2,5-二甲氧基-4-羟基嘧啶 | 370103-23-4

• 物质功能分类: 医药中间体 - 杂环化合物 - 嘧啶类化合物
• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机杂环化合物 - 二嗪类
• 中文名称: 2,5-二甲氧基-4-羟基嘧啶
• 英文名称: 2,5-dimethoxy-4-hydroxypyrimidine
• 英文别名: 2,5-Dimethoxypyrimidin-4(3H)-one；2,5-dimethoxy-1H-pyrimidin-6-one
• CAS: 370103-23-4
• 化学式: C₆H₈N₂O₃
• 分子量: 156.141
• InChiKey: JEARLRMCZMBVFC-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 密度：
  1.31

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  -0.1
• 重原子数：
  11
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.33
• 拓扑面积：
  59.9
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2,5-二甲氧基-4-羟基嘧啶 在 三氯氧磷 、 三乙胺 作用下， 以 甲苯 为溶剂， 以2 g的产率得到4-氯-2,5-二甲氧基嘧啶
  参考文献：
  名称：

  嘧啶酮类衍生物及其药物组合物、制备方法和用途

  摘要：

  本公开涉及一种嘧啶酮类衍生物及其用途，具体而言，提供了一类式(I)所示的嘧啶酮类化合物或其药学上可接受的盐，其可用于制备药物，特别是制备预防和/或治疗FXIa介导的疾病或病症的药物。式(I)中各基团如说明书中所定义。#imgabs0#

  公开号：

  CN117285517A
• 作为产物：
  描述：

  sodium salt of methyl 3-hydroxy-2-methoxy-acrylate 、 O-甲基异脲 在 盐酸 作用下， 以 水 为溶剂， 生成 2,5-二甲氧基-4-羟基嘧啶
  参考文献：
  名称：

  2-alkoxy-5-methoxypyrimidines or their tautomeric forms and methods for producing the same

  摘要：

  描述了小说2-烷氧基-5-甲氧基嘧啶及其互变异构形式以及制备它们的过程。根据本发明，2-烷氧基-5-甲氧基嘧啶可以从简单的前体物质中在几个反应步骤中高产率地合成。

  公开号：

  US20030022908A1

文献信息

• NOVOLAC RESIN AND RESIST FILM
  申请人：DIC Corporation

  公开号：US20180334523A1

  公开（公告）日：2018-11-22

  Provided are a novolac resin having developability, heat resistance, and dry etching resistance, and a photosensitive composition, a curable composition, and a resist film. A novolac resin including, as a repeating unit, a structural moiety represented by Structural Formula (1) or (2): (in the formula, Ar represents an arylene group, R 1 's each independently represent any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, and a halogen atom, m's each independently represent an integer of 1 to 3, and X is any one of a hydrogen atom, a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group) in which at least one of X's present in the resin is any one of a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group.

  提供一种具有可开发性、耐热性和干法蚀刻抗性的新戊醛树脂，以及一种光敏组合物、可固化组合物和抗蚀膜。一种新戊醛树脂包括以下结构单元： （在公式中，Ar代表芳基，R 1 分别独立地代表氢原子、烷基、烷氧基和卤素原子中的任意一种，m分别独立地代表1至3的整数，X代表氢原子、三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种），树脂中至少有一个X是三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种。
• Process for preparing fluorine-containing norbornene derivative
  申请人：DAIKIN INDUSTRIES, LTD.

  公开号：US20040214103A1

  公开（公告）日：2004-10-28

  There are provided a novel norbornene derivative which is a material for a chemically amplifying type photoresist for F 2 laser, possesses excellent transparency and improved dry etching resistivity and has a fluorine-containing ketone unit or fluorine-containing tertiary alcohol unit directly bonded to the norbornene backbone; a fluorine-containing polymer obtained by using the norbornene derivative as a copolymerizable monomer; and a chemically amplifying type photoresist composition comprising the fluorine-containing polymer, a photoacid generator and a solvent.

  提供了一种新型的诺博烯衍生物，可用作F2激光化学扩增型光刻胶的材料，具有优异的透明性和改善的干法蚀刻抗性，并且具有直接连接到诺博烯骨架的含氟酮基或含氟三级醇基；通过使用该诺博烯衍生物作为共聚单体获得的含氟聚合物；以及包括含氟聚合物、光酸发生剂和溶剂的化学扩增型光刻胶组合物。
• MODIFIED HYDROXY NAPHTHALENE NOVOLAK RESIN, PRODUCTION METHOD FOR MODIFIED HYDROXY NAPHTHALENE NOVOLAK RESIN, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, RESIST MATERIAL AND COATING
  申请人：DIC CORPORATION

  公开号：US20160177020A1

  公开（公告）日：2016-06-23

  There is provided a modified hydroxy naphthalene novolak resin optimal for a photosensitive composition and a resist material having high optical sensitivity, resolution, and alkali developability, and excellent heat resistance and moisture absorption resistance, and the modified hydroxy naphthalene novolak resin includes a structural moiety (I). In the formula, le is any one of a hydrogen atom, a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group; m is 1 or 2; R 2 's each independently is any one of a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an aryl group, an aralkyl group, and a halogen atom; and at least one of the R 1 's present in the resin is any one of a tertiary alkyl group, an alkoxyalkyl group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a hetero atom-containing cyclic hydrocarbon group, and a trialkylsilyl group.

  提供了一种改性羟基萘酚诺伏酚树脂，最适用于具有高光学灵敏度、分辨率和碱性可开发性、以及出色的耐热性和吸湿性的光敏组合物和抗蚀材料，所述改性羟基萘酚诺伏酚树脂包括结构基团（I）。在公式中，le是氢原子、三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种；m为1或2；R2各自独立地是氢原子、烷基、烷氧基、芳基、芳基烷基和卤素原子中的任意一种；并且树脂中存在的至少一个R1是三级烷基、烷氧基烷基、酰基、烷氧羰基、含杂原子的环烃基和三烷基硅基中的任意一种。
• [EN] FXIA INHIBITOR AND PHARMACEUTICAL COMPOSITION, PREPARATION METHOD AND USE THEREOF<br/>[FR] INHIBITEUR DE FXIA ET COMPOSITION PHARMACEUTIQUE, SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET SON UTILISATION<br/>[ZH] FXIa抑制剂及其药物组合物、制备方法和用途
  申请人：SHANGHAI MEIYUE BIOTECH DEV CO LTD

  公开号：WO2022222960A1

  公开（公告）日：2022-10-27

  本发明公开了一种式I所示取代的吡啶酮类大环化合物、其药物组合物和用途。该化合物具有FXIa抑制作用，且具有良好的药代动力学等性能，可用于治疗与血液凝固有关的疾病，以及制备用于此类病症或疾病的药物，如用于制备抗凝血药物，预防和/或治疗血栓的药物。
• NOVEL FLUOROPOLYMER HAVING ACID-REACTIVE GROUP AND CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
  申请人：Daikin Industries, Ltd.

  公开号：EP1275666A1

  公开（公告）日：2003-01-15

  There is provided a novel fluorine-containing polymer having an acid-reactive group which has a high transparency against energy rays (radioactive rays) in a vacuum ultraviolet region (157 nm), and further there are provided a material for fluorine-containing base polymer prepared from the polymer and suitable for a photoresist and a chemically amplifying type resist composition obtained therefrom. The polymer has a number average molecular weight of from 1,000 to 1,000,000 and represented by the formula: -(M1)-(M2)-(A)-, wherein M1 is a structural unit having an acid-labile or acid-degradable functional group, M2 is a structural unit of fluorine-containing acryl ester, A is a structural unit derived from other copolymerizable monomer, the percent by mole ratio M1/M2 is 1 to 99/99 to 1 and the polymer comprises from 1 to 99 % by mole of the structural unit M1, from 1 to 99 % by mole of the structural unit M2 and from 0 to 98 % by mole of the structural unit A1. The material for fluorine-containing base polymer comprises a fluorine-containing polymer having an acid-reactive group such as the above-mentioned polymer and is suitable for a photoresist, and the chemically amplifying type resist composition is obtained from those polymer and material.

  本发明提供了一种具有酸反应基团的新型含氟聚合物，该聚合物对真空紫外线区域（157 纳米）的能量射线（放射性射线）具有高透明度，此外还提供了一种由该聚合物制备的、适用于光刻胶的含氟基础聚合物材料，以及由该聚合物制备的化学放大型抗蚀剂组合物。 该聚合物的平均分子量为 1,000 到 1,000,000 之间，由式表示：-(M1)-(M2)-(A)-，其中 M1 是具有酸性或酸性可降解官能团的结构单元，M2 是含氟丙烯酸酯的结构单元，A 是来自其他可共聚单体的结构单元，M1/M2 的摩尔比为 1 至 99/99 至 1，聚合物包括 1 至 99 %（以摩尔计）的结构单元 M1、1 至 99 %（以摩尔计）的结构单元 M2 和 0 至 98 %（以摩尔计）的结构单元 A1。含氟基聚合物的材料包括具有酸反应基团的含氟聚合物，如上述聚合物，并适用于光刻胶，化学放大型抗蚀剂组合物由这些聚合物和材料获得。