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(2,2,3,3,4,4-Hexafluoro-5-hydroxypentyl) 2-methylprop-2-enoate | 66818-51-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
(2,2,3,3,4,4-Hexafluoro-5-hydroxypentyl) 2-methylprop-2-enoate
英文别名
(2,2,3,3,4,4-hexafluoro-5-hydroxypentyl) 2-methylprop-2-enoate
(2,2,3,3,4,4-Hexafluoro-5-hydroxypentyl) 2-methylprop-2-enoate化学式
CAS
66818-51-7
化学式
C9H10F6O3
mdl
——
分子量
280.167
InChiKey
LCANUANUVYHSST-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.4
  • 重原子数:
    18
  • 可旋转键数:
    7
  • 环数:
    0.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.67
  • 拓扑面积:
    46.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    9

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

  • 作为产物:
    描述:
    2,2,3,3,4,4-六氟环-1,5-戊二醇甲基丙烯酰氯三乙胺 作用下, 以 四氢呋喃 为溶剂, 反应 73.0h, 以55%的产率得到(2,2,3,3,4,4-Hexafluoro-5-hydroxypentyl) 2-methylprop-2-enoate
    参考文献:
    名称:
    NOVEL FLUORINATED COMPOUND, A COMPOSITION COMPRISING THE SAME, AND A PRODUCTION METHOD FOR A FILM USING THE SAME
    摘要:
    本发明涉及一种新型氟化合物、包含该化合物的组合物以及使用该化合物制造薄膜的方法,更具体地说,涉及一种新型化合物,其结构中的硅烷核心被一个或多个氟和丙烯酸酯基团取代,以及包含该化合物和光引发剂的组合物,以及使用该组合物制造薄膜的方法。如果使用本发明中所述的化合物组成的组合物,则可以制造出折射率低、反射率降低、透射率增加的薄膜。
    公开号:
    US20120308802A1
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文献信息

  • Curable composition for photo imprints, method for forming pattern, fine pattern, and method for manufacturing semiconductor device
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US10175576B2
    公开(公告)日:2019-01-08
    Provided is a curable composition for photo imprints excellent in the mold releasability and the ink jettability. The curable composition for photo imprints, comprising: a polymerizable compound (A); a photo-polymerization initiator (B); and a mold releasing agent (C), the mold releasing agent (C) being represented by the formula (I) below. Rf represents a C1-8 fluorine-containing alkyl group having two or more fluorine atoms; m represents 1 or 2; L represents a single bond or divalent linking group; n represents 1 or 2; X represents a single bond, oxygen atom, sulfur atom, or nitrogen atom; R1 represents a C1-8 substituent being free from a polymerizable group; R2 represents a hydrogen atom, C1-8 substituent, or divalent linking group; p represents 1 or 2, q represents 0 or 1, and r represents 1 or 2; R1 and R2 may combine with each other to form a ring.
    本发明提供了一种用于照片印记的固化组合物,该组合物具有优异的脱模性和油墨润湿性。这种用于照片印记的可固化组合物包括:可聚合化合物(A);光聚合引发剂(B);和脱模剂(C),脱模剂(C)由下式(I)表示。Rf 代表具有两个或两个以上氟原子的 C1-8 含氟烷基;m 代表 1 或 2;L 代表单键或二价连接基团;n 代表 1 或 2;X 代表单键、氧原子、硫原子或氮原子;R1 代表不含可聚合基团的 C1-8 代基;R2 代表氢原子、C1-8 代基或二价连接基团;p 代表 1 或 2,q 代表 0 或 1,r 代表 1 或 2;R1 和 R2 可相互结合形成一个环。
  • EP2532669
    申请人:——
    公开号:——
    公开(公告)日:——
  • CURABLE COMPOSITION FOR IMPRINTS, PATTERNING METHOD AND PATTERN
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:EP2732460B1
    公开(公告)日:2017-08-23
  • CURABLE COMPOSITION FOR PHOTO IMPRINTS, METHOD FOR FORMING PATTERN, FINE PATTERN, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US20150185606A1
    公开(公告)日:2015-07-02
    Provided is a curable composition for photo imprints excellent in the mold releasability and the ink jettability. THe curable composition for photo imprints, comprising: a polymerizable compound (A); a photo-polymerization initiator (B); and a mold releasing agent (C), the mold releasing agent (C) being represented by the formula (I) below. Rf represents a C 1-8 fluorine-containing alkyl group having two or more fluorine atoms; m represents 1 or 2; L represents a single bond or divalent linking group; n represents 1 or 2; X represents a single bond, oxygen atom, sulfur atom, or nitrogen atom; R 1 represents a C 1-8 substituent being free from a polymerizable group; R 2 represents a hydrogen atom, C 1-8 substituent, or divalent linking group; p represents 1 or 2, q represents 0 or 1, and r represents 1 or 2; R 1 and R 2 may combine with each other to form a ring.
  • CURABLE COMPOSITION FOR OPTICAL IMPRINTING AND PATTERN FORMING METHOD
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US20160211143A1
    公开(公告)日:2016-07-21
    A curable composition for optical imprinting which is excellent in ink jet adequacy and releasability, a pattern forming method, a fine pattern, and a method for manufacturing a semiconductor device are provided. The curable composition for optical imprinting contains a polymerizable compound (A), a photopolymerization initiator (B), and a compound (C) expressed by General Formula (I); in General Formula (I), A represents a dihydric to hexahydric polyhydric alcohol residue. p represents 0 to 2, q represents 1 to 6, p+q represents an integer of 2 to 6, each of m and n independently represents 0 to 20. r expressed by Formula (1) is 6 to 20. Each R independently represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an aryl group, or an acyl group.
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