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N-(4-aminophenyl)-N-phenyl-1-aminopyrene | 1446316-97-7

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
N-(4-aminophenyl)-N-phenyl-1-aminopyrene
英文别名
4-N-phenyl-4-N-pyren-1-ylbenzene-1,4-diamine
N-(4-aminophenyl)-N-phenyl-1-aminopyrene化学式
CAS
1446316-97-7
化学式
C28H20N2
mdl
——
分子量
384.48
InChiKey
XWTXEJYXDGSPAI-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
  • 同类化合物
  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

物化性质

  • 沸点:
    622.7±38.0 °C(predicted)
  • 密度:
    1.301±0.06 g/cm3(Temp: 20 °C; Press: 760 Torr)(predicted)

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    7.6
  • 重原子数:
    30
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    6.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.0
  • 拓扑面积:
    29.3
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

反应信息

  • 作为反应物:
    描述:
    N-(4-aminophenyl)-N-phenyl-1-aminopyrene4,4'-(六氟异丙烯)二酞酸酐四氢呋喃 为溶剂, 反应 5.0h, 以98%的产率得到4,4'-hexafluoroisopropylidenebis[4-(N-phenyl-N-pyren-1-ylamino)phenylphthalimide]
    参考文献:
    名称:
    供体-受体寡酰亚胺,用于高性能电存储设备
    摘要:
    两个新的oligoimides,OI(APAP-6FDA)和OI(APAN-6FDA) ,其由供电子性的ñ - (4-一个minophenyl) - ñ -苯基-1-氨基芘(APAP)或ñ - (4-一个氨基苯基)-N-苯基-1-氨基萘(APAN)部分和电子接受4,4'-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸酐(6FDA设计并合成用于电子存储设备中的部分。这种具有铟锡氧化物(ITO)/低聚酰亚胺/ Al构造的器件显示出从高导电欧姆电流流向负微分电阻(NDR)的存储特性,相应的膜厚度分别为38 nm和48 nm。48 nm的低聚酰亚胺薄膜器件表现出NDR电学行为,这是由于Al原子扩散到低聚酰亚胺层中而引起的。在将膜厚度进一步增加到85 nm时,OI(APAP-6FDA)膜器件显示出可重现的非易失性“一次写入多次读取”(WORM)特性,并具有高的开/关电流比(大于×10 4)。另一方面,基于85 nm
    DOI:
    10.1002/asia.201300335
  • 作为产物:
    描述:
    N-(4-nitrophenyl)-N-phenyl-1-aminopyrene 在 palladium 10% on activated carbon 、 氢气 作用下, 以 乙酸乙酯 为溶剂, 反应 24.0h, 以95%的产率得到N-(4-aminophenyl)-N-phenyl-1-aminopyrene
    参考文献:
    名称:
    供体-受体寡酰亚胺,用于高性能电存储设备
    摘要:
    两个新的oligoimides,OI(APAP-6FDA)和OI(APAN-6FDA) ,其由供电子性的ñ - (4-一个minophenyl) - ñ -苯基-1-氨基芘(APAP)或ñ - (4-一个氨基苯基)-N-苯基-1-氨基萘(APAN)部分和电子接受4,4'-(六氟异亚丙基)二邻苯二甲酸酐(6FDA设计并合成用于电子存储设备中的部分。这种具有铟锡氧化物(ITO)/低聚酰亚胺/ Al构造的器件显示出从高导电欧姆电流流向负微分电阻(NDR)的存储特性,相应的膜厚度分别为38 nm和48 nm。48 nm的低聚酰亚胺薄膜器件表现出NDR电学行为,这是由于Al原子扩散到低聚酰亚胺层中而引起的。在将膜厚度进一步增加到85 nm时,OI(APAP-6FDA)膜器件显示出可重现的非易失性“一次写入多次读取”(WORM)特性,并具有高的开/关电流比(大于×10 4)。另一方面,基于85 nm
    DOI:
    10.1002/asia.201300335
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