MeSiH的形成是1,2-二甲基乙
硅烷在193 nm处的光解的主要过程,这是卡宾的类似物。气相色谱技术与火焰电离检测器一起用作分析工具,以鉴定产物混合物。牛津KX2脉冲激光器以稀有气体卤化物(称为受激准分子激光器)作为增益介质,提供193 nm的光解光,以提供紫外线(UV)辐射。这项工作已经证实自由基过程在1,2-二甲基乙
硅烷的光解中并不重要。制定了一种确定MeSiH反应速率常数相对于1,2-二甲基乙
硅烷速率常数的方法。这已用于确定MeSiH插入与甲基
硅烷的一些相对速率常数。MeSiH与SiH的插入反应4和甲基
硅烷已显示出与SiH 2的反应性比与SiMe 2的反应性更快且更接近,而PhSiH的反应性似乎比MeSiH略高。