tetraethylammonium phthalate

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯和取代衍生物
• 英文名称: tetraethylammonium phthalate
• 英文别名: phthalate;tetraethylazanium
• 化学式: C₈H₄O₄*2C₈H₂₀N
• 分子量: 424.624
• InChiKey: MSCFFVKVOXIVGT-UHFFFAOYSA-L

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  0.3
• 重原子数：
  21
• 可旋转键数：
  4
• 环数：
  1.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.5
• 拓扑面积：
  80.3
• 氢给体数：
  0
• 氢受体数：
  4

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  tetraethylammonium phthalate 、 Cu2(cyclo[bis(4,6-dimethyldibenzo[b,d]furaniminoethyleneiminoethylene])(ClO4)4 、 二甲基亚砜 以 甲醇 、 二甲基亚砜 为溶剂， 以45%的产率得到[Cu2(cyclo[bis(4,6-dimethyldibenzo[b,d]furaniminoethyleneiminoethylene])(phthalato)2]*2DMSO*H2O
  参考文献：
  名称：

  具有两个刚性二苯并呋喃单元作为受体的大环化合物的双金属配合物，用于检测阴离子底物†

  摘要：

  六氮杂大环[28]（DBF）2 N 6 {环[双（4,6-二甲基二苯并[b，d]呋喃氨基乙烯亚氨基乙烯]}}和[32]（DBF）2 N 6 {环[双（4,6-二甲基二苯并[b，d]呋喃氨基丙烯亚氨基丙烯]}} 形成稳定的双核 铜（II）适于充当多种阴离子底物受体的复合物。这两个受体用于研究与几种底物的结合相互作用，例如咪唑 （他）和一些羧酸盐[苯甲酸酯（bz −），草酸盐（ox 2−），丙二酸 （mal 2−），邻苯二甲酸酯（ph 2−），间苯二甲酸（iph 2−），和对苯二甲酸（tph 2-）]的分光光度滴定和EPR光谱甲醇（或H 2 O）：DMSO（1：1 v / v）溶液。对于ox 2-与Cu 2 [32]（DBF）2 N 6 4+具有最大的缔合常数，而对于芳族二羧酸根阴离子，结合常数遵循趋势ph 2- > iph 2- > tph 2-，即随底物两个结合位点距离的增加而降低。另一方面，通过向铜2

  DOI：

  10.1039/c0dt00340a
• 作为产物：
  描述：

  四乙基氢氧化铵 、 邻苯二甲酸 以 水 为溶剂， 以51%的产率得到tetraethylammonium phthalate
  参考文献：
  名称：

  邻苯二甲酸盐离子在非水溶剂中的二聚反应

  摘要：

  摘要 用电子吸收光谱法研究了邻苯二甲酸四乙基铵在非水溶剂（乙醇、二甲亚砜、二甲基甲酰胺和乙腈）中的溶液。结果表明，邻苯二甲酸根阴离子在乙腈和二甲基甲酰胺溶液中由于π-堆积而二聚化，实验平衡常数分别为550±50和900±50。在乙醇和二甲亚砜溶液中未观察到邻苯二甲酸阴离子的二聚化。

  DOI：

  10.1134/s1070363221050017

文献信息

• An ionic conductive polymer electrolyte
  申请人：MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.

  公开号：EP0579921A1

  公开（公告）日：1994-01-26

  An ionic conductive polymer electrolyte including a polymer having ether type oxygen in the structure and a plasticizer is provided. The plasticizer is at least one selected from the group consisting of compounds represented by the following general Formulas I, II, III, IV and V: Formula I:   HO - (C₂H₄O)n - H wherein n is 2, 3, 4 or 5; Formula II:   RO - (C₂H₄O)n - H wherein R is CH₃, C₂H₅, C₃H₇ or C₄H₉; and n is 3, 4 or 5;         Formula III:   R₁O - (C₂H₄O)n - R₂ wherein R₁=R₂=CH₃, and n is 4, 5 or 6; or R₁=R₂=C₂H₅, and n is 4, 5 or 6; or R₁=R₂=C₃H₇, and n is 3, 4, 5 or 6; or R₁=R₂=C₄H₉, and n is 2, 3, 4 or 5; or R₁= CH₃, R₂=C₄H₉, and n is 4, 5 or 6;         Formula IV:   R₁O - (C₂H₄O)n - (C₃H₆O)m - H wherein n+m is 2, 3, 4 or 5, and R₁ = CH₃, C₂H₅, C₃H₇ or C₄H₉; and         Formula V:   R₁O - (C₂H₄O)n - (C₃H₆O)m - R₂ wherein n+m is 2, 3, 4, or 5 and R₁=R₂=CH₃.

  本发明提供了一种离子导电聚合物电解质，包括一种结构中含有醚型氧的聚合物和一种增塑剂。增塑剂至少选自由以下通式 I、II、III、IV 和 V 所代表的化合物组成的组： 式 I：HO - (C₂H₄O)n - H 其中 n 为 2、3、4 或 5； 式 II：RO - (C₂H₄O)n - H 其中 R 是 CH₃、C₂H₅、C₃H₇ 或 C₄H₉；n 是 3、4 或 5； 式 III: R₁O - (C₂H₄O)n - R₂ 其中 R₁=R₂=CH₃, n 为 4、5 或 6；或 R₁=R₂=C₂H₅, n 为 4、5 或 6；或 R₁=R₂=C₃H₇, n 为 3、4、5 或 6；或 R₁=R₂=C₄H₉, n 为 2、3、4 或 5；或 R₁= CH₃, R₂=C₄H₉, n 为 4、5 或 6； 式 IV：R₁O - (C₂H₄O)n - (C₃H₆O)m - H 其中 n+m 为 2、3、4 或 5，且 R₁ = CH₃、C₂H₅、C₃H₇ 或 C₄H₉；以及 式 V： R₁O - (C₂H₄O)n - (C₃H₆O)m - R₂ 其中 n+m 为 2、3、4 或 5，R₁=R₂=CH₃。
• Electrolyte and electrolytic cell
  申请人：ROHM AND HAAS COMPANY

  公开号：EP0821368A2

  公开（公告）日：1998-01-28

  An oligomeric composition with units capable of complexation with conductive metal salts, preferably lithium salts, and with terminal units which do not complex with conductive metal salts or with electrode components, the oligomer preferably combined with a soluble conductive metal salt, preferably a lithium salt, yields a conducting polymer system useful in electrolytic cells, such as rechargeable lithium batteries, without the need for volatile polar solvents. Combination of the oligomer with an acrylic polymer blend provides a supported electrolyte. The conductive metal salt, such as LiN(CF3SO2)2), may be incorporated during the oligomerization reaction.

  低聚物组合物具有能与导电金属盐（最好是锂盐）络合的单元，以及不与导电金属盐或电极成分络合的末端单元，低聚物最好与可溶性导电金属盐（最好是锂盐）结合，产生一种可用于电解电池（如可充电锂电池）的导电聚合物体系，而无需使用挥发性极性溶剂。将低聚物与丙烯酸聚合物混合物结合，可获得支撑电解质。导电金属盐（如 LiN(CF3SO2)2）可在低聚反应过程中加入。
• IONIC COMPOUND
  申请人：Nichicon Corporation

  公开号：EP2048131A1

  公开（公告）日：2009-04-15

  The present invention provides an ionic compound which: can exert excellent basic performance such as excellent electrochemical stability including an excellent ionic conductivity; is excellent in pH stability; and can suitably find use in a variety of applications, and an electrolyte material, an electrolytic solution, and an electrolytic capacitor each containing the ionic compound. An ionic compound of the present invention has an anion represented by a general formula (1) and a cation represented by a general formula (2): where X represents an element selected from B, C, N, O, Al, Si, P, S, As, and Se, M1 and M2 represent linking groups, Q represents a monovalent element or organic group, a represents an integer of 1 or more, and b, c, d, and e each represent an integer of 0 or more;         [Chem.2] R2-LH⊕     (2) where L represents an element selected from C, Si, N, P, S, and O, R represents a monovalent element, functional group, or organic group, and s represents an integer of 2, 3, or 4.

  本发明提供了一种离子化合物，它能够发挥优异的基本性能，例如优异的电化学稳定性，包括优异的离子电导率；具有优异的pH稳定性；并可在各种应用中适当使用；还提供了一种电解质材料、一种电解溶液和一种电解电容器，它们都含有该离子化合物。 本发明的离子化合物具有通式（1）表示的阴离子和通式（2）表示的阳离子： 其中 X 代表选自 B、C、N、O、Al、Si、P、S、As 和 Se 的元素，M1 和 M2 代表连接基团，Q 代表一价元素或有机基团，a 代表 1 或以上的整数，b、c、d 和 e 各代表 0 或以上的整数； [Chem.2] R2-LH⊕ (2) 其中 L 代表选自 C、Si、N、P、S 和 O 的元素，R 代表一价元素、官能团或有机基团，s 代表 2、3 或 4 的整数。
• THERMOSETTING IODINE- AND SILICON-CONTAINING MATERIAL, COMPOSITION CONTAINING THE MATERIAL FOR FORMING RESIST UNDERLAYER FILM FOR EUV LITHOGRAPHY, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3657254A1

  公开（公告）日：2020-05-27

  The present invention is a thermosetting silicon-containing material containing one or more of a repeating unit shown by the following general formula (Sx-1), a repeating unit shown by the following general formula (Sx-2), and a partial structure shown by the following general formula (Sx-3): where R1 represents an iodine-containing organic group; and R2 and R3 are each independently identical to R1, a hydrogen atom, or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms. This provides: a thermosetting silicon-containing material used for forming a resist underlayer film which is capable of contributing to sensitivity enhancement of an upper layer resist while keeping LWR thereof from degrading; a composition for forming a silicon-containing resist underlayer film, the composition containing the thermosetting silicon-containing material; and a patterning process using the composition.

  本发明是一种热固性含硅材料，它含有一个或多个如下通式（Sx-1）所示的重复单元、如下通式（Sx-2）所示的重复单元和如下通式（Sx-3）所示的部分结构： 其中 R1 代表含碘有机基团；R2 和 R3 各自独立地与 R1、氢原子或具有 1 至 30 个碳原子的一价有机基团相同。本发明提供了：一种用于形成抗蚀剂底层薄膜的含硅热固性材料，该材料能够有助于提高上层抗蚀剂的灵敏度，同时使其低功耗不降低；一种用于形成含硅抗蚀剂底层薄膜的组合物，该组合物含有该含硅热固性材料；以及一种使用该组合物的图案化工艺。
• THERMOSETTING SILICON-CONTAINING COMPOUND, COMPOSITION FOR FORMING A SILICON-CONTAINING FILM, AND PATTERNING PROCESS
  申请人：Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.

  公开号：EP3680275A1

  公开（公告）日：2020-07-15

  A thermosetting silicon-containing compound contains one or more of structural units shown by the following general formulae (Sx-1), (Sx-2), and (Sx-3): where R1 represents a monovalent organic group containing both a phenyl group optionally having a substituent and a non-aromatic ring having 3 to 10 carbon atoms; and R2, R3 each represent the R1 or a monovalent organic group having 1 to 30 carbon atoms. Thus, the present invention provides a thermosetting silicon-containing compound usable in a silicon-containing resist underlayer film material capable of achieving contradictory properties of having both alkaline developer resistance and improved solubility in an alkaline stripping liquid containing no hydrogen peroxide.

  热固性含硅化合物包含一个或多个结构单元，结构单元的通式如下（Sx-1）、（Sx-2）和（Sx-3）： 其中，R1 代表一个一价有机基团，该基团包含一个可选具有取代基的苯基和一个具有 3 至 10 个碳原子的非芳香环；R2、R3 分别代表 R1 或一个具有 1 至 30 个碳原子的一价有机基团。因此，本发明提供了一种可用于含硅抗蚀剂底层薄膜材料的热固性含硅化合物，该化合物能够实现既具有抗碱性显影剂性能又能在不含过氧化氢的碱性剥离液中提高溶解性的矛盾特性。