2-Chlor-4-sec.-butyl-phenol | 33129-81-6

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2-Chlor-4-sec.-butyl-phenol
• 英文别名: 2-Chlor-4-sec.butyl-phenol；2-Chloro-4-sec-butyl-phenol；4-butan-2-yl-2-chlorophenol
• CAS: 33129-81-6
• 化学式: C₁₀H₁₃ClO
• 分子量: 184.666
• InChiKey: MZIOUEUCXGSVJO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  82 °C(Press: 3 Torr)
• 密度：
  1.1061 g/cm3

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  12
• 可旋转键数：
  2
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.4
• 拓扑面积：
  20.2
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  1

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  2-Chlor-4-sec.-butyl-phenol 在 盐酸 、 硫酸 、 溶剂黄146 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 17.5h， 生成 2-Aminomethyl-4-sec-butyl-6-chloro-phenol; hydrochloride
  参考文献：
  名称：

  2-（氨基甲基）苯酚，一类新的利尿剂。1.核替代的影响。

  摘要：

  合成了一系列2-（氨基甲基）酚，并在大鼠和狗中测试了其利尿和利尿活性。这些化合物中的许多在静脉内或口服给药时表现出高活性。活性最高的化合物属于4-烷基-6-卤代衍生物的子系列，其中2，2-（氨基甲基）-4-（1,1-二甲基乙基）-6-碘酚是最具活性的。化合物2还具有显着的降压活性，这是一种辅助药理参数，可将2与本系列制备的其他化合物区分开。此外，2显示局部利尿和抗炎活性。

  DOI：

  10.1021/jm00186a024
• 作为产物：
  描述：

  邻氯苯酚 、 2-溴丁烷 在 三氯化铁 作用下， 反应 0.5h， 生成 2-Chlor-4-sec.-butyl-phenol 、 2-Chloro-6-(1-methylpropyl)phenol
  参考文献：
  名称：

  Alieva, M. K.; Akhmedov, K. N., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1983, vol. 19, # 10, p. 1850 - 1853

  摘要：

  DOI：
• 作为试剂：
  描述：

  2'-chloro-5-methylacetophenone 在 氢氧化钾 、 2-Chlor-4-sec.-butyl-phenol 、 铜 、 sulfur 作用下， 以 甲醇 为溶剂， 反应 120.0h， 生成 [2-(4-sec-Butyl-2-chloro-phenoxy)-5-methyl-phenyl]-acetic acid
  参考文献：
  名称：

  具有抗炎活性的取代的（2-苯氧基苯基）乙酸。1。

  摘要：

  描述了一系列取代的（2-苯氧基苯基）乙酸的合成和抗炎活性。在佐剂关节炎试验中的初步筛选显示苯氧基环中的卤素取代大大增强了活性。用最小致溃疡剂量（MUD）衡量的致溃疡潜力在几乎所有测试的酸中均很低。[2-（2,4-二氯苯氧基）苯基]乙酸具有最有利的效价和低毒性，包括致溃疡性，该化合物现已用于治疗。

  DOI：

  10.1021/jm00364a004

文献信息

• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, MASK BLANK PROVIDED WITH ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE FILM, PATTERN FORMING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US20160280675A1

  公开（公告）日：2016-09-29

  The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a crosslinking agent having a polarity converting group and an alkali-soluble resin, in which the polarity converting group is a group capable of decomposing by the action of an alkaline aqueous solution to generate a carboxylic acid or sulfonic acid on the side having a crosslinking group.

  感光树脂或辐射敏感树脂组合物包括具有极性转换基团和可溶于碱性树脂的交联剂，其中极性转换基团是一种能够通过碱性水溶液作用分解并在具有交联基团的侧面生成羧酸或磺酸的基团。
• 5-CYANO-4- (PYRROLO [2,3B] PYRIDINE-3-YL) -PYRIMIDINE DERIVATIVES USEFUL AS PROTEIN KINASE INHIBITORS
  申请人：Mortimore Michael

  公开号：US20120309963A1

  公开（公告）日：2012-12-06

  The present invention relates to compounds useful as inhibitors of protein kinase. The invention also provides pharmaceutically acceptable compositions comprising said compounds and methods of using the compositions in the treatment of various disease, conditions, or disorders. The invention also provides processes for preparing compounds of the inventions.

  本发明涉及用作蛋白激酶抑制剂的化合物。本发明还提供了包含所述化合物的药学上可接受的组合物以及使用该组合物治疗各种疾病、病况或疾患的方法。本发明还提供了制备本发明化合物的方法。
• ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST FILM, RESIST-COATED MASK BLANKS, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTOMASK EACH USING THE COMPOSITION
  申请人：FUJIFILM CORPORATION

  公开号：US20150010855A1

  公开（公告）日：2015-01-08

  There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition containing (α) a compound represented by the formula (αI) capable of generating an acid having a size of 200 Å 3 or more in volume and (β) a compound capable of generating an acid upon irradiation with an actinic ray or radiation, and the formula (αI) is defined as herein, and a resist film formed using the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition, a resist-coated mask blanks coated with the resist film, a resist pattern forming method comprising exposing the resist film and developing the exposed film, a photomask obtained by exposing and developing the resist-coated mask blanks, a method for manufacturing an electronic device, comprising the resist pattern forming method and an electronic device manufactured by the manufacturing method of an electronic device.

  提供一种感光或辐射敏感的组合物，其中包含(α)一种化合物，其由公式(αI)表示，能够产生大小为200Å3或更大的体积的酸，以及(β)一种化合物，能够在受到光辐射或辐射时产生酸，公式(αI)的定义如本文所述。还提供了使用该感光或辐射敏感组合物形成的光阻膜，涂有光阻膜的光阻涂层掩模坯料，包括曝光光阻膜和显影曝光后膜的光阻图案形成方法，通过曝光和显影涂有光阻涂层的掩模坯料获得的光掩模，以及一种电子器件的制造方法，包括光阻图案形成方法和制造电子器件的电子器件制造方法，以及通过该电子器件制造方法制造的电子器件。
• PPAR agonists and methods of use thereof
  申请人：The Salk Institute for Biological Studies

  公开号：US10035819B2

  公开（公告）日：2018-07-31

  Provided herein are deuterated compounds and compositions useful in increasing PPARδ activity. The compounds have a formula where L5 comprises at least one deuterium. Exemplary species include The compounds and compositions provided herein are useful for the treatment of PPARδ related diseases (e.g., muscular diseases, vascular disease, demyelinating disease, and metabolic diseases).

  本文提供了有助于提高 PPARδ 活性的氚代化合物和组合物。这些化合物的化学式为 其中 L5 包含至少一个氘。示例物种包括 本文提供的化合物和组合物可用于治疗 PPARδ 相关疾病（如肌肉疾病、血管疾病、脱髓鞘疾病和代谢性疾病）。
• Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank provided with actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device, and compound
  申请人：FUJIFILM Corporation

  公开号：US10011576B2

  公开（公告）日：2018-07-03

  The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a crosslinking agent having a polarity converting group and an alkali-soluble resin, in which the polarity converting group is a group capable of decomposing by the action of an alkaline aqueous solution to generate a carboxylic acid or sulfonic acid on the side having a crosslinking group.

  光敏或辐射敏感树脂组合物包括具有极性转换基团的交联剂和碱溶性树脂，其中极性转换基团是能够在碱性水溶液作用下分解的基团，在具有交联基团的一侧生成羧酸或磺酸。