3-(4-ethylcyclohexyloxy)phenol | 1209262-02-1

• 分子结构分类: 有机化合物 - 苯类化合物 - 苯酚醚
• 英文名称: 3-(4-ethylcyclohexyloxy)phenol
• 英文别名: 3-(4-ethylcyclohexyl)oxyphenol
• CAS: 1209262-02-1
• 化学式: C₁₄H₂₀O₂
• 分子量: 220.312
• InChiKey: FCGIHVLBVLMUQD-UHFFFAOYSA-N

计算性质

• 辛醇/水分配系数(LogP)：
  4.1
• 重原子数：
  16
• 可旋转键数：
  3
• 环数：
  2.0
• sp3杂化的碳原子比例：
  0.57
• 拓扑面积：
  29.5
• 氢给体数：
  1
• 氢受体数：
  2

反应信息

• 作为反应物：
  描述：

  3-(4-ethylcyclohexyloxy)phenol 、 3,4-二羟基苯甲醛 在 盐酸 作用下， 以 乙醇 、 水 为溶剂， 反应 5.0h， 生成 2,8,14,20-Tetrakis(3,4-dihydroxyphenyl)-6,12,18,24-tetrakis[(4-ethylcyclohexyl)oxy]pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(24),3(28),4,6,9(27),10,12,15(26),16,18,21(25),22-dodecaene-4,10,16,22-tetrol 、 2,8,14,20-Tetrakis(3,4-dihydroxyphenyl)-6,10,18,22-tetrakis[(4-ethylcyclohexyl)oxy]pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9,11,13(27),15(26),16,18,21,23-dodecaene-4,12,16,24-tetrol 、 2,8,14,20-Tetrakis(3,4-dihydroxyphenyl)-6,12,18,22-tetrakis[(4-ethylcyclohexyl)oxy]pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15(26),16,18,21,23-dodecaene-4,10,16,24-tetrol 、 2,8,14,20-Tetrakis(3,4-dihydroxyphenyl)-6,12,16,22-tetrakis[(4-ethylcyclohexyl)oxy]pentacyclo[19.3.1.13,7.19,13.115,19]octacosa-1(25),3(28),4,6,9(27),10,12,15,17,19(26),21,23-dodecaene-4,10,18,24-tetrol
  参考文献：
  名称：

  CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

  摘要：

  公开号：

  EP2505576B1
• 作为产物：
  描述：

  4-乙基环己醇 、 间苯二酚 在 偶氮二甲酸二异丙酯 、 三苯基膦 双氧水 作用下， 以 四氢呋喃 为溶剂， 反应 13.17h， 以27%的产率得到3-(4-ethylcyclohexyloxy)phenol
  参考文献：
  名称：

  CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

  摘要：

  公开号：

  EP2505576B1

文献信息

• CYCLIC COMPOUND, PRODUCTION PROCESS THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Takasuka Masaaki

  公开号：US20120282546A1

  公开（公告）日：2012-11-08

  Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition. Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明涉及一种具有高溶解度、高灵敏度、能够形成良好形状的抗蚀图案，且很少引起抗蚀图案崩塌的环状化合物；一种制备该环状化合物的方法；一种含有该环状化合物的辐射敏感组合物；以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。具体揭示了一种具有特定结构的环状化合物，制备该环状化合物的方法，含有该化合物的辐射敏感组合物以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• Cyclic compound, production process thereof, radiation-sensitive composition and resist pattern formation method
  申请人：Takasuka Masaaki

  公开号：US08969629B2

  公开（公告）日：2015-03-03

  Disclosed are: a cyclic compound which has high solubility in a safe solvent, is highly sensitive, enables the formation of a resist pattern having a good shape, and rarely causes resist pattern collapse; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the cyclic compound; and a resist pattern formation method using the composition. Specifically disclosed are: a cyclic compound having a specific structure; a process for producing the cyclic compound; a radiation-sensitive composition containing the compound; and a resist pattern formation method using the composition.

  本发明公开了一种具有高溶解度的环状化合物，该化合物在安全溶剂中高度敏感，能够形成具有良好形状的抗蚀图案，并且很少引起抗蚀图案崩溃的过程；一种制备环状化合物的方法；一种含有该环状化合物的辐射敏感组合物；以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。具体公开的是：一种具有特定结构的环状化合物；制备该环状化合物的方法；含有该化合物的辐射敏感组合物；以及使用该组合物的抗蚀图案形成方法。
• US8969629B2
  申请人：——

  公开号：US8969629B2

  公开（公告）日：2015-03-03
• CYCLIC COMPOUND, PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF, RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD
  申请人：Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.

  公开号：EP2505576B1

  公开（公告）日：2019-04-24