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三甲基硅烷基对甲苯磺酸酯 | 17872-98-9

中文名称
三甲基硅烷基对甲苯磺酸酯
中文别名
——
英文名称
4-Methyl-1-benzolsulfonsaeure-trimethylsilylester
英文别名
trimethylsilyl 4-methylbenzenesulfonate;p-toluenesulfonate de trimethylsilyle;trimethylsilyl p-toluenesulfonate;Toluol-sulfonsaeure-(4)-trimethylsilylester;Trimethyl-tosyloxysilan;Trimethylsilyl p-toluenesulphonate
三甲基硅烷基对甲苯磺酸酯化学式
CAS
17872-98-9
化学式
C10H16O3SSi
mdl
——
分子量
244.387
InChiKey
GDEWVMDXPUXBKU-UHFFFAOYSA-N
BEILSTEIN
——
EINECS
——
  • 物化性质
  • 计算性质
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  • 反应信息
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计算性质

  • 辛醇/水分配系数(LogP):
    2.54
  • 重原子数:
    15
  • 可旋转键数:
    3
  • 环数:
    1.0
  • sp3杂化的碳原子比例:
    0.4
  • 拓扑面积:
    51.8
  • 氢给体数:
    0
  • 氢受体数:
    3

安全信息

  • 海关编码:
    2931900090

SDS

SDS:a0b0f6e6d7389b783c513d83c2a8d81c
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上下游信息

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文献信息

  • The efficient method for the preparation of alkenylsilanes from organoaluminums
    作者:Rita N. Kadikova、Tat'yana P. Zosim、Usein M. Dzhemilev、Ilfir R. Ramazanov
    DOI:10.1016/j.jorganchem.2014.04.004
    日期:2014.8
    aluminacyclopentanes takes place on the less sterically hindered reaction center. Using electron-donating solvents (diethyl ether, THF) inhibits the reaction. A new convenient procedure of silylation was developed, which consists in obtaining the silyl tosylate by the reaction of chlorosilanes with anhydrous sodium tosylate in toluene solution. The resulting reaction mixture was reacted with organoaluminum compounds
    磺酸的甲硅烷基酯是用于β,β-和β-取代的1-烯基铝的便捷有效的甲硅烷基化剂。反应在室温下在CH 2 Cl 2中进行用己烷或己烷洗涤18小时,以高收率得到相应的烯基硅烷。同时,在所研究的反应中,α,β-二取代和α,β,β-三取代的1-烯基铝是惰性的。与氧化铝环戊-2-烯和氧化铝环戊烷的反应发生在空间位阻较小的反应中心上。使用供电子溶剂(乙醚,THF)会抑制反应。开发了一种新的便捷的甲硅烷基化方法,该方法包括通过硅烷与无苯磺酸钠甲苯溶液中的反应获得甲苯磺酸硅烷基酯。使所得反应混合物与有机铝化合物反应,而无需分离甲苯磺酸硅烷基酯。
  • Sulfonium salts and chemically amplified positive resist compositions
    申请人:Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
    公开号:US05847218A1
    公开(公告)日:1998-12-08
    The invention provides a novel sulfonium salt having a substituted or unsubstituted arylsulfonate anion. The novel sulfonium salt minimizes the influence of deactivation by basic compounds not only at a resist surface, but also at a resist-substrate interface, assists a resist to be configured to a definite pattern profile. When the sulfonium salt has an acid labile group, it is effective for increasing the dissolution contrast between exposed and unexposed areas. The sulfonium salt is useful in a chemically amplified positive resist composition which lends itself to fine patterning and features high resolution.
    本发明提供了一种具有取代或未取代芳基磺酸盐阴离子的新型磺胺盐。该新型磺胺盐不仅可以最小化碱性化合物在抗蚀表面的影响,还可以在抗蚀-基底界面上发挥作用,帮助抗蚀材料形成明确的图案轮廓。当该磺胺盐具有酸敏基团时,它可以有效地增加曝光区域和未曝光区域之间的溶解对比度。该磺胺盐在化学增强正型抗蚀组合物中非常有用,可用于细微图案化和高分辨率特征。
  • Dabkowski, Wojciech; Michalski, Jan; Skrzypczynski, Zbigniew, Chemische Berichte, 1985, vol. 118, # 5, p. 1809 - 1824
    作者:Dabkowski, Wojciech、Michalski, Jan、Skrzypczynski, Zbigniew
    DOI:——
    日期:——
  • Hofmann, Karin; Simchen, Gerhard, Liebigs Annalen der Chemie, 1982, # 2, p. 282 - 297
    作者:Hofmann, Karin、Simchen, Gerhard
    DOI:——
    日期:——
  • Thiem, Joachim; Meyer, Bernd, Chemische Berichte, 1980, vol. 113, # 9, p. 3075 - 3085
    作者:Thiem, Joachim、Meyer, Bernd
    DOI:——
    日期:——
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