9,9-dihydro-1,2-dihydroxy-10-anthracenone | 86705-98-8

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 蒽
• 英文名称: 9,9-dihydro-1,2-dihydroxy-10-anthracenone
• 英文别名: 3,4-dihydroxy-anthrone；anthrarobin；3,4-Dihydroxy-anthron；3,4-Dihydroxy-10H-anthracen-9-one
• CAS: 86705-98-8
• 化学式: C₁₄H₁₀O₃
• 分子量: 226.232
• InChiKey: KBOKOYAHHLPGSJ-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  2.6
• 重原子数：
  17
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.07
• 拓扑面积：
  57.5
• 氢给体数：
  2
• 氢受体数：
  3

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  9,9-dihydro-1,2-dihydroxy-10-anthracenone 生成 anthracen-1,2,10-triacetate
  参考文献：
  名称：

  Roemer, Chemische Berichte, 1881, vol. 14, p. 1260

  摘要：

  DOI：
• 作为产物：
  描述：

  1,2-二羟基蒽醌 在 sodium dithionite 作用下， 以 水 、 N,N-二甲基甲酰胺 为溶剂， 以51%的产率得到9,9-dihydro-1,2-dihydroxy-10-anthracenone
  参考文献：
  名称：

  蒽酮的合成。1.减少亚硫代次取代的蒽二酮。

  摘要：

  研究了过取代的蒽二酮与连二亚硫酸钠在二甲基甲酰胺和水中的反应。该体系选择性地还原蒽二酮的周围取代基侧接的羰基，得到相应的4，5-二取代的9（10H）-蒽酮，因此提供了一种难以获得的蒽酮途径。可以容许许多官能团，该反应与起始的蒽二酮的周边烷氧基和不饱和侧链的存在相容，并且还原不超过蒽酮阶段。然而，蒽酮的形成取决于周围取代基的性质。从1，8-二甲基取代的蒽二酮和没有取代基的母体化合物没有得到产物。

  DOI：

  10.1021/jo9520351

文献信息

• Linkage and Redox Isomerism in Ruthenium Complexes of Catecholate, Semiquinone, and <i>o</i>-Acylphenolate Ligands Derived from 1,2-Dihydroxy-9,10-anthracenedione (Alizarin) and Related Species:  Syntheses, Characterizations, and Photophysics
  作者：Melvyn Rowen Churchill、Kim M. Keil、Frank V. Bright、Siddharth Pandey、Gary A. Baker、Jerome B. Keister

  DOI：10.1021/ic000529x

  日期：2000.12.1

  The complexes Ru(CO)2L2(AL-2H) (AL = alizarin; L = PPh3, PCyc3, PBu3, P(m-NaSO3C6H4)3), Ru(CO)(dppe)(PBu3)(AL-2H), and RuH(CO)L2(AL-H) (L = PPh3, PCyc3), and Ru(CO)2L2(AR-2H) (AR = anthrarobin; L = PBu3) were prepared by reactions of Ru3(CO)12, L, and AL, and the complexes RuH(CO)(PPh3)2(AL-H), RuH(CO)(PPh3)2(QN-H) (QN = quinizarin), and RuH(CO)(PPh3)2(LQN-H) (LQN = leucoquinizarin) are prepared by

  络合物Ru（CO）2L2（AL-2H）（AL =茜素; L = PPh3，PCyc3，PBu3，P（m-NaSO3C6H4）3），Ru（CO）（dppe）（PBu3）（AL-2H），通过Ru3（CO）12反应制得RuH（CO）L2（AL-H）（L = PPh3，PCyc3）和Ru（CO）2L2（AR-2H）（AR =蒽环素; L = PBu3）， L和AL，以及配合物RuH（CO）（PPh3）2（AL-H），RuH（CO）（PPh3）2（QN-H）（QN =奎尼萨林）和RuH（CO）（PPh3）2 （LQN-H）（LQN = leucoquinizarin）通过RuH2（CO）（PPh3）3与AL或QN反应制备。AL-2H和AR-2H配体充当1,2-儿茶酚酸酯，而AL-H，QN-H，LQN-H配体则是1,9-邻酰基苯酚酸酯配体。RuH（CO）（PPh3）2（AL-H）用X射线晶体学表征。检
• Anthracene derivatives
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05498748A1

  公开（公告）日：1996-03-12

  An anthracene derivative having at least two groups of the formula: ##STR1## wherein R.sup.1 and R.sup.2 are independently hydrogen, alkyl, alkoxy, etc., is particular effective for forming an antireflection coating for preventing multiple reflection of exposing light from a highly reflective substrate, etc.

  一种蒽衍生物，其至少具有两个公式为：##STR1## 其中R.sup.1和R.sup.2分别为氢、烷基、烷氧基等，特别有效地形成抗反射涂层，以防止高反射基底等的暴露光的多次反射。
• Process for forming a pattern on a semiconductor substrate using a deep
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05677112A1

  公开（公告）日：1997-10-14

  A deep ultraviolet absorbent comprising at least one compound having one or more glycidyl groups in the molecule and at least one anthracene derivative, and a solvent capable of dissolving these compounds is effective for preventing reflection of deep ultraviolet light from a substrate during formation of resist pattern, resulting in forming ultra-fine patterns without causing notching and halation.

  一种深紫外吸收剂，包括至少一种分子中含有一个或多个环氧丙烷基团和至少一种蒽衍生物的化合物，并且具有溶解这些化合物的溶剂。在形成光刻图案期间，该深紫外吸收剂能够有效地防止底片反射深紫外光，从而形成超细图案而不会导致缺口和光晕。
• Deep ultraviolet absorbent composition
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05576359A1

  公开（公告）日：1996-11-19

  A deep ultraviolet absorbent comprising at least one compound having one or more glycidyl groups in the molecule and at least one anthracene derivative, and a solvent capable of dissolving these compounds is effective for preventing reflection of deep ultraviolet light from a substrate during formation of resist pattern, resulting in forming ultra-fine patterns without causing notching and halation.

  一种深紫外吸收剂，包括至少一种分子中含有一个或多个环氧丙烷基团和至少一种蒽衍生物的化合物，以及一种能够溶解这些化合物的溶剂，在形成光阻图案期间有效防止基板反射深紫外光，从而形成超细图案而不会导致刻痕和光晕。
• HOT MELT ADHESIVE COMPOSITION
  申请人：JSR Corporation

  公开号：EP1700896A1

  公开（公告）日：2006-09-13

  [Problem] To provide an adhesive composition which is used for fixing a semiconductor wafer or the like onto a substrate, exhibits firm adhesion with high heat resistance in the wafer grinding stage and is melted by heating to enable easy peeling after the completion of the wafer grinding stage. [Means to solve problem] The hot-melt adhesive composition of the invention is a composition containing as a main component a crystalline compound having a melting temperature of 50 to 300°C, and has a melting temperature width of not more than 30°C and a melt viscosity of not more than 0.1 Pa·s. The crystalline compound as a main component is desired to be an organic compound composed of elements of C, H and O only and having a molecular weight of not more than 1000, preferably an aliphatic compound or an alicyclic compound, particularly preferably a compound having a steroid skeleton and/or a hydroxyl group.

  [问题] 提供一种粘合剂组合物，该组合物用于将半导体晶片或类似物固定在基板上， 在晶片研磨阶段表现出牢固的粘合性和高耐热性，并且在晶片研磨阶段结束后通过加 热熔化以便于剥离。[解决问题的方法] 本发明的热熔粘合剂组合物是一种组合物，其主要成分是熔化温度为 50 至 300°C、熔化温度宽度不超过 30°C、熔化粘度不超过 0.1 Pa-s的结晶化合物。作为主要成分的结晶化合物最好是仅由 C、H 和 O 元素组成且分子量不超过 1000 的有机化合物，最好是脂肪族化合物或脂环族化合物，尤其是具有甾体骨架和/或羟基的化合物。