申请人:Skin n Skin Co., Ltd. 주식회사 스킨앤스킨(120070435418) Corp. No ▼ 131111-0165843BRN ▼129-81-98293
公开号:KR101569098B1
公开(公告)日:2015-11-17
본 발명은 (a) 1번 반응기에 루테늄(III)클로라이드 수화물과 N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아미드 및 디메틸아세틸아미드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용매, 및 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 넣고 반응시키는 단계; (b) 2번 반응기에 2,2'-비피리딘-4,4'-디카르복시산과 N-메틸피롤리돈, 디메틸포름아미드 및 디메틸아세틸아미드로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용매를 넣고 120~150℃를 유지시키는 단계: (c) 상기 1번 반응기의 반응액을 2번 반응기에 첨가한 후 온도를 120~150℃로 유지하면서 반응시키는 단계; 및 (d) 상기 (c) 단계의 반응물에 티오시안산암모늄염, 또는 제3의 리간드를 첨가하여 반응시킨 후 반응기를 냉각시키는 단계;를 포함하는 헤테로렙틱 루테늄 착화합물 염료의 합성방법을 제공한다: [화학식 1] 상기 식에서 R 및 R'는 각각 독립적으로 수소 또는 C1~C20의 알킬기이다.