苯甲酮-2,4,5-三羧酸 | 135989-69-4

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: 苯甲酮-2,4,5-三羧酸
• 中文别名: 二苯甲酮-2,4,5三羧基酸；5-苯甲酰基-1,2,4-苯三羧酸
• 英文名称: benzophenone-2,4,5-tricarboxylic acid
• 英文别名: 5-benzoyl-benzene-1,2,4-tricarboxylic acid；5-Benzoyl-benzol-1,2,4-tricarbonsaeure；α-Oxo-diphenylmethan-tricarbonsaeure-(2.4.5)；Benzophenon-tricarbonsaeure-(2.4.5)；5-Benzoyl-trimellitsaeure；5-benzoylbenzene-1,2,4-tricarboxylic acid
• CAS: 135989-69-4
• 化学式: C₁₆H₁₀O₇
• 分子量: 314.251
• InChiKey: OGQPSIOWWYARAZ-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 熔点：
  224℃
• 沸点：
  637℃
• 密度：
  1.531
• 闪点：
  353℃
• 溶解度：
  溶于甲醇

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  1.8
• 重原子数：
  23
• 可旋转键数：
  5
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.0
• 拓扑面积：
  129
• 氢给体数：
  3
• 氢受体数：
  7

安全信息

• 海关编码：
  2918300090

SDS

苯甲酮-2,4,5-三羧酸 修改号码：5

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模块 1. 化学品
产品名称： Benzophenone-2,4,5-tricarboxylic Acid
修改号码： 5

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模块 2. 危险性概述
GHS分类
物理性危害 未分类
健康危害
皮肤腐蚀/刺激 第2级
严重损伤/刺激眼睛 2A类
环境危害 未分类
GHS标签元素
图标或危害标志
信号词 警告
危险描述 造成皮肤刺激
造成严重眼刺激
防范说明
[预防] 处理后要彻底清洗双手。
穿戴防护手套/护目镜/防护面具。
[急救措施] 眼睛接触：用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续冲洗。
眼睛接触：求医/就诊
皮肤接触：用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激：求医/就诊。
脱掉被污染的衣物，清洗后方可重新使用。

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模块 3. 成分/组成信息
单一物质/混和物 单一物质
化学名(中文名)： 苯甲酮-2,4,5-三羧酸
百分比： >98.0%(T)
CAS编码： 135989-69-4
俗名： 5-Benzoylbenzene-1,2,4-tricarboxylic Acid
苯甲酮-2,4,5-三羧酸 修改号码：5

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模块 3. 成分/组成信息
分子式： C16H10O7

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模块 4. 急救措施
吸入： 将受害者移到新鲜空气处，保持呼吸通畅，休息。若感不适请求医/就诊。
皮肤接触： 立即去除/脱掉所有被污染的衣物。用大量肥皂和水轻轻洗。
若皮肤刺激或发生皮疹：求医/就诊。
眼睛接触： 用水小心清洗几分钟。如果方便，易操作，摘除隐形眼镜。继续清洗。
如果眼睛刺激：求医/就诊。
食入： 若感不适，求医/就诊。漱口。
紧急救助者的防护： 救援者需要穿戴个人防护用品，比如橡胶手套和气密性护目镜。

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模块 5. 消防措施
合适的灭火剂： 干粉，泡沫，雾状水，二氧化碳
特定方法： 从上风处灭火，根据周围环境选择合适的灭火方法。
非相关人员应该撤离至安全地方。
周围一旦着火：如果安全，移去可移动容器。
消防员的特殊防护用具： 灭火时，一定要穿戴个人防护用品。

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模块 6. 泄漏应急处理
个人防护措施，防护用具， 使用个人防护用品。远离溢出物/泄露处并处在上风处。
紧急措施： 泄露区应该用安全带等圈起来，控制非相关人员进入。
环保措施： 防止进入下水道。
控制和清洗的方法和材料： 清扫收集粉尘，封入密闭容器。注意切勿分散。附着物或收集物应该立即根据合适的
法律法规处置。

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模块 7. 操作处置与储存
处理
技术措施： 在通风良好处进行处理。穿戴合适的防护用具。防止粉尘扩散。处理后彻底清洗双手
和脸。
注意事项： 如果粉尘或浮质产生，使用局部排气。
操作处置注意事项： 避免接触皮肤、眼睛和衣物。
贮存
储存条件： 保持容器密闭。存放于凉爽、阴暗处。
远离不相容的材料比如氧化剂存放。
包装材料： 依据法律。

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模块 8. 接触控制和个体防护
工程控制： 尽可能安装封闭体系或局部排风系统，操作人员切勿直接接触。同时安装淋浴器和洗
眼器。
个人防护用品
呼吸系统防护： 防尘面具。依据当地和政府法规。
手部防护： 防护手套。
眼睛防护： 安全防护镜。如果情况需要，佩戴面具。
皮肤和身体防护： 防护服。如果情况需要，穿戴防护靴。

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模块 9. 理化特性
外形（20°C）： 固体
外观： 晶体-粉末
颜色： 白色-极淡的黄色
苯甲酮-2,4,5-三羧酸 修改号码：5

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模块 9. 理化特性
气味： 无资料
pH: 无数据资料
熔点： 无资料
沸点/沸程 无资料
闪点： 无资料
爆炸特性
爆炸下限： 无资料
爆炸上限： 无资料
密度： 无资料
溶解度：
[水] 无资料
[其他溶剂]
溶于： 甲醇

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模块 10. 稳定性和反应性
化学稳定性： 一般情况下稳定。
危险反应的可能性： 未报道特殊反应性。
须避免接触的物质 氧化剂
危险的分解产物: 一氧化碳, 二氧化碳

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模块 11. 毒理学信息
急性毒性： 无资料
对皮肤腐蚀或刺激： 无资料
对眼睛严重损害或刺激： 无资料
生殖细胞变异原性： 无资料
致癌性：
IARC = 无资料
NTP = 无资料
生殖毒性： 无资料

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模块 12. 生态学信息
生态毒性：
鱼类： 无资料
甲壳类： 无资料
藻类： 无资料
残留性 / 降解性： 无资料
潜在生物累积 （BCF): 无资料
土壤中移动性
log水分配系数： 无资料
土壤吸收系数 （Koc）： 无资料
亨利定律 无资料
constaNT(PaM3/mol):

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模块 13. 废弃处置
如果可能，回收处理。请咨询当地管理部门。建议在可燃溶剂中溶解混合，在装有后燃和洗涤装置的化学焚烧炉中
焚烧。废弃处置时请遵守国家、地区和当地的所有法规。

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模块 14. 运输信息
联合国分类： 与联合国分类标准不一致
苯甲酮-2,4,5-三羧酸 修改号码：5

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模块 14. 运输信息
UN编号： 未列明

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模块 15. 法规信息
《危险化学品安全管理条例》（2002年1月26日国务院发布，2011年2月16日修订）: 针对危险化学品的安全使用、
生产、储存、运输、装卸等方面均作了相应的规定。

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模块16 - 其他信息
N/A

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  苯甲酮-2,4,5-三羧酸 在 硫酸 作用下， 反应 11.0h， 生成 2,3-dicarboxy-6-sulfoanthraquinone
  参考文献：
  名称：

  Tetraanthraquinonoporphyrazines: I. Substituted 2,3-Dicarboxyanthraquionones

  摘要：

  新程序被开发用于通过芳烃的酰化反应制备取代的2,3-二羧基蒽醌，随后通过产物的分子内环化反应进行。制备的2,3-二羧基蒽醌进一步通过氧化、磺化、硝化和还原进行修饰。

  DOI：

  10.1007/s11176-005-0384-x
• 作为产物：
  描述：

  1,2,4-三甲基苯 在 三氯化铝 、 硝酸 作用下， 以 二氯甲烷 、 水 为溶剂， 反应 120.0h， 生成 苯甲酮-2,4,5-三羧酸
  参考文献：
  名称：

  antAib，一种新型的被保护的衍生物的合成和短肽Ç α -tetrasubstitutedα氨基的AC的酸5 C型具有稠合的蒽荧光团

  摘要：

  所述Ñ α -Boc和Ñ α -Fmoc保护的2-氨基-2,3-二氢-1衍生物ħ环戊二烯并[ b ]蒽-2-羧酸（antAib），一种新型的荧光，非手性，α氨基酸中，已知的9-antAla和2- antAla残基的刚性类似物，和属于类的ç我α →交通ç我α环化，ç α，α从1,2,4-三甲基苯分七个步骤合成了α-二取代的甘氨酸（肽中的强β-转角和螺旋诱导剂）。还描述了Boc–antAib–OEt和Boc–antAib–OH的紫外线吸收和荧光特性。短肽Boc–antAib–1–Ala–OMe，Fmoc–1–Ala–antAib–1–Ala–OMe以及Boc–Aib–antAib–1–Ala–OMe和副产物的溶液合成2提出了5-二氧杂哌嗪环-[antAib-1-Ala]作为antAib残基在C-和N-末端的偶联能力的例子。

  DOI：

  10.1016/j.tet.2006.04.055

文献信息

• Synthesis of naphtho[f]ninhydrin
  作者：Johnny L. Hallman、Richard A. Bartsch

  DOI：10.1021/jo00021a055

  日期：1991.10
• Clar, Chemische Berichte, 1948, vol. 81, p. 52,55
  作者：Clar

  DOI：——

  日期：——
• Current mechanisms in VLWIR Hg1−xCdxTe photodiodes
  作者：A. I. D'Souza、R. E. Dewames、P. S. Wijewarnasuriya、G. Hildebrandt、J. M. Arias

  DOI：10.1007/bf02665838

  日期：2001.6

  VLWIR (lambda (c) similar to 15 mum to 17 ym at 78 K) detectors have been characterized as a function of temperature to determine the dominant current mechanisms impacting detector performance. I-d - V-d curves indicate that VLWIR detectors are diffusion limited in reverse and near zero bias voltages down to temperatures in the 40 K range. At 30 K the detectors are limited by tunneling currents in reverse bias. Since the detectors are diffusion limited near zero bias down to 40 K, the R(o)A(imp) versus temperature data represents the diffusion current performance of the detector as a function of temperature. The detector spectral response measurement and active layer thickness are utilized to calculate the HgCdTe layer x value and the optical activation energy E-a optical. The activation energy, E-a electrical, Obtained from the measured diffusion limited R(o)A(imp) versus temperature data is not equal to the activation energy, E-a optical, obtained from the spectral response measurement for all x values measured. E-a electrical = beta* E-a optical, where beta ranges between 0.64 and 1.0 For cutoff wavelengths in the less than or equal to 9 mum at 78 K, E-a electrical = E-a optical. E-a electrical = 0.65* E-a optical have been measured for lambda (c) = 17 mum at 78 K detectors. As the band gap energy decreases to values in the range of 70 meV and lower, it is reasonable to expect a more dominant role of band tailing effects on the transport properties of the material system. In such a picture, one would expect the optical band gap to be unmodified, whereas the intrinsic concentration could be enhanced from its value for the ideal semiconductor. Such a picture could explain the observed behavior. Further probing experiments and modeling efforts will help clarify the physics of this behavior.
• NEGATIVE-TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT AND DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH CURED FILM, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20190258164A1

  公开（公告）日：2019-08-22

  The present invention provides a negative-type photosensitive resin composition capable of obtaining a cured film suppressing generation of development residues caused by a pigment and having high sensitivity and excellent heat resistance and light blocking capability. A negative-type photosensitive resin composition contains an alkali-soluble resin (A), a radical-polymerizable compound (B), a photopolymerization initiator (C1), and a pigment (D1). In this resin composition, the radical-polymerizable compound (B) contains a flexible chain-containing radical-polymerizable compound (B1), the flexible chain-containing radical-polymerizable compound (B1) contains a compound having (I) a structure derived from a compound having at least three hydroxyl groups in the molecule, (II) at least three ethylenically unsaturated double bond groups, and (III) at least one aliphatic chain, the aliphatic chain has an average molecular weight of 40 to 500, and the content of the pigment (D1) is 5 to 70 mass % of the total solid content.
• NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, ELEMENT PROVIDED WITH CURED FILM, ORGANIC EL DISPLAY PROVIDED WITH CURED FILM, AND METHOD FOR PRODUCING SAME
  申请人：TORAY INDUSTRIES, INC.

  公开号：US20200110337A1

  公开（公告）日：2020-04-09

  The invention aims to provide a cured film that is high in sensitivity, able to form a pattern having a small-tapered shape after a development step and after a heat curing step, helpful to depress the difference in the width of patterned openings between before and after the heat curing step, and high in light-shielding capability and also aims to provide a negative type photosensitive resin composition that serves for the production thereof. The negative type photosensitive resin composition includes an alkali-soluble resin (A), a radical polymerizable compound (B), a photo initiator (C1), and a black colorant (Da); the alkali-soluble resin (A) including a first resin (A1) containing one or more selected from the group consisting of polyimide (A1-1), polyimide precursor (A1-2), polybenzoxazole (A1-3), polybenzoxazole precursor (A1-4), and polysiloxane (A1-5); and the radical polymerizable compound (B) including one or more selected from the group consisting of a fluorene backbone-containing radical polymerizable compound (B1) and an indane backbone-containing radical polymerizable compound (B2).