p-methacryloyloxybenzoyl chloride | 60274-79-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚酯
• 英文名称: p-methacryloyloxybenzoyl chloride
• 英文别名: p-Methacryloyloxybenzoylchlorid；4-Methacryloyloxybenzoic chloride；(4-carbonochloridoylphenyl) 2-methylprop-2-enoate
• CAS: 60274-79-5
• 化学式: C₁₁H₉ClO₃
• 分子量: 224.644
• InChiKey: DUQIGJMTSFJISJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.1
• 重原子数：
  15
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.09
• 拓扑面积：
  43.4
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  对羟基联苯 、 p-methacryloyloxybenzoyl chloride 在 三乙胺 作用下， 以 丁酮 为溶剂， 生成 BPCPMA
  参考文献：
  名称：

  Experimental and theoretical approaches for structural and mechanical properties of novel side chain LCP-PP graft coproducts

  摘要：

  单体对二苯氧羰基苯甲酸丙烯酸酯（BPCPA）和对二苯氧羰基苯甲基丙烯酸酯（BPCPMA）分别通过对氢氧基二苯基和对丙烯酰氧基苯甲酰氯、对甲基丙烯酰氧基苯甲酰氯进行反应合成，并使用双偶氮化氧化剂在真空条件下进行聚合。单体在聚丙烯上的接枝共聚反应通过在170°C下的批量熔融聚合，使用不同浓度的单体和引发剂进行。反应体系中单体与引发剂的比例提高，接枝共聚物中单体的含量也随之增加。接枝共聚物通过多种实验技术进行表征，包括差示扫描量热法、热重分析、傅里叶变换红外光谱、扫描电子显微镜和力学测试。此外，基于密度泛函理论（B3LYP）和标准6-311++G(d,p)理论级别进行了理论计算，以研究聚丙烯产品机械性能的关键变化。根据获得的结果，由于由聚合物单体的接枝造成速率依赖的粘弹性变形或屈服的损伤，接枝共聚物的机械性能显著降低，从而导致表面能值的增加。同时，实验结果证实，聚（BPCPA）材料的次级范德华键显著弱于聚（BPCPMA）产品中的相应键。

  DOI：

  10.3906/kim-1506-37
• 作为产物：
  描述：

  4-甲基丙烯酰氧基苯甲酸 在 氯化亚砜 作用下， 以 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 生成 p-methacryloyloxybenzoyl chloride
  参考文献：
  名称：

  Experimental and theoretical approaches for structural and mechanical properties of novel side chain LCP-PP graft coproducts

  摘要：

  单体对二苯氧羰基苯甲酸丙烯酸酯（BPCPA）和对二苯氧羰基苯甲基丙烯酸酯（BPCPMA）分别通过对氢氧基二苯基和对丙烯酰氧基苯甲酰氯、对甲基丙烯酰氧基苯甲酰氯进行反应合成，并使用双偶氮化氧化剂在真空条件下进行聚合。单体在聚丙烯上的接枝共聚反应通过在170°C下的批量熔融聚合，使用不同浓度的单体和引发剂进行。反应体系中单体与引发剂的比例提高，接枝共聚物中单体的含量也随之增加。接枝共聚物通过多种实验技术进行表征，包括差示扫描量热法、热重分析、傅里叶变换红外光谱、扫描电子显微镜和力学测试。此外，基于密度泛函理论（B3LYP）和标准6-311++G(d,p)理论级别进行了理论计算，以研究聚丙烯产品机械性能的关键变化。根据获得的结果，由于由聚合物单体的接枝造成速率依赖的粘弹性变形或屈服的损伤，接枝共聚物的机械性能显著降低，从而导致表面能值的增加。同时，实验结果证实，聚（BPCPA）材料的次级范德华键显著弱于聚（BPCPMA）产品中的相应键。

  DOI：

  10.3906/kim-1506-37

文献信息

• POLYMERIZABLE ANION-CONTAINING SULFONIUM SALT AND POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohashi Masaki

  公开号：US20100055608A1

  公开（公告）日：2010-03-04

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 , R 3 and R 4 are C 1 -C 10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C 6 -C 18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R 2 , R 3 and R 4 may bond together to form a ring with S, A is a C 1 -C 10 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供具有式（1）的可聚合含阴离子的亚砜盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳氧代烷基，或R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成与S的环，A为C1-C10有机基团，n为0或1。该亚砜盐在暴露于高能辐射时生成非常强的磺酸。还提供了包含从该亚砜盐衍生的聚合物的抗蚀组合物。
• RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMER AND COMPOUND
  申请人：Osaki Hitoshi

  公开号：US20130122426A1

  公开（公告）日：2013-05-16

  A radiation-sensitive resin composition that provides a resist coating film in a liquid immersion lithography process is provided, the radiation-sensitive resin composition being capable of exhibiting a great dynamic contact angle during exposure, whereby the surface of the resist coating film can exhibit a superior water draining property, and the radiation-sensitive resin composition being capable of leading to a significant decrease in the dynamic contact angle during development, whereby generation of development defects can be inhibited, and further shortening of a time period required for change in a dynamic contact angle is enabled. A radiation-sensitive resin composition including (A) a fluorine-containing polymer having a structural unit (I) that includes a group represented by the following formula (1), and (B) a radiation-sensitive acid generator.

  提供一种辐射敏感的树脂组合物，可在液体浸没光刻工艺中提供抗蚀涂层膜，该辐射敏感的树脂组合物能够在曝光过程中展现出极大的动态接触角，从而使抗蚀涂层膜表面表现出优越的排水性能，并且该辐射敏感的树脂组合物能够在显影过程中引起动态接触角的显著降低，从而可以抑制显影缺陷的产生，并进一步缩短动态接触角变化所需的时间。该辐射敏感的树脂组合物包括（A）一种含氟聚合物，其具有包括以下公式（1）所表示的基团的结构单元（I），以及（B）一种辐射敏感的酸发生剂。
• MONOMER, POLYMER, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20170008982A1

  公开（公告）日：2017-01-12

  A polymer comprising recurring units derived from a polymerizable monomer having two structures of hydroxyphenyl methacrylate having a hydroxy group substituted with an acid labile group is used as base resin in a positive resist composition, especially chemically amplified positive resist composition. The resist composition forms a resist film which is processed by lithography into a pattern of good profile having a high resolution, minimal edge roughness, and etch resistance.

  一种聚合物，包含由可聚合单体衍生的重复单元，该单体具有两种羟基苯甲酸甲酯结构，羟基上取代有酸不稳定基团，作为正性光刻胶组成中的基础树脂，尤其是化学放大正性光刻胶组成中。该光刻胶组成形成一种光刻胶膜，通过光刻技术加工成具有高分辨率、最小边缘粗糙度和蚀刻抗性的良好轮廓图案。
• Polymerizable anion-containing sulfonium salt and polymer, resist composition, and patterning process
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US08057985B2

  公开（公告）日：2011-11-15

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R2, R3 and R4 are C1-C10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C6-C18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R2, R3 and R4 may bond together to form a ring with S, A is a C1-C20 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供了一种具有公式（1）的可聚合阴离子含硫鎓盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳基氧代烷基，或者R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成一个环，其中S，A为C1-C20有机基团，n为0或1。该硫鎓盐在高能辐射下产生非常强的磺酸。还提供了一种包含从硫鎓盐衍生的聚合物的抗蚀剂组合物。
• KAMOGAWA H.; SEKIGAWA M.; NAKANO T.; IZAWA S.; NANASAWA M., BULL. CHEM. SOC. JAP., 1979, 52, NO 10, 3125-3126
  作者：KAMOGAWA H.、 SEKIGAWA M.、 NAKANO T.、 IZAWA S.、 NANASAWA M.

  DOI：——

  日期：——