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4-(1-methylpropylthio)phenol

中文名称
——
中文别名
——
英文名称
4-(1-methylpropylthio)phenol
英文别名
4-(1methylpropylthio)phenol;4-butan-2-ylsulfanylphenol
4-(1-methylpropylthio)phenol化学式
CAS
——
化学式
C10H14OS
mdl
——
分子量
182.287
InChiKey
KJHZKRXYOKZWOA-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
  • ADMET
  • 安全信息
  • SDS
  • 制备方法与用途
  • 上下游信息
  • 反应信息
  • 文献信息
  • 表征谱图
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  • 相关功能分类
  • 相关结构分类

计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    3.4
  • 重原子数:
    12
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.4
  • 拓扑面积:
    45.5
  • 氢给体数:
    1
  • 氢受体数:
    2

上下游信息

  • 上游原料
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量
  • 下游产品
    中文名称 英文名称 CAS号 化学式 分子量

反应信息

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文献信息

  • Carbamic and carbamothioic acid esters as pesticides
    申请人:Sandoz Ltd.
    公开号:US04697033A1
    公开(公告)日:1987-09-29
    Certain novel derivatives of carbamates and their use for the control of pests.
    某些新型的氨基甲酸酯衍生物及其在害虫控制中的应用。
  • NEUBAUER, HANS-JURGEN;KARDORFF, UWE;LEYENDECKER, JOACHIM;KUENAST, CHRISTO+
    作者:NEUBAUER, HANS-JURGEN、KARDORFF, UWE、LEYENDECKER, JOACHIM、KUENAST, CHRISTO+
    DOI:——
    日期:——
  • HENRICK, CLIVE A.
    作者:HENRICK, CLIVE A.
    DOI:——
    日期:——
  • ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, USING THE SAME, PATTERN FORMING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE
    申请人:FUJIFILM Corporation
    公开号:US20150140484A1
    公开(公告)日:2015-05-21
    There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprising: (A) a resin containing a repeating unit represented by the first specific formula and a repeating unit represented by the second specific formula, wherein the content of the repeating unit represented by the first specific formula is 35 mol % or more based on all repeating units in the resin (A), a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.
  • US4128530A
    申请人:——
    公开号:US4128530A
    公开(公告)日:1978-12-05
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