methyl 2,2-difluoro-3-hydroxy-4-methyl pentanoate | 138950-17-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 羟基酸及其衍生物
• 英文名称: methyl 2,2-difluoro-3-hydroxy-4-methyl pentanoate
• 英文别名: methyl 2,2-difluoro-3-hydroxy-4-methyl-pentanoate；methyl 2,2-difluoro-3-hydroxy-4-methylpentanoate
• CAS: 138950-17-1
• 化学式: C₇H₁₂F₂O₃
• 分子量: 182.167
• InChiKey: XZGXWOVQBUPWBF-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  242.1±35.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.162±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.5
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.86
• 拓扑面积：
  46.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  5

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  methyl 2,2-difluoro-3-hydroxy-4-methyl pentanoate 在 4-二甲氨基吡啶 、 三乙胺 、 sodium hydroxide 作用下， 以 1,4-二氧六环 、 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 2.0h， 生成 sodium 3-(adamantane-1-carbonyloxy)-2,2-difluoro-4-methylpentanoate
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING PROCESS

  摘要：

  提供了具有公式（1）的羧酸磺酸盐，其中R0为氢或一价烃基，R01和R02为氢或一价烃基，R0、R01和R02中至少有一个具有环状结构，L为单键或与邻位氧原子形成酯、磺酸盐、碳酸酯或氨基甲酸酯键，R2、R3和R4为一价烃基。磺酸盐在抗蚀剂组合物中起到淬灭剂的作用，能够形成具有良好轮廓、最小LWR、矩形度和高分辨率的图案。

  公开号：

  US20150086926A1
• 作为产物：
  描述：

  2,2-difluoro-3-hydroxy-4-methylpentanoic acid 在 对甲苯磺酸一水合物 作用下， 以 甲醇 、 苯 为溶剂， 以85%的产率得到methyl 2,2-difluoro-3-hydroxy-4-methyl pentanoate
  参考文献：
  名称：

  Fluorinated ester monomer, making method, fluorinated ester polymer, and difluorohydroxycarboxylic acid

  摘要：

  提供一种具有公式（1）的氟化酯单体，其中R1为H、CH3或CF3，R2和R3为H或单价烃基，或R2和R3形成烃环，R4为单价烃基，k为0或1。从该单体获得的聚合物具有对波长高达200纳米的辐射透明度和适当的碱性水解性能，其结构可以通过选择进行任何的防水性、水滑性和表面分离调整，并且在形成ArF浸没光刻材料方面非常有用。

  公开号：

  US08697903B2

文献信息

• FLUORINATED ESTER MONOMER, MAKING METHOD, FLUORINATED ESTER POLYMER, AND DIFLUOROHYDROXYCARBOXYLIC ACID
  申请人：KINSHO Takeshi

  公开号：US20120083580A1

  公开（公告）日：2012-04-05

  A fluorinated ester monomer is provided having formula (1) wherein R 1 is H, CH 3 or CF 3 , R 2 and R 3 are H or a monovalent hydrocarbon group, or R 2 and R 3 forms a hydrocarbon ring, R 4 is a monovalent hydrocarbon group, and k is 0 or 1. A polymer obtained from the monomer has transparency to radiation with a wavelength of up to 200 nm and appropriate alkaline hydrolysis, is constructed such that any of water repellency, water slip and surface segregation may be adjusted by a choice of its structure, and is useful in forming ArF immersion lithography materials.

  提供了一种氟化酯单体，其化学式为（1），其中R1为H、CH3或CF3，R2和R3为H或单价碳氢基团，或R2和R3形成碳氢环，R4为单价碳氢基团，k为0或1。从该单体中获得的聚合物具有对波长达200纳米的辐射透明度和适当的碱性水解性，其结构可以通过选择来调节任何的防水性、水滑性和表面分离性，可用于制备ArF浸没光刻材料。
• Chemically-amplified positive resist composition and resist patterning process using the same
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US09500949B2

  公开（公告）日：2016-11-22

  The present invention provides a chemically-amplified positive resist composition including a sulfonium salt capable of providing a pattern having an extremely high resolution with low line edge roughness, and also provides a resist patterning process using the same. The present invention was accomplished by a chemically-amplified positive resist composition including: (A) a salt represented by the following general formula (1); and (B) a resin containing a repeating unit represented by the following general formula (U-1) that dissolves by acid action and increases solubility in an alkaline developer, and a resist patterning process using the same.

  本发明提供了一种化学增强型正电子光阻组合物，包括一种能够提供极高分辨率和低线边粗糙度的磺酸盐，并提供使用该组合物的光阻图案化过程。本发明通过包括以下通式（1）所表示的盐（A）和含有通过酸作用溶解并增加在碱性显影剂中的溶解度的以下通式（U-1）所表示的重复单元的树脂（B）的化学增强型正电子光阻组合物实现。同时还提供使用该组合物的光阻图案化过程。
• Electroreductive coupling of halofluoro compounds with aldehydes
  作者：Tatsuya Shono、Naoki Kise、Hideaki Oka

  DOI：10.1016/0040-4039(91)80223-s

  日期：1991.11

  Electroreductive intermolecular coupling of halofluoro compounds such as 1,1,1-trichloro-2,2,2-trifluoroethane, methyl chlorodifluoroacetate, and perfluoroalkyl halides with aldehydes took place effectively in the presence of chlorotrimethylsilane and one of the coupling products, 2,2-dichloro-3,3,3-trifluoro-1-phenyl-1-propanol, was selectively convertible to a variety of compounds with using the electroreduction as a key reaction.
• US8697903B2
  申请人：——

  公开号：US8697903B2

  公开（公告）日：2014-04-15
• US9221742B2
  申请人：——

  公开号：US9221742B2

  公开（公告）日：2015-12-29