triethylammonium 1,1-difluoro-2-(methacryloyloxy)ethanesulfonate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: triethylammonium 1,1-difluoro-2-(methacryloyloxy)ethanesulfonate
• 英文别名: Triethylammonium 1,1-difluoro-2-(methacryloyloxy)ethanesulfonate；1,1-difluoro-2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethanesulfonate;triethylazanium
• 化学式: C₆H₈F₂O₅S*C₆H₁₅N
• 分子量: 331.381
• InChiKey: BKZVDYBZILBKLF-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.17
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.75
• 拓扑面积：
  96.3
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  7

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  triethylammonium 1,1-difluoro-2-(methacryloyloxy)ethanesulfonate 、 三苯基溴化锍 在 水 、 异丙醚 作用下， 以 氯仿 为溶剂， 反应 3.0h， 以obtained by the 3rd step的产率得到triphenylsulfonium 1,1-difluoro-2-(2-methyl-acryloyloxy)-ethane-1-sulfonate
  参考文献：
  名称：

  Ammonium Fluoroalkanesulfonates and a Synthesis Method Therefor

  摘要：

  使用有机碱作为催化剂，在使用亚磺酰化剂对溴氟醇进行亚磺酰化的过程中，可以获得羟基氟烷磺酸铵。通过将羟基氟烷磺酸铵氧化，可以获得羟基氟烷磺酸盐。通过酯化反应将羟基氟烷磺酸盐转化为离子型氟烷磺酸盐，可以获得离子型氟烷磺酸盐。这种离子型氟烷磺酸盐可用作化学放大光刻胶等中的光酸发生剂。

  公开号：

  US20120004447A1
• 作为产物：
  描述：

  triethylammonium 1,1-difluoro-2-hydroxy-ethane-1-sulfonate 、 甲基丙烯酰氯 在 三乙胺 作用下， 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 1.0h， 以3.84 g的产率得到triethylammonium 1,1-difluoro-2-(methacryloyloxy)ethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  암모늄염 화합물의 제조 방법, 화합물의 제조 방법, 그리고, 화합물, 고분자 화합물, 산 발생제, 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법

  摘要：

  这是一种制备第二铵盐化合物的方法，其中使用具有孤对电子的氮化合物与第一铵盐化合物反应，制备出第二铵盐化合物。第一铵盐化合物可以是一级、二级或三级第一铵阳离子，该氮化合物的共价酸比第一铵阳离子的酸解离常数（pKa）大。该方法制备的铵盐化合物，以及具有比该氮化合物的共价酸更高的疏水性的铊阳离子或碘阳离子进行离子交换的化合物的制备方法。

  公开号：

  KR101582002B1

文献信息

• ACID GENERATORS AND PHOTORESISTS COMPRISING SAME
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials, LLC

  公开号：US20160002199A1

  公开（公告）日：2016-01-07

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一些作为光刻胶组分特别有用的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• Acid generators and photoresists comprising same
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US08945814B2

  公开（公告）日：2015-02-03

  Acid generator compounds are provided that are particularly useful as photoresist composition components. Preferred acid generators include cyclic sulfonium compounds that comprise a covalently linked acid-labile group.

  提供了一种特别适用于光刻胶组分的酸发生剂化合物。首选的酸发生剂包括含有共价连接的酸敏感基团的环状硫铵化合物。
• Polymer comprising repeat units with photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality, and associated photoresist composition and electronic device forming method
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US09527936B2

  公开（公告）日：2016-12-27

  A polymer includes repeat units, at least half of which are photoacid-generating repeat units. Each of the photoacid-generating repeat units includes photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality. The polymer is useful as a component of a photoresist composition that further includes a second polymer that exhibits a change in solubility in an alkali developer under action of acid.

  一种聚合物包括重复单元，其中至少一半是光酸生成重复单元。每个光酸生成重复单元包括光酸生成功能和增强碱溶性功能。该聚合物可用作光刻胶组合物的组分，该组合物进一步包括第二种聚合物，在酸的作用下在碱性显影剂中溶解性发生变化。
• Photoresist composition and associated method of forming an electronic device
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US09551930B2

  公开（公告）日：2017-01-24

  A photoresist composition includes a first polymer in which at least half of the repeat units are photoacid-generating repeat units, and a second polymer that exhibits a change in solubility in an alkali developer under the action of acid. In the first polymer, each of the photoacid-generating repeat units comprises photoacid-generating functionality and base-solubility-enhancing functionality.

  一种光阻剂组合物包括第一聚合物，其中至少一半的重复单元是光酸生成重复单元，并且第二聚合物在酸作用下在碱性显影剂中表现出溶解度变化。在第一聚合物中，每个光酸生成重复单元包括光酸生成功能和增强碱溶性功能。
• Aryl acetate onium materials
  申请人：Rohm and Haas Electronic Materials LLC

  公开号：US09304394B2

  公开（公告）日：2016-04-05

  Acid generators comprising a carbocyclic aryl or heteroaromatic group substituted with at least one acetate moiety are provided. These acid generators are particularly useful as a photoresist composition component.

  提供了包含至少一个乙酸基取代的碳环芳基或杂环芳基的酸发生剂。这些酸发生剂特别适用作为光阻组分。