tris(4-fluorophenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate | 475598-83-5

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: tris(4-fluorophenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate
• 英文别名: tris(4-fluorophenyl)sulfonium triflate；trifluoromethanesulfonate;tris(4-fluorophenyl)sulfanium
• CAS: 475598-83-5
• 化学式: CF₃O₃S*C₁₈H₁₂F₃S
• 分子量: 466.425
• InChiKey: IZBIRHQNPWSIET-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  5.25
• 重原子数：
  30
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  3.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.05
• 拓扑面积：
  66.6
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tris(4-fluorophenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate 、 丁硫醇 在 sodium hydroxide 、 四丁基溴化铵 作用下， 以 二氯甲烷 为溶剂， 生成 tris(4-n-butylthiophenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  Onium salt compound and radiation-sensitive resin composition

  摘要：

  揭示了具有以下式（1）的阳离子部分的醇盐化合物，其中A代表I或S，m为1或2，n为0或1，x为1-10，Ar1和Ar2为（取代的）芳香烃基团，P代表—O—SO2R，—O—S（O）R或—SO2R，其中R代表氢原子，（取代的）烷基团或（取代的）脂环烃基团。该醇盐化合物适用作为正电子辐射敏感树脂组合物的光酸发生剂。含有该化合物的正电子辐射敏感树脂组合物可用作化学增强型光刻胶，具有高分辨率、高灵敏度，对各种辐射具有响应性，并具有出色的储存稳定性。

  公开号：

  US07217492B2
• 作为产物：
  描述：

  二(4-氟苯基)碘嗡三氟甲磺酸盐 、 4,4'-difluorodiphenyl sulfide 以 1,2-二氯乙烷 为溶剂， 反应 15.0h， 以77%的产率得到tris(4-fluorophenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  三芳基ulf三氟甲磺酸胺对金属的无过渡金属N-芳基化作用

  摘要：

  本文介绍了一种简单有效的三芳基ulf三氟甲磺酸酯对各种胺进行无过渡金属N-芳基化的方法。在t BuOK或KOH存在下，脂族和芳族胺均在80°C下平稳转化，从而以高至高收率获得了相应的单N芳基化产物。反应物的摩尔比和碱的选择对反应有很大的影响。当在标准条件下将大量过量的[Ph 3 S] [OTf]和t BuOK用于伯胺时，主要形成了双（N-苯基）产物。该方法也适用于生物活性氮的合成-苯基氨基酸衍生物。对照实验，氘标记研究以及使用4-取代的三芳基ulf三氟甲磺酸酯时N芳基化产物的区域异构体的存在表明，该反应可能会通过芳烃中间体进行。本方案证明，三芳基ulf盐在C Ar -N键的构建中是通用的芳基化试剂。

  DOI：

  10.1002/chem.201802269

文献信息

• RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POLYPHENOLIC COMPOUND FOR USE IN THE COMPOSITION, AND ALCOHOLIC COMPOUND THAT CAN BE DERIVED THEREFROM
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20160145231A1

  公开（公告）日：2016-05-26

  A resist composition containing a compound represented by the general formula (1) or (2), a method for forming a resist pattern using the composition, a polyphenolic compound for use in the composition, and an alcoholic compound that can be derived therefrom are described.

  描述了一种包含由通式（1）或（2）表示的化合物的光刻胶组合物，使用该组合物形成光刻胶图案的方法，用于该组合物的多酚化合物，以及可以由其衍生的醇化合物。
• Arylation of <i>ortho</i>-Hydroxyarylenaminones by Sulfonium Salts and Arenesulfonyl Chlorides: An Access to Isoflavones
  作者：Satenik Mkrtchyan、Viktor O. Iaroshenko

  DOI：10.1021/acs.joc.0c02294

  日期：2021.4.2

  diversities of bench-stable and easy-to-use sulfonium salts and arenesulfonyl chlorides. Both developed methods, namely the light-mediated photoredox and electrophilic arylation, showed good efficiency, and are feasible for the preparation of 3-arylchromones in good-to-excellent yields. This work showcases the first described attempt where the sulfonium salts and arenesulfonyl chlorides were successfully utilized

  本文中，我们公开了三种新方法，这些方法可通过大量稳定和易于使用的sulf盐和芳烃磺酰氯将邻羟基羟基亚胺基芳基化后，直接有效地合成3-芳基色酮。两种开发的方法，即光介导的光氧化还原和亲电芳基化，均显示出良好的效率，并且对于以良好至优异的产率制备3-芳基色酮是可行的。这项工作展示了首次描述的尝试，其中成功地利用了salts盐和芳烃磺酰氯来构建色酮杂环系统。
• OPTICAL COMPONENT FORMING COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：US20200262787A1

  公开（公告）日：2020-08-20

  The present invention provides an optical component forming composition comprising a tellurium-containing compound or a tellurium-containing resin.

  本发明提供了一种包括含碲化合物或含碲树脂的光学元件成型组合物。
• Visible-Light Photocatalytic Reduction of Sulfonium Salts as a Source of Aryl Radicals
  作者：Simon Donck、Abdulkader Baroudi、Louis Fensterbank、Jean-Philippe Goddard、Cyril Ollivier

  DOI：10.1002/adsc.201300040

  日期：2013.5.17

  Triarylsulfonium salts are prompted to undergo efficient homolytic reduction by single electron transfer under mild photocatalytic conditions. The liberated aryl radical can then participate in carbon‐carbon bond formation processes with allyl sulfones and activated olefins. Triarylsulfonium salts emerge as a valuable and alternative source of aryl radicals for synthesis.

  三芳基ulf盐在温和的光催化条件下通过单电子转移被提示进行有效的均相还原。释放的芳基然后可以与烯丙基砜和活性烯烃一起参与碳-碳键的形成过程。三芳基ulf盐作为合成芳基的有价值和替代来源而出现。
• CROSSLINKING AGENT, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE NEGATIVE RESIST COMPOSITION
  申请人：Okuyama Kenichi

  公开号：US20120115084A1

  公开（公告）日：2012-05-10

  Disclosed are a negative resist composition which shows excellent sensitivity and resolution in pattern formation by exposure to electron beams or EUV, a novel crosslinking agent suitable for the resist composition, and a pattern forming method using the resist composition. The negative resist composition comprises: (A) a polyphenol compound comprising two or more phenolic hydroxyl groups in a molecule thereof and having a molecular weight of 300 to 3,000, (B) an acid generator which directly or indirectly produces acid by exposure to active energy rays having a wavelength of 248 nm or less, and (C) a crosslinking agent represented by the following chemical formula (1). (The symbols shown in the formula (1) are defined in the Description).

  本发明涉及一种负型光阻组合物，通过暴露于电子束或极紫外线下表现出优异的感光性和分辨率，以及适用于该光阻组合物的新型交联剂和使用该光阻组合物的图案形成方法。该负型光阻组合物包括：（A）一种聚酚化合物，其分子中包含两个或更多酚羟基，并且分子量为300至3,000，（B）一种酸发生剂，通过暴露于波长为248nm或更短的活性能量射线而直接或间接产生酸，以及（C）一种由以下化学式（1）表示的交联剂。（化学式（1）中所示的符号在说明中有定义）。