3-(2,3-dihydro-1H-naphtho[1,8-de]-1,3,2-diazaborinyl)-4,6',6''-trimethoxy-4'''-methyl-1,1':3',1'':3'',1'''-quaterphenyl | 927384-58-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 3-(2,3-dihydro-1H-naphtho[1,8-de]-1,3,2-diazaborinyl)-4,6',6''-trimethoxy-4'''-methyl-1,1':3',1'':3'',1'''-quaterphenyl
• 英文别名: 3-[2-Methoxy-5-[2-methoxy-5-[2-methoxy-5-(4-methylphenyl)phenyl]phenyl]phenyl]-2,4-diaza-3-boratricyclo[7.3.1.05,13]trideca-1(12),5,7,9(13),10-pentaene；3-[2-methoxy-5-[2-methoxy-5-[2-methoxy-5-(4-methylphenyl)phenyl]phenyl]phenyl]-2,4-diaza-3-boratricyclo[7.3.1.05,13]trideca-1(12),5,7,9(13),10-pentaene
• CAS: 927384-58-5
• 化学式: C₃₈H₃₃BN₂O₃
• 分子量: 576.503
• InChiKey: OOCKTQKVZWBANM-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  8.41
• 重原子数：
  44
• 可旋转键数：
  7
• 环数：
  7.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.11
• 拓扑面积：
  51.8
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-(2,3-dihydro-1H-naphtho[1,8-de]-1,3,2-diazaborinyl)-4,6',6''-trimethoxy-4'''-methyl-1,1':3',1'':3'',1'''-quaterphenyl 在 盐酸 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 12.0h， 生成 (4,6',6''-trimethoxy-4'''-methyl-[1,1':3',1'':3'',1'''-quaterphenyl]-3-yl)boronic acid
  参考文献：
  名称：

  通过迭代 Suzuki-Miyaura 耦合选择性合成低聚芳烃的硼掩蔽策略

  摘要：

  通过基于有机硼烷的交叉偶联反应（即 Suzuki-Miyaura 偶联）迭代合成低聚芳烃是通过使用一系列“掩蔽”卤代芳基硼酸作为构建单元来实现的来自 1,8-二氨基萘的掩蔽基团。

  DOI：

  10.1021/ja067975p
• 作为产物：
  描述：

  1,8-二氨基萘 在 二(三叔丁基膦)钯 cesium fluoride 作用下， 以 四氢呋喃 、 甲苯 为溶剂， 反应 4.0h， 生成 3-(2,3-dihydro-1H-naphtho[1,8-de]-1,3,2-diazaborinyl)-4,6',6''-trimethoxy-4'''-methyl-1,1':3',1'':3'',1'''-quaterphenyl
  参考文献：
  名称：

  通过迭代 Suzuki-Miyaura 耦合选择性合成低聚芳烃的硼掩蔽策略

  摘要：

  通过基于有机硼烷的交叉偶联反应（即 Suzuki-Miyaura 偶联）迭代合成低聚芳烃是通过使用一系列“掩蔽”卤代芳基硼酸作为构建单元来实现的来自 1,8-二氨基萘的掩蔽基团。

  DOI：

  10.1021/ja067975p

文献信息

• Boron-Masking Strategy for the Selective Synthesis of Oligoarenes via Iterative Suzuki−Miyaura Coupling
  作者：Hiroyoshi Noguchi、Kosho Hojo、Michinori Suginome

  DOI：10.1021/ja067975p

  日期：2007.1.1

  The iterative synthesis of oligoarenes via an organoborane-based cross-coupling reaction (i.e., the Suzuki−Miyaura coupling) has been achieved by using a series of “masked” haloarylboronic acids as building blocks whose ordinarily reactive boronyl groups are temporarily protected by a new masking group derived from 1,8-diaminonaphthalene.

  通过基于有机硼烷的交叉偶联反应（即 Suzuki-Miyaura 偶联）迭代合成低聚芳烃是通过使用一系列“掩蔽”卤代芳基硼酸作为构建单元来实现的来自 1,8-二氨基萘的掩蔽基团。