4-[2-(2-methoxy-ethoxy)-ethyl]-morpholine | 76092-00-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 恶嗪烷类
• 英文名称: 4-[2-(2-methoxy-ethoxy)-ethyl]-morpholine
• 英文别名: 4-[2-(2-Methoxy-aethoxy)-aethyl]-morpholin；4-[2-(2-Methoxyethoxy)ethyl]morpholine
• CAS: 76092-00-7
• 化学式: C₉H₁₉NO₃
• 分子量: 189.255
• InChiKey: ADVSKVGDLVHJSJ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  246.8±25.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.004±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.4
• 重原子数：
  13
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  30.9
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  4-(2-氯乙基)吗啉 、 二乙二醇单甲醚 在 1,4-二氧六环 、 sodium 作用下， 生成 4-[2-(2-methoxy-ethoxy)-ethyl]-morpholine
  参考文献：
  名称：

  Solid Derivatives of Monoalkyl Ethers of Ethylene Glycol and Diethylene Glycol

  摘要：

  DOI：

  10.1021/ja01864a001

文献信息

• ONIUM SALT COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20210149301A1

  公开（公告）日：2021-05-20

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition exhibits dissolution contrast, acid diffusion suppressing effect, and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and sensitivity.

  提供具有公式（1）的醇铵盐，作为酸扩散抑制剂和化学增强型抗蚀剂组合物。当通过光刻加工时，该抗蚀剂组合物表现出溶解对比度，抑制酸扩散效果以及出色的光刻性能因素，例如CDU，LWR和灵敏度。
• RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200249571A1

  公开（公告）日：2020-08-06

  A resist composition comprising a sulfonium salt having formula (1) as PAG, a base polymer, and an organic solvent, when processed by lithography, has light transmittance, acid diffusion suppressing effect, and excellent lithography performance factors such as DOF, LWR and MEF. A lithography process for forming a resist pattern from the composition is also provided.

  一种抗蚀组合物，包括具有公式（1）作为PAG的磺酸盐、基础聚合物和有机溶剂。在光刻工艺中加工时，该组合物具有光透过率、抑制酸扩散效果和优异的光刻性能因素，例如DOF、LWR和MEF。还提供了一种从该组合物形成抗蚀图案的光刻工艺。
• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20220127225A1

  公开（公告）日：2022-04-28

  An onium salt having formula (1) serving as an acid diffusion inhibitor and a chemically amplified resist composition comprising the acid diffusion inhibitor are provided. When processed by lithography, the resist composition forms a pattern having minimal defects and excellent lithography performance factors such as CDU, LWR and DOF.

  提供一种化学式为(1)的盐类，作为酸扩散抑制剂，并提供一种化学增强型光刻胶组合物，其中包括该酸扩散抑制剂。当通过光刻技术进行加工时，该光刻胶组合物形成的图案具有最小的缺陷和出色的光刻性能因子，如CDU、LWR和DOF。
• [EN] MACROPHAGE MIGRATION INHIBITORY FACTOR INHIBITORS, AND METHODS OF MAKING AND USING SAME<br/>[FR] INHIBITEURS DU FACTEUR INHIBITEUR DE LA MIGRATION DES MACROPHAGES, ET LEURS PROCÉDÉS DE FABRICATION ET D'UTILISATION
  申请人：UNIV YALE

  公开号：WO2022093817A1

  公开（公告）日：2022-05-05

  The present disclosure provides inhibitors of MIF tautomerase activity. In certain embodiments, the compounds inhibitors are useful in treating or preventing inflammatory and/or auto-immune diseases. In other embodiments, the compounds are useful in reversing, ameliorating, and/or preventing tumor growth. In yet other embodiments, the compounds are useful in reversing, ameliorating, and/or preventing angiogenesis.

  本公开提供了MIF异构酶活性抑制剂。在某些实施例中，这些化合物抑制剂在治疗或预防炎症和/或自身免疫性疾病方面是有用的。在其他实施例中，这些化合物在逆转、改善和/或预防肿瘤生长方面是有用的。在另一些实施例中，这些化合物在逆转、改善和/或预防血管生成方面是有用的。
• Biaryltriazole inhibitors of macrophage migration inhibitory factor
  申请人：YALE UNIVERSITY

  公开号：US10336721B2

  公开（公告）日：2019-07-02

  The present disclosure describes biaryl triazole compounds, as well as their compositions and methods of use. The compounds inhibit the activity of macrophage migration inhibitory factor and are useful for the treatment of diseases, e.g., inflammatory diseases and cancer.

  本公开介绍了双芳基三唑化合物及其组合物和使用方法。这些化合物抑制巨噬细胞迁移抑制因子的活性，可用于治疗疾病，如炎症性疾病和癌症。