅氮烷的 SiHMe2 和 SiMe2R 部分的 1 积分比保留在二氧化硅表面上,如混合材料的微量分析以及 13C 和 29Si MAS
    DOI:
    10.1021/ja065444v
  • 作为产物:
    描述:
    4-烯丙基吗啉二甲基一氯硅烷KARSTEDT催化剂 作用下, 以 xylene 为溶剂, 以84%的产率得到(3-N-morpholinopropyl)dimethylchlorosilane
    参考文献:
    名称:
    周期性介孔二氧化硅的高级表面功能化:三硅氮烷试剂的动力学控制
    摘要:
    介孔二氧化硅MCM-41与一系列新型三甲硅烷基胺(三硅氮烷)(SiHMe2)2NSiMe2R和(SiMe2Vin)2NSiMe2R(R=茚基,去甲茚基,氯丙基,3-(N-吗啉)丙基;Vin=乙烯基)的表面反应,研究了二甲硅烷基烷基胺 (SiHMe2)iPrNSiMe2(CH2)3Cl 和单甲硅烷基二烷基胺 Me2NSiMe2R(R = 茚基、氯丙基、3-(N-吗啉)丙基)。1H、13C 和 29Si MAS NMR 光谱、氮吸附/解吸、红外光谱以及以杯[4]芳烃作为羰基合成表面模拟物的模型反应被用来阐明表面键合的甲硅烷基的化学性质。三甲硅烷胺表现出相对缓慢的表面反应,这允许调整甲硅烷基化和未反应的SiOH基团的量,并导致表面官能团的化学计量分布。2:发现这种三硅氮烷的 SiHMe2 和 SiMe2R 部分的 1 积分比保留在二氧化硅表面上,如混合材料的微量分析以及 13C 和 29Si MAS
    DOI:
    10.1021/ja065444v
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文献信息

  • Advanced Surface Functionalization of Periodic Mesoporous Silica:  Kinetic Control by Trisilazane Reagents
    作者:Clemens Zapilko、Markus Widenmeyer、Iris Nagl、Frank Estler、Reiner Anwander、Gabriele Raudaschl-Sieber、Olaf Groeger、Günter Engelhardt
    DOI:10.1021/ja065444v
    日期:2006.12.1
    spectroscopy, and model reactions with calix[4]arene as a mimic for an oxo surface were used to clarify the chemical nature of surface-bonded silyl groups. The trisilylamines exhibited a comparatively slow surface reaction, which allowed for the adjustment of the amount of silylated and nonreacted SiOH groups and led to a stoichiometric distribution of surface functionalities. The 2:1 integral ratio of
    介孔二氧化硅MCM-41与一系列新型三甲硅烷基胺(三硅氮烷)(SiHMe2)2NSiMe2R和(SiMe2Vin)2NSiMe2R(R=茚基,去甲茚基,氯丙基,3-(N-吗啉)丙基;Vin=乙烯基)的表面反应,研究了二甲硅烷基烷基胺 (SiHMe2)iPrNSiMe2(CH2)3Cl 和单甲硅烷基二烷基胺 Me2NSiMe2R(R = 茚基、氯丙基、3-(N-吗啉)丙基)。1H、13C 和 29Si MAS NMR 光谱、氮吸附/解吸、红外光谱以及以杯[4]芳烃作为羰基合成表面模拟物的模型反应被用来阐明表面键合的甲硅烷基的化学性质。三甲硅烷胺表现出相对缓慢的表面反应,这允许调整甲硅烷基化和未反应的SiOH基团的量,并导致表面官能团的化学计量分布。2:发现这种三硅氮烷的 SiHMe2 和 SiMe2R 部分的 1 积分比保留在二氧化硅表面上,如混合材料的微量分析以及 13C 和 29Si MAS
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