2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon-tetrakis(trifluormethansulfonat) | 17763-89-2

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: 2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon-tetrakis(trifluormethansulfonat)
• 英文别名: 2,2',4,4'-Tetra(trifluoromethanesulfonyloxy)benzophenone；[4-[2,4-bis(trifluoromethylsulfonyloxy)benzoyl]-3-(trifluoromethylsulfonyloxy)phenyl] trifluoromethanesulfonate
• CAS: 17763-89-2
• 化学式: C₁₇H₆F₁₂O₁₃S₄
• 分子量: 774.472
• InChiKey: CUUKBHFZHQSIAE-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  6.3
• 重原子数：
  46
• 可旋转键数：
  10
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.24
• 拓扑面积：
  224
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  25

反应信息

• 作为产物：
  描述：

  2,2',4,4'-四羟基二苯甲酮 、 三氟甲磺酸酐 在 resultant crude yellow oil 、 silica gel 、 dichloromethane hexane 作用下， 以to give 2.1 g of 2,2',4,4'-tetra(trifluoromethanesulfonyloxy)benzophenone as pale yellow crystals的产率得到2,2',4,4'-Tetrahydroxybenzophenon-tetrakis(trifluormethansulfonat)
  参考文献：
  名称：

  Pattern formation method

  摘要：

  一种抗性材料，包括(a)三元聚合物，(b)光酸发生剂和(c)溶剂，具有高光敏度、耐热性、粘附性、分辨率等特点，适用于形成矩形图案。

  公开号：

  US05558976A1

文献信息

• Resist material
  申请人：Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

  公开号：US05558971A1

  公开（公告）日：1996-09-24

  A resist material comprising (a) a terpolymer, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent has high light sensitivity, heat resistance, adhesiveness, resolution, etc., and is suitable for forming a pattern of rectangular shape.

  一种抗阻材料包括（a）三元聚合物，（b）光酸发生剂和（c）溶剂，具有高光敏度，耐热性，粘附性，分辨率等特点，适用于形成矩形形状的图案。
• Gmelin Handbuch der Anorganischen Chemie, Gmelin Handbook: F: PerFHalOrg.2, 1.3.4, page 137 - 166
  作者：

  DOI：——

  日期：——
• Perfluoroalkane sulfonate esters
  申请人：MINNESOTA MINING &

  公开号：US03346612A1

  公开（公告）日：1967-10-10
• Polymer and resist material
  申请人：WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES, LTD

  公开号：EP0789279B1

  公开（公告）日：2001-03-21
• US6033826A
  申请人：——

  公开号：US6033826A

  公开（公告）日：2000-03-07