苄基三甲基(1,1,3,3,3-五氟-2-羟基丙磺酸)铵 | 1373617-52-7

• 物质功能分类: 化学试剂 - 有机试剂 - 胺盐（铵盐）
• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 苄基三甲基(1,1,3,3,3-五氟-2-羟基丙磺酸)铵
• 中文别名: 苄基三甲基铵-1,1,3,3,3-五氟-2-羟基丙磺酸季铵盐
• 英文名称: benzyltrimethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-hydroxypropane-1-sulfonate
• 英文别名: benzyltrimethylammonium 2-hydroxy-1,1,3,3,3-pentafluoropropanesulfonate；Benzyltrimethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-hydroxypropane-1-sulfonate；benzyl(trimethyl)azanium;1,1,3,3,3-pentafluoro-2-hydroxypropane-1-sulfonate
• CAS: 1373617-52-7
• 化学式: C₃H₂F₅O₄S*C₁₀H₁₆N
• 分子量: 379.348
• InChiKey: JTDPJWGXKSGRHE-UHFFFAOYSA-M

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.94
• 重原子数：
  24
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.54
• 拓扑面积：
  85.8
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  9

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  苄基三甲基(1,1,3,3,3-五氟-2-羟基丙磺酸)铵 生成 benzyltrimethylammonium 1,1,3,3,3-pentafluoro-2-(3,7,12-trioxocholanoyloxy)-1-propanesulfonate
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM SALT, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS

  摘要：

  提供了一种具有氟烷氧链的萘基四氢噻吩阳离子的磺酸盐，具有特定阴离子。该磺酸盐用作光酸发生剂，形成抗蚀剂组合物，当通过浸没光刻法处理时，提供了在浸没水中受抑制的溶解和更少的图案依赖性或暗/亮偏差的优点。

  公开号：

  US20120100486A1
• 作为产物：
  描述：

  苄基三甲基氯化铵 在 水 、 sodium hydrogensulfite 、 sodium hydroxide 作用下， 以 甲醇 、 水 为溶剂， 反应 48.0h， 生成 苄基三甲基(1,1,3,3,3-五氟-2-羟基丙磺酸)铵
  参考文献：
  名称：

  SULFONIUM SALT-CONTAINING POLYMER, RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND SULFONIUM SALT MONOMER AND MAKING METHOD

  摘要：

  一种含有4-氟苯基的磺鎵盐被引入到聚合物中，该聚合物包含羟基苯基（甲基）丙烯酸酯单元和含酸性易裂解基团的（甲基）丙烯酸酯单元，形成一种聚合物，可用作抗蚀剂组成中的基础树脂。抗蚀剂组成具有高灵敏度、高分辨率和最小化LER。

  公开号：

  US20140296561A1

文献信息

• 新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法
  申请人：信越化学工业株式会社

  公开号：CN111440104B

  公开（公告）日：2023-03-24

  本发明涉及新颖鎓盐、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供一种新颖鎓盐，其是在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光刻中，高感度且酸扩散小、曝光裕度、掩膜误差因子、线宽粗糙度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物中使用；并提供含有该鎓盐作为光酸产生剂的化学增幅抗蚀剂组成物、及使用了该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种鎓盐，是以下式(1)表示的。
• ONIUM SALT, CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：US20200223796A1

  公开（公告）日：2020-07-16

  A novel onium salt of formula (1) and a chemically amplified resist composition comprising the same as a PAG are provided. When processed by photolithography using KrF or ArF excimer laser, EB or EUV, the resist composition has a high sensitivity and reduced acid diffusion and is improved in exposure latitude, MEF, and LWR.

  提供了一种化学增感剂组合物，其中包括式（1）的新型离子盐作为PAG。当使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV进行光刻工艺处理时，该抗蚀组合物具有高灵敏度、减少酸扩散，并在曝光宽度、MEF和LWR方面得到改善。
• NEAR-INFRARED ABSORBING DYE, NEAR-INFRARED ABSORPTIVE FILM-FORMING COMPOSITION, AND NEAR-INFRARED ABSORPTIVE FILM
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20120119171A1

  公开（公告）日：2012-05-17

  A near-infrared absorbing dye has an anion of formula (1) wherein A 1 is H or CF 3 , R 0 is OH or —OC(═O)—R′, and R′ is a monovalent hydrocarbon group. The dye has excellent solvent solubility as well as good optical properties and heat resistance, offering the advantages of easy coating and effective working during film formation. The dye free of heavy metal in its structure is advantageously used in the process of fabricating semiconductor devices.

  一种近红外吸收染料具有如下式（1）的阴离子，其中A1为H或CF3，R0为OH或—OC(═O)—R′，而R′为一价碳氢基团。该染料具有优异的溶剂溶解性以及良好的光学性能和耐热性，提供易于涂覆和在薄膜形成过程中有效工作的优点。该染料在其结构中不含重金属，因此在制造半导体器件的过程中具有优势应用。
• RESIST COMPOSITION, PATTERNING PROCESS, AND BARIUM, CESIUM AND CERIUM SALTS
  申请人：SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.

  公开号：US20170115566A1

  公开（公告）日：2017-04-27

  A resist composition comprising a base resin comprising acid labile group-containing recurring units and preferably acid generator-containing recurring units, and a sodium, magnesium, potassium, calcium, rubidium, strontium, yttrium, cesium, barium or cerium salt of α-fluorinated sulfonic acid bonded to an alkyl, alkenyl, alkynyl or aryl group exhibits a high resolution and sensitivity and forms a pattern of satisfactory profile with minimal LWR after exposure and development.

  一种抗蚀组合物包括基树脂，其中包含含酸敏感基团的重复单元，最好包含含酸发生剂的重复单元，以及与烷基、烯基、炔基或芳基结合的α-氟磺酸的钠、镁、钾、钙、铷、锶、钇、铯、钡或铈盐，表现出高分辨率和灵敏度，并在曝光和显影后形成具有最小LWR的满意轮廓图案。
• 新的鎓盐、化学放大抗蚀剂组合物和图案化方法
  申请人：信越化学工业株式会社

  公开号：CN111087334B

  公开（公告）日：2022-03-01

  本发明为新的鎓盐、化学放大抗蚀剂组合物和图案化方法。提供新的鎓盐和包含其作为PAG的抗蚀剂组合物。当通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行处理时，抗蚀剂组合物的酸扩散降低，曝光裕度、MEF和LWR改善。