N-propyl-perfluorobutanesulfonylamide | 136215-16-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 有机酸及其衍生物 - 有机磺酸及其衍生物
• 英文名称: N-propyl-perfluorobutanesulfonylamide
• 英文别名: N-Propyl-perfluorbutansulfonamid；N-propylperfluorobutanesulfonamide；1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluoro-N-propylbutane-1-sulfonamide
• CAS: 136215-16-2
• 化学式: C₇H₈F₉NO₂S
• 分子量: 341.198
• InChiKey: CCCYGFBNAZKKTO-UHFFFAOYSA-N

物化性质

• 沸点：
  203.5±50.0 °C(Predicted)
• 密度：
  1.528±0.06 g/cm3(Predicted)

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  3.4
• 重原子数：
  20
• 可旋转键数：
  6
• 环数：
  0.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  1.0
• 拓扑面积：
  54.6
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  12

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  N-propyl-perfluorobutanesulfonylamide 、 2-氯乙氧基乙醇 在 potassium carbonate 作用下， 反应 17.25h， 生成 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluoro-N-[2-(2-hydroxyethoxy)ethyl]-N-propylbutane-1-sulfonamide
  参考文献：
  名称：

  Surfactants and methods of making and using same

  摘要：

  阴离子表面活性剂的化学式为：RfSO2N(H)—CH2CH(CH3)OH；或RfSO2N(H)—CH2CH2O)xH，其中x为2-6之间的整数。Rf是含有3至8个碳原子的氟烷基团。具有以下化学式的中性表面活性剂：(a) Rf—SO2N[CH2CH(CH3)OH]2；(b) RfSO2N[CH2CH(CH3)OH][(CH2CH2O)nH]，其中n为1-6之间的整数；(c) RfSO2N(R)[(CH2CH2O)pH]，其中p为2-6之间的整数，R是含有1至4个碳原子的烷基团；或(d) RfSO2N[(CH2CH2O)qH][(CH2CH2O)mH]，其中q为1-6之间的整数，m为3-6之间的整数。Rf是含有3至8个碳原子的氟烷基团。

  公开号：

  US09454082B2
• 作为产物：
  描述：

  正丙胺 、 全氟丁基磺酰氟 在 盐酸 、 乙酸乙酯 、 magnesium sulfate 作用下， 以 乙酸乙酯 为溶剂， 反应 6.0h， 以to obtain N-propylperfluorobutanesulfonamide (46.8 g)的产率得到N-propyl-perfluorobutanesulfonylamide
  参考文献：
  名称：

  Presensitized plate for preparing lithographic printing plate

  摘要：

  本发明提供了一种预感光板，用于制备平版印刷版，该预感光板包括基板，基板上提供有一层光敏层，该光敏层含有通过共聚至少（A）一种由通式（I）表示的氟烷基（甲基）丙烯酸酯和（B）一种聚氧烷基含有的乙烯基不饱和单体制备的含氟脂肪族基共聚物。通过这种预感光板，提供了一种具有光敏层的平版印刷版，其均匀性和在显影剂中的溶解性或分散性得到了改善，并且具有形成高对比度图像的能力，而不会降低其敏感性。

  公开号：

  US07037636B2

文献信息

• Fluorinated surfactants for aqueous acid etch solutions
  申请人：3M Innovative Properties Company

  公开号：US20040094510A1

  公开（公告）日：2004-05-20

  Novel aqueous, acid etch solutions comprising a fluorinated surfactant are provided. The etch solutions are used with a wide variety of substrates, for example, in the etching of silicon oxide-containing substrates.

  提供了一种包含氟表面活性剂的新型水性酸蚀溶液。这种酸蚀溶液可用于各种基板，例如，在蚀刻含有硅氧化物的基板时使用。
• Niederpruem,H. et al., Justus Liebigs Annalen der Chemie, 1973, p. 11 - 19
  作者：Niederpruem,H. et al.

  DOI：——

  日期：——
• JP2005/170936
  申请人：——

  公开号：——

  公开（公告）日：——
• US5426205A
  申请人：——

  公开号：US5426205A

  公开（公告）日：1995-06-20
• US5539024A
  申请人：——

  公开号：US5539024A

  公开（公告）日：1996-07-23