perfluoroethylbenzene | 651-82-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: perfluoroethylbenzene
• 英文别名: Decafluoroethylbenzene；1,2,3,4,5-pentafluoro-6-(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)benzene
• CAS: 651-82-1
• 化学式: C₈F₁₀
• 分子量: 286.072
• InChiKey: BMFPHHLKGOOCHE-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  114-115 °C
• 密度：
  1.668±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4
• 重原子数：
  18
• 可旋转键数：
  1
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.25
• 拓扑面积：
  0
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  10

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  perfluoroethylbenzene 在 一水合肼 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 生成 perfluoro-(4-ethylphenyl)-hydrazine
  参考文献：
  名称：

  346.芳族多氟化合物。第十六部分。全氟（乙苯）中的亲核取代

  摘要：

  DOI：

  10.1039/jr9640001776
• 作为产物：
  描述：

  2-(Chloro-difluoro-methyl)-3,3-difluoro-2-pentafluorophenyl-oxirane 在 五氟化锑 作用下， 生成 perfluoroethylbenzene
  参考文献：
  名称：

  Bekker,R.A. et al., Journal of Organic Chemistry USSR (English Translation), 1973, vol. 9, p. 1658 - 1662

  摘要：

  DOI：

文献信息

• 一种阳离子聚合单体及合成和应用
  申请人：湖北固润科技股份有限公司

  公开号：CN106187953B

  公开（公告）日：2018-06-29

  本发明涉及下式(I)或(II)的阳离子聚合单体化合物，其中各变量如说明书中所定义。该化合物中的可开环聚合的氧杂环烷基通过作为连接基团的苯基连接上基本上全氟化的烷基，该化合物的热稳定性高，当用于光固化体系时能有效降低体系粘度，并且光固化得到的薄膜表面能低，疏水疏油性能优良，抗沾污、抗指纹、抗化学品腐蚀、耐候性和抗老化能力强。本发明还涉及前述阳离子聚合单体化合物的制备和由该单体开环聚合得到的聚合物。此外，本发明还涉及包含本发明阳离子聚合单体的可光固化组合物和通过将该可光固化组合物光固化得到的光固化材料。
• Formation of polyfluorofluorenes in the reactions of perfluoro-1,1-diphenylalkanes with antimony pentafluoride
  作者：Tatyana V. Mezhenkova、Victor M. Karpov、Yaroslav V. Zonov

  DOI：10.1016/j.jfluchem.2017.12.018

  日期：2018.3

  Perfluoro-1,1-diphenylethane heated with SbF5 at 130 °C with further treatment of the reaction mixture with HF-pyridine and then with water, gave perfluorinated 9‐methylfluorene and 9-methyl-1,2,3,4-tetrahydrofluorene. Perfluoro-1,1-diphenylpropane under similar conditions formed perfluoro-9-ethylfluorene and perfluoro-9,9-dimethyl-1,2,3,4-tetrahydrofluorene. When perfluoroisobutylbenzene was heated

  全氟-1,1-二苯乙烷与SbF 5在130°C加热，并将反应混合物先后用HF-吡啶和水处理，得到全氟9-甲基芴和9-甲基-1,2,3,4-四氢芴。全氟-1，1-二苯基丙烷在相似条件下形成全氟-9-乙基芴和全氟-9，9-二甲基-1，2，3，4-四氢芴。当将全氟异丁苯与五氟苯在SbF 5介质中于130°C加热时，先用HF-吡啶，然后用水进一步处理反应混合物，得到全氟-9-异丙基芴。用SbF 5加热的全氟二苯甲烷用水处理反应混合物后，得到全氟二苯甲酮。在混合物中未发现全氟芴或其衍生物。
• Synthesis of 1-(tetrafluorophenyl)perfluoro-1-phenylethanes and their cyclization into polyfluoro-9-methylfluorenes under the action of antimony pentafluoride
  作者：Tatyana V. Mezhenkova、Vladislav V. Komarov、Victor M. Karpov、Irina V. Beregovaya、Yaroslav V. Zonov

  DOI：10.1016/j.jfluchem.2020.109615

  日期：2020.9

  The interaction of perfluoroethylbenzene with isomeric tetrafluorobenzenes in the presence of SbF5 at 25 °C, with further treatment of the reaction mixture with HF–pyridine and then with water, gives the corresponding 1-(tetrafluorophenyl)perfluoro-1-phenylethanes. 1-(2,3,4,5-Tetrafluorophenyl)perfluoro-1-phenylethane heated with SbF5 at 50–55 °C gives perfluoro-9-methylfluorene. 1-(2,3,5,6-Tetraf

  在SbF 5存在下，在25°C下，全氟乙苯与异构四氟苯的相互作用，再用HF-吡啶然后用水对反应混合物进行进一步处理，得到相应的1-（四氟苯基）全氟-1-苯基乙烷。用SbF 5在50–55°C下加热的1-（2,3,4,5-四氟苯基）全氟-1-苯基乙烷得到全氟-9-甲基芴。1-（2,3,5,6-四氟苯基）全氟-1-苯基乙烷在相似条件下形成1,2,3,4,5,7,8,9-八氟-9-（三氟甲基）芴和相应的2 ，3,4,9-四氢-1 H-芴。在1-（2,3,4,6-四氟苯基）全氟-1-苯基乙烷的情况下，在SbF 5的作用下未得到芴衍生物。在50–130°C下。实验数据与多氟1,1-二苯基-1-乙基阳离子旋转电环化的能垒的DFT计算（B3LYP / 6-31G *）一致。
• Chemical amplification type negative-working resist composition for electron beams or X-rays
  申请人：——

  公开号：US20010036590A1

  公开（公告）日：2001-11-01

  A negative-working chemical amplification-type resist composition for electron beams or X-rays satisfying the characteristics of the sensitivity and resolution•resist pattern for the use of electron beams or X-rays is provided. The chemical amplification-type negative-working resist composition contains (1) an alkali-soluble resin having a weight-average molecular weight of exceeding 3,000 and not larger than 1,000,000, (2) a crosslinking agent causing crosslinkage by an acid, and (3) a compound generating an acid by the irradiation of electron beams or X-rays, wherein the alkali-soluble resin has a specific structure.

  提供一种适用于电子束或X射线的负性化学增强型光阻组合物，满足灵敏度和分辨率的特性，用于电子束或X射线的光阻图案。该化学增强型负性光阻组合物包含（1）一种重量平均分子量超过3,000但不大于1,000,000的碱溶性树脂，（2）一种通过酸引起交联的交联剂，以及（3）一种通过电子束或X射线辐射产生酸的化合物，其中碱溶性树脂具有特定结构。
• Negative resist composition
  申请人：FUJI PHOTO FILM CO., LTD.

  公开号：US20020061462A1

  公开（公告）日：2002-05-23

  A negative resist composition comprises: (A) an alkali-soluble resin; (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with a radiation; (C) a crosslinking agent capable of crosslinking by the action of an acid; and (D) a solvent mixture containing: at least one solvent selected from the group A below; and at least one selected from the group consisting of the group B below and the group C below: group A: a propylene glycol monoalkyl ether carboxylate; group B: a propylene glycol monoalkyl ether, an alkyl lactate, an acetic ester, a chain ketone and an alkyl alkoxypropionate; group C: a &ggr;-butyrolactone, an ethylene carbonate and a propylene carbonate.

  一种负性光阻组合物包括：（A）一种可溶于碱的树脂；（B）一种在辐射下能够产生酸的化合物；（C）一种能够通过酸的作用进行交联的交联剂；和（D）含有溶剂混合物：至少包括下列A组中的一种溶剂；以及至少包括下列B组和下列C组中的一种的混合物：A组：丙二醇单烷基醚羧酸盐；B组：丙二醇单烷基醚、烷基乳酸酯、醋酸酯、链状酮和烷基烷氧基丙酸酯；C组：γ-丁内酯、乙烯碳酸酯和丙烯酸酯。