申请人:CIBA-GEIGY AG
公开号:EP0155231A2
公开(公告)日:1985-09-18
Ein positiv arbeitender Photolack wird galvanisch auf einem Substrat abgeschieden, der Einwirkung eines vorbestimmten Musters aktinischer Strahlung ausgesetzt und anschliessend entwickelt. Die belichteten- Stellen werden durch Kontakt mit dem Entwickler entfernt.
Ist das Substrat ein metallkaschiertes Laminat, so kann die freigelegte Metalloberfläche weggeätzt werden. Der restliche Lack wird anschliessend durch erneuten Kontakt mit einem Lösungsmittel, gegebenenfalls nach einer weiteren Belichtung, entfernt. Geeignete galvanisch abscheidbare Photolacke sind o-Nitrocarbinolester, o-Nitrocarbinolacetale, deren Polyester oder endgruppenverkappte Derivate; auch Chinondiazidsulfonylester phenolischer Novolake, die salzbildende Gruppen, insbesondere Carboxyl- oder Aminogruppen, im Molekül aufweisen, zählen zu diesen Photolakken.
Das Verfahren eignet sich zur Herstellung von Druckplatten oder von gedruckten Schaltungen. Insbesondere gedruckte Schaltungen, die auf beiden Seiten eines Laminates aufgebracht werden und die durch Metallbrücken in der Leiterplatte miteinander verbunden sind, lassen sich mit dem Verfahren herstellen.
将正极光刻胶电镀到基底上,暴露在预定模式的光辐射下,然后进行显影。通过与显影剂接触,可去除暴露的区域。
如果基底是金属覆层,则可蚀刻掉暴露的金属表面。如有必要,在进一步曝光后,再与溶剂接触,将剩余的漆去除。适用的电沉积光致抗蚀剂包括邻硝基甲醇酯、邻硝基甲醇乙缩醛、它们的聚酯或端封衍生物;分子中含有成盐基团,特别是羧基或氨基的酚醛新醇的醌重氮化物磺酰酯也属于此类光致抗蚀剂。
该工艺适用于印制板或印刷电路的生产。特别是,可以使用该工艺生产印制电路板,这些电路板被应用于层压板的两面,并通过印制电路板中的金属桥相互连接。