N,N,N-三甲基甲铵苯甲酸酯 | 25255-90-7

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 中文名称: N,N,N-三甲基甲铵苯甲酸酯
• 英文名称: tetramethylammonium benzoate
• 英文别名: tetramethyl-ammonium; benzoate；Tetramethyl-ammonium; Benzoat；tetramethylazanium;benzoate
• CAS: 25255-90-7
• 化学式: C₄H₁₂N*C₇H₅O₂
• 分子量: 195.261
• InChiKey: IEVVGBFMAHJELO-UHFFFAOYSA-M

物化性质

• 熔点：
  188-192 °C (dec.)
• 溶解度：
  H2O：可溶0.1g/mL，透明，无色

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.37
• 重原子数：
  14
• 可旋转键数：
  0
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.36
• 拓扑面积：
  40.1
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  2

安全信息

• 危险品标志：
  Xi
• 海关编码：
  2923900090

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  1-(二氯甲基)-4-甲氧基苯 、 N,N,N-三甲基甲铵苯甲酸酯 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 生成 bis-benzoyloxy-(4-methoxy-phenyl)-methane
  参考文献：
  名称：

  通过使用宝石二卤化物进行酰基（磷酰基）转移

  摘要：

  宝石-二卤化物能够促进酰基转移；例如，当将4-甲氧基亚苄基二氯化物与正磷酸的单酯加热时，形成焦磷酸的对称二酯。在醇的存在下，会形成酯。可以观察到通过使用羧酸的类似的酰化作用。

  DOI：

  10.1039/j39680003062
• 作为产物：
  描述：

  四甲基氢氧化铵 、 苯甲酸 在 水 作用下， 以 乙醇 为溶剂， 反应 0.08h， 以100%的产率得到N,N,N-三甲基甲铵苯甲酸酯
  参考文献：
  名称：

  苯甲酸酯环金属化能够在 Ru(II) 中心氧化加成卤代芳烃

  摘要：

  最近开发了第一个 Ru(II) 催化的没有导向基团的底物芳基化。值得注意的是，该过程仅在存在苯甲酸盐添加剂的情况下才起作用，苯甲酸盐添加剂对 Ru(II) 的氧化加成步骤至关重要。然而，苯甲酸盐的确切作用方式尚不清楚。在此，我们公开了一项机理研究，阐明了苯甲酸盐在氟芳烃与芳基卤化物的 C-H 芳基化中的关键作用。通过合理设计的化学计量实验和 DFT 研究的结合，我们证明了由氟芳烃的初始 C-H 活化产生的芳基-Ru(II) 物种与苯甲酸盐发生环金属化以生成阴离子 Ru(II) 中间体。这种中间体的增强的不稳定性，再加上富含电子的阴离子 Ru(II) 金属中心，使得芳基卤化物的氧化加成变得容易。额外的 (NMe4)OC(CF3)3 添加剂在促进整个芳基化过程中的作用也被证明与与苯甲酸环金属化相关的 C-H 预平衡的转变有关。

  DOI：

  10.1021/jacs.8b08150
• 作为试剂：
  描述：

  五氟苯 在 氟硼酸钠 、 sodium carbonate 、 N,N,N-三甲基甲铵苯甲酸酯 作用下， 以 1,4-二氧六环 为溶剂， 反应 17.25h， 生成 2,3,4,5,6-pentafluoro-3',5'-dimethyl-1,1'-biphenyl
  参考文献：
  名称：

  苯甲酸酯环金属化能够在 Ru(II) 中心氧化加成卤代芳烃

  摘要：

  最近开发了第一个 Ru(II) 催化的没有导向基团的底物芳基化。值得注意的是，该过程仅在存在苯甲酸盐添加剂的情况下才起作用，苯甲酸盐添加剂对 Ru(II) 的氧化加成步骤至关重要。然而，苯甲酸盐的确切作用方式尚不清楚。在此，我们公开了一项机理研究，阐明了苯甲酸盐在氟芳烃与芳基卤化物的 C-H 芳基化中的关键作用。通过合理设计的化学计量实验和 DFT 研究的结合，我们证明了由氟芳烃的初始 C-H 活化产生的芳基-Ru(II) 物种与苯甲酸盐发生环金属化以生成阴离子 Ru(II) 中间体。这种中间体的增强的不稳定性，再加上富含电子的阴离子 Ru(II) 金属中心，使得芳基卤化物的氧化加成变得容易。额外的 (NMe4)OC(CF3)3 添加剂在促进整个芳基化过程中的作用也被证明与与苯甲酸环金属化相关的 C-H 预平衡的转变有关。

  DOI：

  10.1021/jacs.8b08150

文献信息

• Carboxylate-Bridged Diiron(II) Complexes:  Synthesis, Characterization, and O₂-Reactivity of Models for the Reduced Diiron Centers in Methane Monooxygenase and Ribonucleotide Reductase
  作者：Susanna Herold、Stephen J. Lippard

  DOI：10.1021/ja9628563

  日期：1997.1.1

  Diiron(II) complexes with an oxygen-rich coordination environment were assembled with the dinucleating dicarboxylate ligands m-xylylenediamine bis(Kemp's triacid)imide (H2XDK) and the more soluble analogue m-xylylenediamine bis(propyl Kemp's triacid)imide (H2PXDK). X-ray crystallographic analysis revealed that, in most of the complexes, only one monodentate N-donor ligand is bound to each iron(II)

  具有富氧配位环境的二铁 (II) 配合物与双核二羧酸配体间苯二甲胺双（坎普三酸）亚胺（H2XDK）和更易溶解的类似物间苯二甲胺双（丙基坎普三酸）亚胺（H2PXDK）组装在一起。X 射线晶体学分析表明，在大多数配合物中，只有一个单齿 N 供体配体与每个铁 (II) 离子结合。除了 XDK 和 PXDK 之外，还有多种其他配体桥接双金属核，包括氯化物、氟化物、三氟甲磺酸盐或羧酸盐。三（羧酸盐桥接）配合物 [Fe2(μ-XDK)(μ-O2CPh)(ImH)2(O2CPh)(MeOH)] (3) 和 [Fe2(μ-O2CC(CH3)3)(μ-PXDK )(N-MeIm)2(O2CC(CH3)3)] (4) 与甲烷单加氧酶 (MMO) 的羟化酶成分和核糖核苷酸还原酶 (RNR) 的 R2 蛋白中的二铁 (II) 核心具有相同的配体组成）。3和4中两个铁中心的配位环境是不等价的，一个铁是6配位的，另一个是4配位的。桥
• POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERNING PROCESS
  申请人：NISHI Tsunehiro

  公开号：US20100062374A1

  公开（公告）日：2010-03-11

  A positive resist composition comprises (A) a resin component which becomes soluble in an alkaline developer under the action of an acid and (B) an acid generator. The resin (A) is a polymer comprising recurring units containing a non-leaving hydroxyl group represented by formula (1) wherein R 1 is H, methyl or trifluoromethyl, X is a single bond or methylene, m is 1 or 2, and the hydroxyl group attaches to a secondary carbon atom. The composition is improved in resolution when processed by lithography.

  一种正性光刻胶组合物包括（A）在酸的作用下在碱性显影剂中变得可溶的树脂组分和（B）酸发生剂。树脂（A）是一种聚合物，包含由式（1）表示的非离去羟基的重复单元，其中R1为H、甲基或三氟甲基，X为单键或亚甲基，m为1或2，并且羟基连接到次级碳原子。当通过光刻工艺处理时，该组合物在分辨率方面得到改善。
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohsawa Youichi

  公开号：US20090246694A1

  公开（公告）日：2009-10-01

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula ( 1 a) upon exposure to high-energy radiation. ROC(═O)R 1 —COOCH 2 CF 2 SO 3 − H + (1a) RO is OH or C 1 -C 20 organoxy, R 1 is a divalent C 1 -C 20 aliphatic group or forms a cyclic structure with RO. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）的磺酸。 ROC(═O)R1—COOCH2CF2SO3−H+(1a) RO为OH或C1-C20有机氧基，R1为二价的C1-C20脂肪族基团或与RO形成环状结构。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。
• POLYMERIZABLE ANION-CONTAINING SULFONIUM SALT AND POLYMER, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Ohashi Masaki

  公开号：US20100055608A1

  公开（公告）日：2010-03-04

  A polymerizable anion-containing sulfonium salt having formula (1) is provided wherein R 1 is H, F, methyl or trifluoromethyl, R 2 , R 3 and R 4 are C 1 -C 10 alkyl, alkenyl or oxoalkyl or C 6 -C 18 aryl, aralkyl or aryloxoalkyl, or two of R 2 , R 3 and R 4 may bond together to form a ring with S, A is a C 1 -C 10 organic group, and n is 0 or 1. The sulfonium salt generates a very strong sulfonic acid upon exposure to high-energy radiation. A resist composition comprising a polymer derived from the sulfonium salt is also provided.

  提供具有式（1）的可聚合含阴离子的亚砜盐，其中R1为H、F、甲基或三氟甲基，R2、R3和R4为C1-C10烷基、烯基或氧代烷基或C6-C18芳基、芳基烷基或芳氧代烷基，或R2、R3和R4中的两个可以结合在一起形成与S的环，A为C1-C10有机基团，n为0或1。该亚砜盐在暴露于高能辐射时生成非常强的磺酸。还提供了包含从该亚砜盐衍生的聚合物的抗蚀组合物。
• NOVEL PHOTOACID GENERATOR, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：OHASHI Masaki

  公开号：US20090061358A1

  公开（公告）日：2009-03-05

  Photoacid generators generate sulfonic acids of formula (1a) or (1c) upon exposure to high-energy radiation. R 1 —COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 + H + (1a) R 1 —O—COOCH(CF 3 )CF 2 SO 3 − H + (1c) R 1 is a C 20 -C 50 hydrocarbon group having a steroid structure. The photoacid generators are compatible with resins and can control acid diffusion and are thus suited for use in chemically amplified resist compositions.

  光酸发生剂在高能辐射作用下生成式（1a）或（1c）的磺酸。R1—COOCH(CF3)CF2SO3+H+(1a)R1—O—COOCH(CF3)CF2SO3−H+(1c)R1是具有类固醇结构的C20-C50烃基。这些光酸发生剂与树脂相容，可以控制酸的扩散，因此适用于化学增感抗蚀组合物的使用。